专利名称：：涂覆头的清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子体显示器的制造方法
技术领域：
：本发明涉及涂覆头的清洁方法，该方法是将胶带压触在涂覆头上来除去附着于涂覆头的排出口附近的涂覆液或涂覆浆料。
背景技术：
：近年来，对直流型以及交流型等离子体显示器的开发不断加强，且已经登陆市场，大的市场在不断形成。在等离子体显示器中形成具有分隔像素等诸功能的结构体。例如交流型等离子体显示器，在前面基板和后面基板之间所具有的放电空间内在对置的阳极和阴极之间发生等离子放电，使由被封在放电空间内的Xe-Ne混合气体等放电气体发出的147nm、172nm的波长非常短的紫外线照射向设置于放电空间内的荧光体进行显示。上述结构体称作隔壁(也称为障壁、肋条)，其是为了将放电范围控制在一定区域，在规定的单元内进行显示的同时，确保均匀的放电空间而设置的。隔壁的形状，一般而言是大致宽度为20~120(arn、高度为50~250|am的条紋状或格子状等。而荧光体，是将以荧光体粉末、有机粘结剂以及有机溶剂为主要成分的荧光体浆料(paste)涂覆于既定的隔壁之间，根据需要进行干燥、烧成，形成荧光体层。作为将荧光体浆料涂覆于既定隔壁之间的方法，有网板印刷法、打胶法(dispensermethod)(有时也称作喷嘴法)，其中材料损失少的打胶法引人注目。图3表示利用打胶法的焚光体浆料涂覆方法的模式图。所谓打胶法，是在涂覆头1的内部有存积荧光体浆料2的空间(岐管)，与基板3对置并相对移动的同时，通过连接于该空间的加压配管43导入控制了压力的压缩空气，由此从排出口5向隔壁之间排出荧光体浆料进行涂覆的涂覆方法。因为是每个基板的间歇式涂覆，所以在每次涂覆开始时再现性良好且稳定地从涂覆头排出浆料很重要。利用该打胶法涂覆荧光体浆料是一张张地进行涂覆，在对一块基板进行了涂覆后停止由排出口5排出荧光体浆料2,但是此时在排出口5附近的排出口面6(包含涂覆头的排出口的面)上容易附着残留浆料。如果在进行下次涂覆之前在排出口5附近的排出口面6上附着有残留浆料或异物、或在排出口5附近的排出口面6上有伤痕、凹坑等损伤，则有再进行涂覆时产生排出量的不均匀、浆料的排出行为混乱等涂覆容易变得不稳定的问题。结果严重影响涂覆品质，大量产生次品，故不优选。为此，在涂覆前使包含排出口5的排出口面6为足够清洁的状态是重要的。即，涂覆前清洁涂覆头是必不可少的。作为此类的涂覆头的清洁方法，现在已知的有将擦除部件压触至排出口面的同时使其滑动而擦除残留浆料或异物的方法(参见专利文献1)。该方法如图4所示，用压触部件IO将由编织物构成的擦除部件9向排出口面6压触的同时，使其在即定方向11上滑动，通过摩擦而擦除排出口5以及排出口面6上附着的残留浆料8。特别是已知为了提高擦除效果例如边用丙酮等清洁溶剂湿润超极细纤维的编织物边进行使用的擦除方法。但是，该方法不仅，在擦除效果好的超极细纤维的编织物的成本高的问题，还存在着在由擦除部件所擦除的荧光体浆料中所含的荧光体粉末等无机粉末与排出口面接触的状态下滑动导致在涂覆头表面发生图5所示的擦伤12的问题。如果在涂覆头上发生这样的伤痕，则在涂覆开始之时涂覆液的排出行为容易变得不稳定，严重影响涂覆品质，因此变得不能使用，不得不更换上没有伤痕的涂覆头。进一步，一般而言，在打胶法中的涂覆头1上，高精度地加工有1000~4000个左右、直径为50~200|um左右的微小排出口5，因而非常昂贵，由于擦伤引起的这类涂覆头的更换显著地增加了等离子体显示器的制造成本，故不优选。另外还已知一种清洁方法，并不是使用编织物进行擦除的方法，而是用刮板将附着于排出口附近的排出口面的荧光体浆料刮除的清洁方法(参见专利文献2)。然而，用刮板刮除的调整复杂，刮板磨损产生的粉尘容易造成问题。此外，存在着刮板或刮板所刮除的荧的排出口面产生擦伤的危险，因而仍不理想。此外，为了解决刮除引起的排出口的损伤问题，已知有下述技术，该技术向喷墨喷嘴的排出口面排出少量的喷墨用低粘度低浓度的涂覆液，通过涂覆液的润滑作用防止刮板的磨损以及排出口面的伤痕(参见专利文献3)。然而，在诸如荧光体浆料之类高浓度地含有固体微粒的高粘度浆料的情况下，涂覆液的润滑作用不够充分，反而使刮板的磨损以及排出口面的伤痕恶化。另一方面，为了防止这类由滑动引起的排出口面的伤痕，已知有下述技术，该技术将由多孔吸附材料构成的清洁材料通过橡胶等压触部件大致垂直地压触至喷墨喷嘴的排出口面后分开(参见专利文献4)。然而，在诸如焚卑体浆料那样高浓度地含有固体微粒的高粘度浆料的情况下，仅仅只是使多孔吸附剂压触不能充分吸收、转印，从而发生清洁不良。