技术特征：
技术总结
式(I)或(II)的双酰基氧化膦或双酰基硫化膦化合物是合适的光敏引发剂，其中R1、R2、R3、R1a、R2a和R3a相互独立地为C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基或卤素；X为O、NR5或S；或者若R4为Cl、F或Br，则X为直接键；Y为O或S；n为1或2；若n为1，则R4例如为氢、(CO)R6、(CO)OR6、(CO)NR5R6、(SO2)‑R6、C1‑C28烷基，若n＝2，则R4例如为C1‑C18亚烷基；R5例如为氢或C1‑C12烷基；R6例如为C1‑C12烷基；R7、R8和R9相互独立地例如为C1‑C4烷基；R10例如为C2‑C18亚烷基；X1为O或S；m为1、2或3；Q表示一个或两个电荷为m+的无机或有机阳离子；这些化合物可以由所要求保护的方法得到。
技术研发人员：G·穆勒;H·格鲁特玛舍尔;K·迪耶特里克
受保护的技术使用者：IGM集团公司
技术研发日：2013.12.16
技术公布日：2019.09.06