有机薄膜涂覆设备的制作方法

文档序号:3792162阅读:186来源:国知局
有机薄膜涂覆设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种有机薄膜涂覆设备,包括涂覆腔和位于涂覆腔后道的固化腔,涂覆腔内设有用于吸附薄膜液并使薄膜液涂覆于硅片上的滚轮,所述滚轮上设有孔径大小不一的孔;所述涂覆腔内还设有滚轮传动速度控制模块;所述固化腔内设有用于控制固化腔内温度的加热装置。本实用新型提供的有机薄膜涂覆设备,其能在硅片上制备均匀且厚度可控的薄膜并使之固化,可使多晶硅片制绒突破现有结构,形成均匀的绒面,进而进一步提升电池片的效率。本设备成本低廉,结构简单,稳定性好,且与现行的半导体工艺和太阳能电池工艺兼容。
【专利说明】有机薄膜涂覆设备
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及有机薄膜涂覆设备。
【背景技术】
[0002]有机薄膜用于工业制造中的许多方面,例如在半导体中用于刻蚀特殊图形的模版,在太阳电池中用于制作选择性发射极等,尚无应用于太阳能电池制绒方面。
[0003]在多晶硅太阳电池制造过程中,硅片表面制绒是关键的环节。制绒的效果直接影响了最终电池片的转换效率和成品率。目前多晶硅多用酸性溶液来制绒。但是常规酸制绒会导致绒面不均匀、反射率高等问题。所以多晶硅片制绒还需突破现有的结构,进而创造更低的反射率和更均匀的绒面。如果在多晶硅片上涂覆有机薄膜并固化,可使多晶硅片制绒的方法突破现有思维,形成新型结构,具有更低的反射率和均匀的绒面,进而进一步提升电池片的效率。
[0004]所以,有机薄膜对产品的性能有着至关重要的影响,同时要求容易涂覆固化及去除。
实用新型内容
[0005]本实用新型的目的在于提供一种有机薄膜涂覆设备,其能在硅片上涂覆均匀且厚度可控的有机薄膜。
[0006]为实现上述目的,本实用新型的技术方案是设计一种有机薄膜涂覆设备,包括涂覆腔和位于涂覆腔后道的固化腔,涂覆腔内设有用于均匀吸附薄膜液并使薄膜液均匀涂覆于硅片上的滚轮,所述滚轮上设有孔径大小不一的孔;所述涂覆腔内还设有用于控制涂覆薄膜厚度的滚轮传动速度控制模块;所述固化腔内设有用于控制固化腔内温度的加热装置。
[0007]优选的,所述涂覆腔还连接有用于盛放有机溶液的存储腔和用于输送有机溶液的循环泵,所述涂覆腔、循环泵和存储腔通过管道连接。
[0008]优选的,所述固化腔内还设有用于实时监控硅片温度的测温装置。
[0009]优选的,所述加热装置为电阻加热装置或光照加热装置。
[0010]优选的,所述电阻加热装置配有加热功率控制模块;所述光照加热装置配有辐照强度控制模块。
[0011]优选的,所述有机薄膜涂覆设备还包括位于涂覆腔前道的上料台和位于固化腔后道的下料台,用于配合涂覆薄膜、固化完成流水线生产。
[0012]本实用新型的优点和有益效果在于:提供一种有机薄膜涂覆设备,其能在硅片上制备均匀且厚度可控的薄膜并使之固化,可使多晶硅片制绒突破现有结构,形成均匀的绒面,进而进一步提升电池片的效率。本设备成本低廉,结构简单,稳定性好,且与现行的半导体工艺和太阳能电池工艺兼容。
[0013]本设备主要包括涂覆腔和固化腔。涂覆腔设有特殊性能的滚轮,可使有机溶液均匀吸附于滚轮上,再通过滚轮的传动使该溶液均匀涂覆于硅片上,可实现单面或双面涂覆。
[0014]均匀的优点体现在:本设备包含的涂覆腔设有不同材料且可人工替换的滚轮,滚轮根据需涂覆不同材料的薄膜需求:如亲水性或亲油性等特点被人工选择,使薄膜液均匀吸附于滚轮上,再通过滚轮的传动使薄膜胶液均匀涂覆于硅片上。
[0015]厚度可控性体现在:滚轮上设有孔径大小不一的孔,连带涂覆腔设有的滚轮传动速度控制模块,可以控制涂覆薄膜厚度。
[0016]利用该设备涂覆固化的薄膜用于太阳电池中,利用有机薄膜的孔洞结构对硅片表面气泡进行过滤,形成虫洞型结构,降低太阳光的表面反射率,从而进一步提升电池片效率。
【专利附图】

【附图说明】
[0017]图1是本实用新型的示意图。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图和实施例,对本实用新型的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
[0019]本实用新型具体实施的技术方案是:
[0020]如图1所示,一种有机薄膜涂覆设备,包括涂覆腔2和位于涂覆腔2后道的固化腔3,涂覆腔2内设有用于均匀吸附薄膜液并使薄膜液均匀涂覆于硅片上的滚轮5,所述滚轮5上设有孔径大小不一的孔;所述涂覆腔2内还设有用于控制涂覆薄膜厚度的滚轮传动速度控制模块;所述固化腔3内设有用于控制固化腔3内温度的加热装置。
[0021]所述涂覆腔2还连接有用于盛放有机溶液的存储腔7和用于输送有机溶液的循环泵6,所述涂覆腔2、循环泵6和存储腔7通过管道连接。
[0022]所述固化腔3内还设有用于实时监控硅片温度的测温装置。
[0023]所述加热装置为电阻加热装置或光照加热装置。
[0024]所述电阻加热装置配有加热功率控制模块;所述光照加热装置配有辐照强度控制模块。
[0025]所述有机薄膜涂覆设备还包括位于涂覆腔2前道的上料台I和位于固化腔3后道的下料台4,用于配合涂覆薄膜、固化完成流水线生产。
[0026]所述有机薄膜涂覆设备还包括用于输送硅片的输送辊8。
[0027]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本【技术领域】的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.有机薄膜涂覆设备,其特征在于,包括涂覆腔和位于涂覆腔后道的固化腔,涂覆腔内设有用于吸附薄膜液并使薄膜液涂覆于硅片上的滚轮,所述滚轮上设有孔径大小不一的孔;所述涂覆腔内还设有滚轮传动速度控制模块;所述固化腔内设有用于控制固化腔内温度的加热装置。
2.根据权利要求1所述的有机薄膜涂覆设备,其特征在于,所述涂覆腔还连接有用于盛放有机溶液的存储腔和用于输送有机溶液的循环泵,所述涂覆腔、循环泵和存储腔通过管道连接。
3.根据权利要求1或2所述的有机薄膜涂覆设备,其特征在于,所述固化腔内还设有用于实时监控硅片温度的测温装置。
4.根据权利要求3所述的有机薄膜涂覆设备,其特征在于,所述加热装置为电阻加热装置或光照加热装置。
5.根据权利要求4所述的有机薄膜涂覆设备,其特征在于,所述电阻加热装置配有加热功率控制模块;所述光照加热装置配有辐照强度控制模块。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的有机薄膜涂覆设备,其特征在于,所述有机薄膜涂覆设备还包括位于涂覆腔前道的上料台和位于固化腔后道的下料台。
【文档编号】B05C9/04GK203508294SQ201320595856
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年9月26日 优先权日:2013年9月26日
【发明者】章圆圆, 区升举, 张丽娟, 陈培良 申请人:常州时创能源科技有限公司
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