进一步，已知有下述技术，该技术使具有吸收溶剂的能力的胶带抵接附着有荧光体浆料的涂覆头的排出口面，从残留浆料中吸收溶剂成分从而使残留浆料固化，进而将该固化的浆料通过粘结力从被清洁材料表面剥离转印(参见专利文献5)。于是将这样的胶带安装在与专利文献4所记载的装置相同的涂覆头清洁装置上，通过与专利文献1所记载的装置相同的荧光体涂覆装置进行实际的涂覆，结果没有能够完全除去荧光体浆料，显著损害了涂覆品质。即使延长胶带的压触时间、多次重复压触次数，不仅没有能够完全解决除去不良，反而有时使其恶化。对现象进行详细分析的结果，发现了i以下情况。图6为表示采用只进行1次压触动作的清洁方法时排出口附近的残留浆料的附着状态的模式图。首先，如图6(a)所示，使用与专利文献1所记载的装置相同的现有型涂覆头清洁装置清洁排出口附近后，将荧光体浆料正常地涂覆于形成了隔壁的基板上。观察涂覆后的涂覆头排出口面6，发现如图6(b)所示残留浆料8a8c作为形状、量都不规则地变化的涂覆液渍附着其上。在进行了数次涂覆后，残留浆料的附着状态每次都不相同。接着，针对附着有上述不规则变化的涂覆液渍的喷嘴排出口面6,由与专利文献4所记栽的装置同样的平坦的橡胶压触部件将胶带压触至排出口面实施转印后，观察清洁后的喷嘴排出口面，结果如图6(c)所示确认了以下的状况。附着有少量的残留浆料8a的部分在胶带压触之时因溶剂被胶带吸收而固化的浆料薄薄地牢固附着于排出口附近的排出口面，残留有粘合状态的附着物13a。另一方面，附着有大量残留浆料8b的部分在胶带压触之时利用溶剂吸收的固化没有充分进行，还薄薄地残留有液状浆料，从而残留着湿润状态的附着物13b。即，发现了状态不同的2种转印不良的发生。附着有中等程度量的残留浆料8c的部分，没有发生转印不良，成为转印良好部分13c。如果为了进一步除去湿润状态的附着物而再次实施胶带压触，则虽然可以除去湿润状态的附着物，但是已经变为粘合状态附着物的部分，固化的浆料更加牢固地附着于喷嘴排出口面，此后即使尝试用胶带除去，也未能除去。于是研究了残留浆料的量与最适于除去该量的残留浆料的压触保持时间之间的关系，结果可知两者呈正比。即，残留浆料量少的情况下适合短的压触保持时间，残留浆料量多的情况下适合长的压触保持时间。因此，如果对应于附着有少量残留浆料的部分减短压触保持时间，则可改善该附着有少量残留浆料的部分的转印不良，但相反地在附着有中等程度量的残留浆料的部分以及附着有大量残留浆料的部分残留有湿润状态的附着物，特别是附着有大量残留浆6料的部分的转印不良加剧。需要说明的是，所谓压触保持时间是指在胶带抵接排出口附近的排出口面后直至剥离的时间。继而，如果对应于附着有大量残留浆料的部分延长压触时间，则可改善该附着有大量残留浆料的部分的转印不良，但相反地，在附着有中等程度量的残留浆料的部分以及附着有少量残留浆料的部分残留有粘合状态的附着物，特别是附着有少量残留浆料的部分的转印不良加剧。发明人等就对上述2种转印不良中的任一方都有效果的清洁条件进行了各种研究，结果得出以下结论，即，针对残留于涂覆喷嘴表面的不规则地附着的残留浆料，通过一个清洁条件或重复该条件不可能完全除去上述不规则地附着的残留浆料。因此，进一步进行研究，终于发明了本技术。专利文献l:特开2002-126599号公报专利文献2:特开2004-014393号公报专利文献3:特开2,Q06_247956号公报专利文献4:特开2004-330027号公报专利文献5:特开2001-353856号公才艮
发明内容本发明的目的在于提供一种涂覆头的清洁方法，该方法使用胶带可以有效地、不损伤涂覆头地除去附着于涂覆头的排出口以及排出口面的涂覆液，并提供一种使用该涂覆头清洁方法的浆料涂覆方法以及等离子体显示器的制造方法。解决上述课题的手段是一种涂覆头清洁方法，所述涂覆头清洁方法清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液，其特征在于，进行1次以上的孕触动作，该压触动作使胶带在大致垂直方向接近该排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥离，此后进行从该排出口微量排出涂覆液的微量排出动作，进一步进行1次以上的压触动作，该压触动作使胶带在大致垂直方向接近该排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥离。