磁控溅射塑料靶材膜的制作方法

技术特征：

1.一种磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，由下列重量份的原料制成：ABS塑料100-150份、偶联剂10-30份、相容剂10-20份、润滑剂1-5份、抗氧化剂10-20份、增塑剂20-50份和导电助剂10-20份。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，由下列重量份的原料制成：ABS塑料120份、偶联剂20份、相容剂15份、润滑剂3份、抗氧化剂15份、增塑剂30份和导电助剂15份。

3.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，所述偶联剂为硅烷偶联剂KH550。

4.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，所述相容剂为丙烯腈-丁二烯-苯乙烯接枝马来酸酐。

5.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，所述润滑剂为液体石蜡。

6.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，所述抗氧化剂为N,N-二苯基对苯胺。

7.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，所述增塑剂为邻苯二甲酸甲酯。

8.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜，其特征在于，所述导电助剂为：