技术特征：
技术总结
本发明公开了一种高光墨水及其制备方法，所述的高光墨水，按照重量份计算，包括：硅灰石10‑20份，低温高硼熔块15‑25份，硅酸锆0.5‑5份，分散剂1‑7份，酯类化合物5‑15份，溶剂38‑60份；本发明的高光墨水能够改善现有技术中的高光墨水喷涂上坯料烧制完成后产生的下陷问题，喷墨打印在坯体上烧成后烧成颜色与原来的颜色相比色差少，高光效果明显，适用的烧成范围为1150‑1220℃，比市面上烧成范围一般只有10‑20℃的高光墨水的烧成范围大很多，适用于更多不同烧成范围的陶瓷制品的使用。
技术研发人员：钟华龙;黄道伟;赵胜
受保护的技术使用者：佛山市华力达材料科技有限公司
技术研发日：2017.07.11
技术公布日：2017.09.08