根据本发明，即使在附着有通过现有清洁技术不能除去的不规则变化的涂覆液渍的喷嘴排出口面，也可以通过使用胶带的1次压触动作或其重复，包括不能除去的残留涂覆液在内全部转印除去，不仅可以清洁干净，且由于不滑动所以不会发生损伤。根据本发明，通过在微量排出动作之前进行的1次以上的压触动作，在附着有大量的残留涂覆液的部分残留有湿润状态的薄附着物，在附着有中等程度量的残留涂覆液的部分被擦除干净，在附着有少量的残留涂覆液的部分残留有粘合状态的薄附着物。通过接下来进行的微量排出动作，形成了大小统一、且很小的涂覆液渍。此后通过进行1次以上的压触动作，除去由微量排出动作形成的涂覆液渍。此时，在微量排出动作之前的压触动作所残留的薄薄的湿润状的附着物，与涂覆液渍同时通过此后进行的压触动作被除去。此外，在微量排出动作之前的压触动作中牢固粘合的部分也由于与涂覆液渍接触而变为湿润状态，通过此后进行的压触动作而除去。在微量排出动作之前的压触动作中能够被除去的部分，虽然重新附着涂覆液渍，但可以通过此后进行的压触动作而除去。根据本发明，即使在附着有通过现有粘结转印技术不能除去的不规则变化的大面积残留涂覆液的喷嘴排出口面，也可将残留浆料从排出口附近除去干净。此外，解决上述课题的手段是一种涂覆头的清洁方法，该方法在各压触动作中，隔着上述胶带面对涂覆头排出口面地压触由弹性体构成的压触部件。此外，上述涂覆头清洁方法中上述涂覆液是荧光体浆料。此外，还涉及一种涂覆头清洁方法，在该方法中上述涂覆头是用于制造等离子体显示器的荧光体涂覆喷嘴。此外，还涉及一种浆料涂覆方法，其特征在于，使用上述涂覆头清洁方法清洁涂覆头后，从涂覆头排出涂覆液进行涂覆。进一步，还涉及一种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，使用上述浆料涂覆方法形成焚光体层。如果使用本发明的涂覆头清洁方法，则虽是一种简便的方法然而可以确实地从涂覆头排出口面除去残留涂覆液，因而可以:提供一种低成本且简便的涂覆头清洁方法。此外，由于清洁材料不在涂覆头的排出口面滑动，所以不会损伤涂覆头的排出口面，具有所期待的显著延长昂贵的涂覆头寿命的效果。'■图1为表示本发明的涂覆头清洁方法的实施方式的模式图。图2为表示本发明清洁方法中的排出口附近的残留浆料的附着状态的模式图。图3为表示利用打胶法的荧光体浆料涂覆方法的模式图。图4为表示现有的涂覆头清洁方法的模式图。图5为表示排出口附近擦伤状态的模式图。图6为只进行1次压触动作的清洁方法中的排出口附近的残留浆料的附着状态的模式图。符号说明1涂覆头2荧光体浆料3基板4加压配管5排出口6排出口面7排出的浆料8残留浆料8a少量的残留浆料8b大量的残留浆料8c中等程度量的残留浆料9由编织物构成的4察除部件10压触部件11滑动方向12擦伤13a粘合状态的附着物13b湿润状态的附着物13c转印良好部分14胶带15褶皱舒展导轨16转印的浆料17涂覆液渍具体实施例方式本发明涉及一种涂覆头清洁方法，该方法具有通过将胶带压触在该涂覆头上随后将该胶带从该涂覆头剥离从而除去附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液的步骤。本发明中，涂覆头是指构成涂覆装置的涂覆喷嘴或管头等部件，该部件具有用于排出涂覆液的排出口。此外，排出口是指将供给涂覆头的涂覆液向被涂覆物排出的开口。进一步，排出口面是指涂覆头外表面中包含排出口周边部分的表面，即开有排出口的表面。此外，排出口附近是指排出口外缘附近的区域，如果在该区域残留有涂覆液的状态下进行涂覆，则严重影响涂覆品质。排出口可以是一个也可以是多个，可以是槽状、圆形、椭圆形或多边形等任意形状，但在涂覆头是下述用于等离子体显示器的荧光体的涂覆用涂覆头的情况下，优选为在涂覆头的长度方向排列有对应于扫描方向的像素数的数量以上的个数(1000-4000个左右)的圆形排出口(直径50200jam左右)的涂覆头，从而使得在等离子体显示器中最少每种颜色迸行1次排出地涂覆1个画面所需的荧光体层。10本发明的压触动作是指将上述胶带在大致垂直方向抵接排出口面，保持一定时间的同时将涂覆液中的溶剂吸收到胶带的粘结剂中从而固化涂覆液，通过在大致垂直方向剥离将固化的涂覆液从排出口面转印到胶带上并除去。通过在相对排出口面大致垂直方向抵接，不滑动地保持，继而在大致垂直方向剥离，可以不损伤涂覆头且高效地除去附着于排出口面的涂覆液。本发明的涂覆头清洁方法优选作为涂覆头使用等离子体显示器制造用荧光体涂覆喷嘴，作为涂覆液使用荧光体浆料。以下，对于使用等离子体显示器制造用荧光体涂覆喷嘴涂覆荧光体浆料时的涂覆头清洁方法的例子进行了说明，但本发明并不局限于此。图1为表示本发明的涂覆头的清洁方法的实施方式的模式图。