一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法与流程

文档序号:12406014阅读:340来源:国知局

本发明属于硬质材料抛光技术领域,具体涉及一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法。



背景技术:

蓝宝石,主要成分为Al2O3,是一种多功能氧化物晶体,具有优良的光学性能、物理性能和化学性能。与其它天然宝石相比,蓝宝石具有硬度高、熔点高、透光性好、热传导性和电绝缘性优异、耐磨损性能好、抗腐蚀性能稳定等特性,因此被广泛应用于光电子、通讯、国防等领域。在光电子领域中,蓝宝石因为其良好的高温稳定性和力学性能,常作为LED的衬底材料,而蓝宝石材料表面质量对LED器件性能和质量有着非常重要的影响,目前的蓝宝石材料要求超光滑、无缺陷,且粗糙度小于0.2nm。

目前,普遍采用化学机械抛光(CMP)技术对蓝宝石器件表面进行精密抛光,其中磨粒是化学机械抛光液中的一个主要成分,广泛采用的研磨粒是氧化硅、氧化铝等无机磨粒。而其中氧化硅溶胶磨粒对蓝宝石的抛光效果较好,硅溶胶中的水和氧化硅能在蓝宝石表面形成硅酸盐,在机械力的帮助下将坚硬的蓝宝石进行切削、抛光。而在化学机械抛光过程中普遍存在的问题是:由于抛光速率低而导致生产效率低,由于表面粗糙度高而影响产品质量等问题,亟待解决。



技术实现要素:

针对上述问题,本发明提供一种蓝宝石抛光用硅溶胶的制备方法,所得硅溶胶粒径大,能显著增大其对蓝宝石的研磨作用,提高抛光效率,并且粘度低、不易团聚,降低蓝宝石表面损伤和粗糙度,保证其表面质量。

为解决以上技术问题,本发明通过以下技术方案实现:

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3~4wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到21~25重量份的水中,在64~68℃活化20~30min,制得活化硅粉;

(3)将0.5~1.0重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到40~50℃,保持30~40min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加入3~5重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至60~70℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,同时滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应8~12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

对于上述蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,步骤(4)中加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液的同时,还进行超声波处理。

对于上述蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,所述超声波的频率为40~60KHz。

对于上述蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,步骤(4)中所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液同时以1~2h加入完毕。

本发明具有以下积极有益效果:

本发明方法可制备得到大粒径低粘度硅溶胶,粒径方便控制,稳定性好,制作抛光液后抛光效率高,并能保证蓝宝石的表面质量。

(1)本发明所得硅溶胶粒径为160~180nm,能显著增大其对蓝宝石的研磨作用,提高抛光效率;并且实验证明,二苯并呋喃的加入量与得到的硅溶胶粒径具有明显的相关性,可用于控制粒径选择。

(2)本发明所得硅溶胶稳定性较好,有效避免了市场上大粒径硅溶胶稳定性差、溶胶易沉降的缺陷,并利用少量丙三醇,杜绝了凝胶现象,延长保存时间,并可促进硅溶胶溶解于抛光液中。

(3)本发明所得硅溶胶粘度低(常温下3.2~3.6CPS)、不易团聚,降低蓝宝石表面损伤和粗糙度,保证产品质量。

具体实施方式

以下的实施例便于更好地理解本发明,但并不限定本发明。下述实施例中的试验方法,如无特殊说明,均为常规方法。下述实施例中所用的试验材料,如无特殊说明,均为自常规生化试剂商店购买得到的。

实施例1

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到24重量份的水中,在65℃活化30min,制得活化硅粉;

(3)将0.8重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到45℃,保持40min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加入4重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至70℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,同时辅以50KHz超声波处理,并滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

实施例2

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到24重量份的水中,在65℃活化30min,制得活化硅粉;

(3)将0.8重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到45℃,保持40min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加入4重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至70℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,并滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

实施例3

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成4wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到21重量份的水中,在68℃活化20min,制得活化硅粉;

(3)将1重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到40℃,保持30min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加入5重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至60℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,同时滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应8h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

实施例4

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到25重量份的水中,在64℃活化25min,制得活化硅粉;

(3)将0.5重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到50℃,保持30min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加入3重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至60℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,同时滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

对比例1

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到24重量份的水中,在65℃活化30min,制得活化硅粉;

(3)在20重量份的水中,加入4重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至70℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉,并滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(4)加料完成后,继续反应12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

对比例2

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到24重量份的水中,在65℃活化30min,制得活化硅粉;

(3)将0.8重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到45℃,保持40min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加热至70℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,同时辅以50KHz超声波处理,并滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

对比例3

一种蓝宝石抛光用大粒径低粘度硅溶胶的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取一定量的氢氧化钠加入到水中,制成3wt%的氢氧化钠溶液;

(2)将10重量份的硅粉加入到24重量份的水中,在65℃活化30min,制得活化硅粉;

(3)将0.3重量份的二苯并呋喃加入到15重量份的乙醇中,搅拌混合均匀,并加热到45℃,保持40min,得到二苯并呋喃溶液;

(4)在20重量份的水中,加入4重量份的丙三醇,搅拌混合均匀,并加热至70℃,然后,缓慢加入所述活化硅粉和所述二苯并呋喃溶液,同时辅以50KHz超声波处理,并滴加所述氢氧化钠溶液,所述氢氧化钠溶液的滴加速度和滴加量以维持反应体系pH为9~10为准;

(5)加料完成后,继续反应12h,自然冷却后减压抽滤,即得大粒径低粘度硅溶胶。

将以上所有实施方式所得硅溶胶采用透视电镜、粘度计进行测量,并按照CN103450812的实施例1配制抛光液进行抛光对比,具体效果见表1(均为中间值或平均值)。

表1实施方式效果对比

虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施方案对本发明作了详尽的描述,但在本发明基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本发明要求保护的范围。

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