一种高性能存储器化学抛光物的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，纳米碳酸钙9-10份，二氯甲烷7-13份，苯甲醇5-10份，正戊烷1-9份，三氯甲烷1-3份，多聚甲醛2-3份，乙醛1-3份，乙二醛3-9份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份，甲基三乙氧基硅烷14-19份，钛酸酯偶联剂1-2份，纳米银0.5份。本发明的有益效果是：制备简单，抛光效果明显，性能稳定。
【专利说明】一种高性能存储器化学抛光物
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种高性能存储器化学抛光物。
【背景技术】
[0002]对增加内存或硬盘容量的需求以及内存或硬盘小型化的趋势(因为计算机设备中需要更小磁盘驱动器)持续不断，强调内存或硬盘片制造方法的重要性，包括这类盘片的平坦化或抛光，以确保性能最佳。尽管存在几种用于与半导体装置制造相关的化学机械抛光(CMP)组合物及方法，但是几乎没有常规的CMP方法或商购的CMP组合物非常适于内存或硬盘片的平坦化或抛光。
【发明内容】
[0003]本发明所要解决的技术问题是提供一种高性能存储器化学抛光物。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是:
一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质:表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，纳米碳酸钙9-10份，二氯甲烷7-13份，苯甲醇5_10份，正戊烷
1-9份，三氯甲烷1-3份，多聚甲醛 2-3份，乙醛1-3份，乙二醛3-9份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份，甲基三乙氧基硅烷14-19份，钛酸酯偶联剂1-2份，纳米银0.5份。
[0005]本发明的有益效果是:制备简单，抛光效果明显，性能稳定。
【具体实施方式】
[0006]实施例1
一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质:表面活性剂
1-3份，有机添加剂2-5份，纳米碳酸钙9-10份，二氯甲烷7-13份，苯甲醇5_10份，正戊烷
1-9份，三氯甲烷1-3份，多聚甲醛2-3份，乙醛1-3份，乙二醛3-9份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份，甲基三乙氧基硅烷14-19份，钛酸酯偶联剂1-2份，纳米银0.5份。
【权利要求】
1.一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质:表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，纳米碳酸钙9-10份，二氯甲烷7-13份，苯甲醇5_10份，正戊烷1-9份，三氯甲烷1-3份，多聚甲醛2-3份，乙醛1-3份，乙二醛3-9份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份 ，甲基三乙氧基硅烷14-19份，钛酸酯偶联剂1-2份，纳米银0.5份。
【文档编号】C09G1/02GK104073172SQ201410296799
【公开日】2014年10月1日 申请日期:2014年6月28日 优先权日:2014年6月28日
【发明者】范向奎 申请人:青岛宝泰新能源科技有限公司