图1(a)模式地表示使用压触部件IO将胶带14压触向残留浆料8的动作，该残留浆科8附着于涂覆头1的排出口面6。图l(b)为垂直于图1(a)的长度方向的横截面，褶皱舒展导轨15表示在压触部件10的前后防止胶带发生皱紋、松弛的样子。图1(c)、(d)表示从图1(a)、(b)的抵接状态经过一定时间后将胶带14从排出口面6剥离的状态，模式地表示残留浆料8转印至胶带14的状态。作为在压触动作中进行控制的压触条件，有压触压力、压入量、压触保持时间、压触部件弹性模量等，但最为重要的是压触保持时间。如上所述，实验结果表明，残留浆料量与压触保持时间之间有正比例关系，残留浆料量少的情况下适合短的压触保持时间，残留浆料量多的情况下适合长的压触保持时间。本发明的涂覆头清洁方法，为了清洁涂覆基板后涂覆头的排出口附近不规则地混乱残留的浆料，首先，如图1所示，进行第1次的压触动作，该压触动作将胶带在大致垂直方向上抵接于排出口面，在涂覆液大致固化后在大致垂直方向剥离。在第1次的压触动作中所用的压触条件，可以相应于残留浆料的状况进行适当设定。通过第1次的压触动作，附着有大量的残留浆料的部分残留有湿润状态的薄薄的附着物，附着有中等程度量的残留浆料的部分被擦除干净，附着有少量的残留浆料的部分残留有粘合状态的薄薄的附着物。在接下来说明的微量排出动作之前进行的压触动作优选为1次，根据需要也可以进行2次以上。图2是表示本发明清洁方法中的排出口附近的残留浆料的附着状态的模式图。图2(a)表示在微量排出动作进行之前的排出口面的残留浆料的附着状态。通过在进行微量排出动作之前进行的1次以上的压触动作，存在着残留浆料被清除干净的转印良好部分13c、残留粘合状态的附着物13a的部分、残留湿润状态的附着物13b的部分。接下来进行从排出口微量排出涂覆液的微量排出动作。图2(b)表示微量排出动作进行后的排出口面的残留浆料的附着状态。通过微量排出动作，在排出口面6的排出口5的周边部位形成有正确且均匀地控制了大小的微小涂覆液渍17。因为原本涂覆头就通常具有将浆料高精度且均匀地排出的功能，所以没必要为了微量排出动作而另外设置特别的设备，只要设定微量排出动作即可。作为微量排出的设定条件，可以对应于浆料粘度和排出口的流动阻力适当地设定。例如，优选使用排出压3001000kPa、加压时间0.01ls等。微量排出优选形成有覆盖排出口的涂覆液渍，但并不局限于此，只要至少在压触时浆料覆盖了排出口即可。接着，通过微量排出动作之后进行的压触动作，将微量排出动作之前所残留的薄薄的湿润状态的附着物13b与涂覆液渍17—起除去。微量排出动作之前所残留的粘合状态的附着物13a通过与涂覆液渍相接触而变为湿润状态，通过微量排出动作之后进行的压触动作被容易地去除。通过微量排出动作之前所进行的压触动作被清除干净的转印良好部分13c虽然重新形成有涂覆液渍17，^旦由于微量排出动作之后进行的压触动作的压触保持时间是对应于微量排出动作所形成的涂覆液渍17的残留浆料的量而设定的，因而可以被确实地除去。这样一来，即使是附着有通过现有的粘结转印技术不能除去的大小不规则变化的残留浆料的喷嘴排出口面，也可以将残留浆料从排出口附近清除干净。此外，微量排出动作之后进行的压触动作优选为1次，根据需要也可以进行2次以上。可是，因为在粘合状态的附着物中，由微量排出动作之后进行的压触动作除去的只是排出口附近的附着物，该附着物因微量排出动作所形成的涂覆液渍而变为湿润状态，所以有时在脱离排出口的位置上的粘合状态的附着物的一部分原样残留。然而即使在这种情况下，也由于可以适当调整涂覆液渍17的大小从而充分清洁排出口附近使其不影响涂覆，因而没有问题。涂覆液渍的大小只要根据涂覆头的排出口直径、排出口间的距离即排出口间距适当地设定即可，例如为PDP荧光体用喷嘴时优选的排出口直径为50200m、排出口间距为1001000|am,作为这样的涂覆液渍17的大小，优选距离排出口外缘10nm以上1000jum以下。如果小于10Mm,则排出口附近的清洁不充分，再开始排出时容易发生排出量不均、所排出的浆料的形状易变乱、涂覆易变得不稳定。如果大于1000iam,则由微量排出动作之后进行的压触动作难于均匀地除去。涂覆液渍17的大小更为优选距离排出口外缘50iam以上500Mm以下。进一步，涂覆液渍的大小变化小时较为理想，优选变化在liam以上100Mm以下。为了获得小于1iam的变化，需要非常复杂且昂贵的排出量控制手段，故不优选。如果变化大于100jum，则通过微量排出动作之后进行的压触动作难于均匀地除去。以下，对于影响压触动作中采用的压触条件的设定的各要素进行说明，但压触条件的设定并不局限于此，也可适当地设定压触次数。作为压触保持时间，优选为0.1秒10秒。如果短于0.1秒，则因为浆料未能充分固化，所以容易发生湿润转印不良。如果长于10秒，则因为浆料过分固化，所以容易发生粘合转印不良。更优选稳定0.5秒~5秒。为了进一步确实地压触，优选将压触部件从胶带的背面面对涂覆头的排出口面在大致垂直方向压触，抵接胶带，如果在压触部件的抵接面设置弹性体，则更为优选。使用压触部件的情况下，例如，如图l所示，使压触部件10隔着胶带14,相对于排出口面6在大致垂直的方向上移动，将胶带的粘结剂层向涂覆头1的排出口面6压触，由此进行压触，使附着在排出口5附近的排出口面6上的残留浆料8附着于粘结剂层，然后将胶带14从排出口面6剥离，由此可以除去附着在排出口面6上的残留浆料8。在将胶带14从排出口面6剥离时，将压触部件IO剥离，使其在相对于排出口面6大致垂直方向远离。对胶带14赋予略高的张力等，快速拉离时，效果明显。优选压触压力(接触压力)为0.011MPa。如果接触压力小于O.OlMPa,则浆料的均匀转印变得不充分。此外，如果大于lMPa，则对接触压着机构的负荷大，故不优选，而且涂覆头也容易发生损坏，故不优选。更优选为0.050.3MPa。4妾触压力的测定例如可以4吏用富士胶巻公司制作的压敏片材(商品名PRESCALE)等。此外，可以将接触压力传感器组合在压触部件中进行设置，将接触压力的计量结果反馈至接触压着动作的控制器，由此得到均匀的接触压力。上述接触压着特别是在涂覆头对弹性体压触部件的压入量为0mm5mm的情况下可以适宜地实现。如果压入量不足0,则易导致不发生接触压着的状态。大于5mm时，因为涂覆头易发生损坏，故不优选。作为构成压触部件的弹性体，可以使用各种材料，但最优选橡胶。可以使用各种橡胶，优选即使重复抵接也不会有残留变形等损坏、恢复快的橡胶。作为这类橡胶的一个例子例如可以举出硅橡胶或天然橡胶等。此外，优选即使附着有浆料也难以发生劣化的橡胶材质。在不能选择浆料与橡胶材质的上述优选组合的情况下，可以在橡胶表面设置保护层等。作为橡胶的石更度，优选为A20A60度(JISK6253(2006))。当小于A20度时接触压力变得有点不足，易发生湿润转印不良。此外，当大于A60度时弹性受损，不仅得不到均匀的接触压力，且涂覆头容易发生损坏，故不优选。更优选为A30A40度。压触部件的抵接面的橡胶的硬度变化大时得不《'J均勻的接触压力，因而硬度变化小的材料较好，优选为20度以下。如果为IO度以下则更为优选。在涂覆头中排出孔呈列状设置的情况下，压触部件的抵接面的直线度为lmm以下时易得到均匀的接触压力，因而优选。0.5mm以下则更为优选。此外，压触部件的4氏接面的表面粗糙度为0.5mm以下时易得到均匀的接触压力，因而优选。O.lmm以下则更为优选。此外，作为橡胶的厚度优选为130mm，更优选为515mm。小于lmm的情况下弹性受损，得不到适当的接触压力。大于30mm的情况下，不需要的材料变多，装置变大，因而不经济。当压触部件的抵接面的横截面形状为凸型时，能够确实地形成特别重要的排出口部的接触压力，因而优选。如果是平面或凹型则容易发生接触压力不充分的部分，故不优选。特别是更优选抵接面的形状为柱面的一部分。这种情况下，在呈一列排列的排出口附近开始产生接触压力，继而向排出口的周边部位增大，所以浆料的扩展均匀，因而优选。此外，抵接面的形状为柱面的一部分时，抵接面的加工变得容易，结果直线度提高，因此优选。优选柱面的直径为10~1000mm。如果小于10mm，则排出口的位置容易偏离圆筒的顶点，不能向排出口施加适当的压力，故不优选。大于1000mm时凸形的效果减弱，容易发生接触压力不足的部分，故不优选。柱面的直径更优选为20~100mm。如果^_圆筒顶点对准排出口位置，则接触辟力容易均勾，因而更优选。圆筒的顶点与排出口位置间的偏差小较理想，优选偏差为5mm以下，更为优选2mm以下。15对于本发明的压触动作的动作速度，当抵接速度为l~100mm/s、剥离速度为10~1000mm/s时可最有效地转印。可适用于本发明的胶带优选其与浆料接触的面的表面张力大于浆料或浆料溶剂的表面张力。如果胶带的表面张力小于浆料的表面张力，则不能将浆料稳定地转印。可适用于本发明的胶带对应于广泛的涂覆液种类或附着量，所以可以适当选择进行使用。胶带优选为由基体材料和粘结剂层构成的结构，是粘结剂层由溶剂吸收性粘结剂构成的胶带。这是由于，如果粘结剂可以吸收浆料或浆料溶剂则浆料的流动性降低(固化)，很容易进行剥离转印，因而优选。为此，粘结材料的溶解度参数优选为接近于浆料或浆料溶剂的溶解度参数的值。上述胶带的溶剂吸收能力优选每11112面积为10mL以上，更优选为20mL以上。当溶剂吸收能力低于每lm2面积10mL时，存在容易发生溶剂吸收残留的倾向。此外，胶带的溶剂吸收能力为在构成涂覆液的溶剂中浸渍1分钟因吸收而增加的量的测定值。上述胶带的溶剂吸收速度优选每1012面积为lmL/秒以上，更优选为3mL/秒以上。如果溶剂吸收速度低于每ln^面积lmL/秒，则浆料溶剂吸收太过费时，有装置的生产节拍拉长的倾向。需要说明的是，胶带的溶剂吸收速度为将胶带浸渍在构成涂覆液的溶剂中，5秒钟内吸收溶剂而增加的那部分重量换算为每单位面积、每单位时间的测定^直。进一步，上述胶带的粘结力每20mm宽度优选为0.54.0N,更优选为2.0~3.0N。如果每20mm宽度的粘结力不足0.5N,则有不能彻底除去在排出口面残留的浆料中的溶剂被吸收后而残留的固化物的倾向，而如果超过4.0N,则胶带剥离费时，且有粘结剂层从胶带的基体材料上剥离的倾向。此外，该胶带的粘结力是如下测定的值通过以JISZ0237(2000)为依据的方法，与厚度为25nm的PET膜贴合，在23。C下以300mm/min的拉伸速度向180°方向剥离进行测定。即便在吸收溶剂后也有粘结力这一点很重要。此外，上述胶带的粘结剂层的厚度优选为0.0050.3mm,更优选为0,01~0.15mm。如果粘结剂层的厚度不足0.005mm,则有不能完全吸收浆料中的溶剂的倾向，超过0.3mm时胶带的厚度变厚，缠绕长度变短，存在交换变频繁的倾向。作为本发明所使用的胶带，为了不损伤涂覆头地压触，优选具有弹性、粘结剂面平滑的胶带。作为这类胶带，优选具有由发泡粘结剂构成的粘结剂层的胶带。所谓发泡粘结剂是指粘结剂层具有气泡(单元)或微细空孔的粘结剂，其具有弹性。例如，可以使用特开2000-169803号公报中所公开的物质。该粘结剂作为主成分使用丙烯酸类树脂或橡胶类树脂等。所述丙烯酸类树脂是以丙烯酸酯为主要单体成分的共聚物，更具体而言，在赋予粘结性的玻璃化温度低的主单体中加入用于赋予粘结性、凝聚力的共聚单体，进而与用于改善交联性、粘结性的含官能团的单体进行聚合而生成的。作为主单体，例如，可举出丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2乙基己酯、丙烯酸异辛酯、乙酸异壬酯等。作为共聚单体，例如可举出乙酸乙烯基酯、丙烯腈、丙烯酰胺、苯乙烯、曱基丙烯酸甲酯、丙烯酸曱酯等。作为含有官能团的单体，可以举出甲基丙烯酸、丙烯酸、衣康酸等含有羧基的单体；甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯等含有羟基的单体；曱基丙烯酸二曱氨基乙酯等含有氨基的单体；丙烯酰胺、羟曱基丙烯酰胺等含有酰胺基的单体；甲基丙烯酸缩水甘油酯等含有环氧基的单体；马来酸酐等含有酸酐基的单体等。作为上述橡胶类树脂，可列举出以弹性体为主要成分，向其中添加粘结性赋予剂树脂、软化剂、抗老化剂、填充剂等所得的物质。作为该弹性体，为玻璃化温度低、直至高温橡胶状平坦区域广的聚合物，例如，可以举出天然橡胶、异戊二烯橡胶、丁苯橡胶、苯乙烯.丁二烯嵌段共聚物、苯乙烯异戊二烯嵌段共聚物、异丁橡胶、聚异丁烯、聚异丁基乙烯基醚、氯丁二烯橡胶、丁腈橡胶、接枝橡胶等合成橡胶或热塑性弹性体，但并不限于此。作为粘结性赋予剂树脂、软化剂、抗老化剂、填充剂没有特别限定，可以使用^S知.常用物质。例如，作为粘结性赋予剂初于脂，可以举出松香类树脂、薛烯类树脂、石油树脂(脂肪族类石油树脂、芳香族类石油树脂、氢化石油树脂)、香豆酮茚树脂、苯乙烯类树脂等。其中，作为橡胶类树脂，特别优选以苯乙烯异戊二烯嵌段共聚物或天然橡胶类弹性体为主要成分。用于本发明的涂覆头清洁方法的装置优选具有下述设备将胶带由辊状开巻、间歇式地供给该胶带的开巻设备；将清洁后的胶带巻绕成辊状的巻绕设备；控制该胶带张力的设备；控制该胶带的进给量的设备；检测胶带残余量的设备。作为胶带的张力没有特别的限定，但优选为10~1000N/m。如果小于10N/m,则胶带材料的输送变得不稳定，易产生皱褶，压触易变得不均匀。如果大于1000N/m,则用于施加高张力的驱动设备大型化，装置负荷增大，易坏，故不优选。更优选为30~200N/m。还优选设置公知的各种皱褶舒展设备、防带电设备。特别是如果带电量为1000kV以下，则变得易防止放电，也容易防止灰尘吸附，因而优选。更优选为100kV以下。此外，在发生涂覆不良等情况下，存在因浆料排出混乱导致在排出口面大量附着浆料的情形。这种情况下，有必要用胶带反复进行数次清洁，在需要花费长时间的同时还存在用胶带压触时浆料广泛扩展而过分污染涂覆头的危险。对于该大量附着的浆料，从生产效率方面考虑优选具有采用现有技术的单丝纤度为O.ldtex以下的超极细纤维的编织物的排出口面擦除清洁机构。通过使用单丝纤度为O.ldtex以下的超极细纤维的编织物，即使在浆料中含有数pm左右的微小无机粉末的情况下，也可以无擦除残留地清洁。这种情况下，,,优选进一步向编织物排出清洁溶液，使浆料易被除去。即使如上所述组合现有技术的情况下，与只是通过编织物进行擦除的涂覆头清洁方法相比，由于可以大幅降低擦除时的摩擦量，所以可以大幅度地抑制涂覆头的损伤。本发明特别优选适用于浆料粘度为10~100Pa.S的情况。如果小于10Pa.S，存在即使是未涂覆时浆料也易从涂覆头淌下的倾向，根据附着量，容易发生转印残留，故不优选。此外，大于100PaS时，排出压力变得过高，不仅存在涂覆速度难以提高的倾向，而且根据附着量，还容易发生转印残留，故不优选。更优选为2070Pa'S。需要说明的是，浆料的粘度是采用布鲁克菲尔德型粘度计，在测定温度25。C、剪切速度为2.4s"条件下的测定值。此外，作为涂覆液，可以对应于用于制造等离子体显示器的荧光体浆料、反射层用浆料、电介质浆料、电极浆料等涂覆材料进行选择。作为一个例子，所谓荧光体浆料为含有荧光体粉末、结合剂、添加剂、溶剂等的物质。本发明与公知的带电涂覆组合时更有效。所谓带电涂覆，是使涂覆头或浆料或基板中的任一方带电，通过静电力将浆料吸到基板上的涂覆方法。在带电涂覆中，由于存在涂覆结束后浆料对喷嘴排出面的附着减少的倾向，所以如果与本发明组合则可缩短浆料的转印时间，从生产效率上来说非常优选。本发明的涂覆头如果是等离子体显示器制造用荧光体涂覆喷嘴，则能够更好地清洁。如果将本发明的涂覆头清洁方法适用于在每一面进行涂覆开始和结束的枚叶式涂覆，则即便在通过现有技术将会污染排出口面、发生擦除损伤而不能进行均匀涂覆的情况下，也可不损伤排出口面、无残留浆料地进行清洁，因而可以得到非常均匀的高品质涂覆面，因而优选。特别是如果用于等离子体显示器制造用荧光体浆料的涂覆，则效果明显，因而优选。实施例以下针对适用了本发明的等离子体显示器用荧光体涂覆头的清洁实施例进行说明，但本发明并不局限于所述实施例。所使用的荧光体浆料由以下方法制成。以无机荧光体粉末的重量比为19,分散在重量比为20的乙基纤维素的16重量％萜品醇/苯曱醇(3/l)溶液中，混合得到荧光体浆料。所使用的荧光体粉末，红色发光的为(Y，Gd)B03:Eu,绿色发光的为ZnSi04:Mn,蓝色发光的为BaMgAl1()017:Eu。这些各色荧光体粉末的累积平均粒径以及最大粒径，R荧光体为2.7)nm,27|im;B荧光体为3.7pm，27|_im;G荧光体为3.6fim，25|im。此外，各自的粘度，R荧光体为52Pa's;B荧光体为39Pa's;G荧光体为40Pas。涂覆该荧光体的涂覆头使用下述涂覆头，所述涂覆头在该涂覆头的长度方向上排列有1920个孔径为100pm的排出口，其内部通过空气施加200700kPa的压力，使其相对于基板的行进速度在20200mm/s的范围内变化，排出荧光体，由此将荧光体浆料填充于既定的隔壁之间。用于清洁附着于该涂覆头的排出口以及排出口面的荧光体浆料的胶带，如下所示。胶带日东电工林式会社制，ELEP-CLEANER(注册商标)此外，纤维编织物如下所示。超极细纤维编织物东丽抹式会社制，TORAYSEE(注册商标)作为湿润编织物的清洁溶剂使用丙酮。评价如下进行。如图6c所示如果残留浆料出现在排出孔的边缘，则有妨碍正常涂覆的倾向。于是观察一连串的清洁动作后的排出孔面，计算残留浆料的一部分以出现在其边缘的形式附着的排出孔数相对于总排出口的比例，10y。以上为X,10%以下为0,1%以下为口。实施例1向上述涂覆头中填充如上所述制作的荧光体浆料，使用该涂覆头将荧光体浆料涂覆于既定的隔壁之间。其后，使用做成辊状的胶带，按照图1所示方法清洁在排出口以及排出口面附着有荧光体浆料的涂覆头。使用与涂覆头的排出口面对置地设置的橡胶辊(直径60mm，肖氏A橡胶硬度为30度，橡胶厚度为10mm)作为压触部件，实施第1次压触动作。使胶带的粘结剂层接触涂覆头的排出口以及排出口面，以0.2MPa的压力将胶带压触涂覆头并保持4秒后，将压触部件以50mm/s从排出口面向着背离的方向移动的同时，向胶带施加lkg/m的引力将粘结面从排出口面剥离。在排出口的大约50%的部分残留有薄薄的浆料膜。在实施第2次压触之前，实施微量排出动作，该动作由排出口微量排出涂覆液，在各排出口附近附着直径约为300jim的涂覆液渍。接着输送20mm胶带，将新的粘结面移动至转印位置，实施第2次压触。再度由压触部件以0.2MPa的压力将胶带压触在涂覆头上并保持2秒后，将压触部件以50mm/s从排出口面向着背离的方向移动的同时，向胶带施加lkg/m的引力将粘结面从排出口面剥离。附着有残留浆料的排出口减少到约0.5%。连续实施了2000次清洁动作后未发生伤痕。实施例2,压触部件使用直径为200mm的橡胶辊。除此之外，在与实施例l相同的条件下实施。附着有残留浆料的排出口减少到约5%。连续实施2000次擦除后未发生纟察伤。实施例3压触部件使用肖氏A橡胶硬度为60度的橡胶辊。除此之外，在与实施例1相同的条件下实施。附着有残留浆料的排出口减少到约8%。连续实施2000次擦除后未发生擦伤。比4交例1作为带状擦除部件使用纤维编织物，实施专利文献1所记载的滑动擦除。虽然附着有残留浆料的排出口约为0.2%,但连续实施2000次擦除后发生了严重的擦伤，变得不可使用。比寿交例2在4秒压触后，不从排出口微量排出涂覆液，实施2秒压触。除此之外，在与实施例1相同的条件下实施。附着有残留浆料的排出口达到了约20%,不可使用。_<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>产业上的可利用性适用于等离子体显示器或液晶显示器等薄型显示器的制造方法。本发明适宜用于高浓度地含有固体粒子的高粘度浆料，但也可以适用于喷墨等低粘度排出液。权利要求1.一种涂覆头清洁方法，是清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液的涂覆头清洁方法，其特征在于，进行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向接近所述排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥离，之后进行从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动作，进一步施行1次以上压触动作，所述压触动作使胶带在大致垂直方向接近所述排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥离。2.根据权利要求1所述的涂覆头清洁方法，在各压触动作中，隔着所述胶带面对涂覆头排出口面地压触由弹性体构成的压触部件。3.根据权利要求1或2所述的涂覆头清洁方法，其中，所述涂覆液是荧光体浆料。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的涂覆头清洁方法，其中，所述涂覆头是用于制造等离子体显示器的荧光体涂覆喷嘴。5.—种浆料涂覆方法，其特征在于，使用权利要求1至4中的任一项所述的涂覆头清洁方法清洁涂覆头后，从涂覆头排出涂覆液进行涂覆。6.—种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，使用权利要求5所述的浆料涂覆方法形成荧光体层。全文摘要本发明提供一种涂覆头清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子显示器的制造方法。其中，所述涂覆头清洁方法，清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液，其特征在于，进行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向抵接所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离，此后，进行从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动作，进一步施行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向接触所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离。根据本发明，提供一种使用胶带材料可以有效地、不损伤涂覆头地将附着于涂覆头的排出口以及排出口面的浆料除去的涂覆头清洁方法。文档编号B05D3/12GK101678389SQ200880017578公开日2010年3月24日申请日期2008年5月29日优先权日2007年5月31日发明者植田征典,清水泰树,长井启史申请人:东丽株式会社