一种新型坩埚定位底座的制作方法
【专利摘要】一种新型坩埚定位底座，上述定位底座与测试TFT玻璃高温粘度用的高温炉配套使用，结构中包括底座本体，关键在于：所述的底座本体上端面设置有圆形凹槽，在圆形凹槽槽底设置有一组以圆形凹槽中心同心的定位凸起环。本实用新型的有益效果是：在底座本体上端面设置圆形凹槽及其在圆形凹槽槽底设置一组同心的定位凸起换，可以很方便快捷的把铂金坩埚定位到高温炉炉膛的中心，避免了反复放置和对炉膛内壁的划伤。
【专利说明】一种新型坩埚定位底座
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种放置坩埚用的定位底座，具体地说是一种TFT玻璃行业用于测试高温粘度时，与高温炉配套使用的放置钼金坩埚的定位底座。
【背景技术】
[0002]目前，为了保温的需要，市面上用于测试TFT玻璃高温粘度的高温炉放置坩埚的定位底座和高温炉的炉膛内壁间隙很小一般都小于0.3_，还有，为了测试的需要必须将坩埚定位于高温炉炉膛的正中间位置，因为定位底座上表面没有任何可做参照的标记，这样就给坩埚准确定位提高了难度，再者，因为TFT玻璃和钼金坩埚的膨胀系数不同，加上粘度测试完毕后空料过程中钼金坩埚很容易变形，后期测试时放置坩埚很不容易放置在炉膛正中心，这样就造成了必须反复放置多次才能放到炉膛整中心，反复放置期间底座升降过程中还有可能对炉膛内壁造成划伤。
【发明内容】
[0003]本实用新型为了解决在测试高温粘度时钼金坩埚不容易对准炉膛中心的技术难题，设计了一种新型坩埚定位底座，使用该定位底座可以很方便并且很容易对准炉膛中心位置，有效地避免了反复放置坩埚以对准炉膛中心过程中对炉膛内壁产生的划伤。
[0004]本实用新型采用的技术方案是:一种新型坩埚定位底座，上述定位底座与测试TFT玻璃高温粘度用的高温炉配套使用，结构中包括底座本体，关键在于:所述的底座本体上端面设置有圆形凹槽，在圆形凹槽槽底设置有一组以圆形凹槽中心同心的定位凸起环。
[0005]本实用新型的有益效果是:在底座本体上端面设置圆形凹槽及其在圆形凹槽槽底设置一组同心的定位凸起换，可以很方便快捷的把钼金坩埚定位到高温炉炉膛的中心，避免了反复放置和对炉膛内壁的划伤。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]图1是本实用新型的第一实施例的结构示意图。
[0007]图2是本实用新型的第二实施例的结构示意图。
[0008]图3是图1的俯视图。
[0009]附图中，I是底座本体，2是凹槽，3是定位凸起环。
【具体实施方式】
[0010]一种新型坩埚定位底座，上述定位底座与测试TFT玻璃高温粘度用的高温炉配套使用，结构中包括底座本体1，重要的是:所述的底座本体I上端面设置有圆形凹槽2，在圆形凹槽2槽底设置有一组以圆形凹槽中心同心的定位凸起环3。这样，在使用过程中，将圆形凹槽中心对准炉膛中心即可保证坩埚处于炉膛的中心位置上，定位方便快捷，并可以有效避免因反复放置坩埚以准确定位过程中对炉膛内壁造成划伤。[0011]相邻的定位凸起环3之间的间距为3-6mm。
[0012]为了便于坩埚更好地在定位底座上定位，所述的定位凸起环3由内至外环的凸起高度递增，位于最内环的定位凸起环的凸起高度为1-3mm。
[0013]所述的定位凸起环3由内至外环的凸起高度以2~4_高度差递增。
[0014]为了使该定位底座能够在1600°C高温下长时间使用，所述的定位凸起环3的材质是刚玉莫来石。
[0015]所述的底座本体I为圆柱形、或长方体形、或椭圆柱形。
[0016]在具体实施时，为了避免对高温炉炉膛内壁产生划伤，底座本体I采用圆柱形结构，底座本体1上端面设置圆形凹槽2，防止TFT玻璃测试过程中玻璃液溢出而污染该定位底座；圆形凹槽2槽底设有若干个定位凸起环3，各个定位凸起环3之间的间距设为5mm，各定位凸起环3同高度且高度为2_。另外，为了更好地定位坩埚，可以将各个定位凸起环3的高度设为不同值，位于最内环的定位凸起环3的高度设为2_，依次地，由内至外环的定位凸起环3凸起高度以2_高度差递增。该定位底座在使用时，首先根据坩埚埚底的大小选择合适的定位凸起环以定位，然后将定位好坩埚的定位底座上的圆形凹槽中心对准高温炉炉膛内的中心位置，这样即可保护保证已将坩埚定位到了炉膛的正中心位置。可见，该设置可以很 方便快捷的把钼金坩埚定位到炉膛中心，避免了反复放置和对炉膛内壁的划伤。
【权利要求】
1.一种新型坩埚定位底座，上述定位底座与测试TFT玻璃高温粘度用的高温炉配套使用，结构中包括底座本体(1)，其特征在于:所述的底座本体(I)上端面设置有圆形凹槽(2)，在圆形凹槽(2)槽底设置有一组以圆形凹槽中心同心的定位凸起环(3)。
2.根据权利要求1所述的一种新型坩埚定位底座，其特征在于:相邻的定位凸起环(3)之间的间距为3飞mm。
3.根据权利要求1所述的一种新型坩埚定位底座，其特征在于:所述的定位凸起环(3)由内至外环的凸起高度递增，位于最内环的定位凸起环的凸起高度为f3mm。
4.根据权利要求3所述的一种新型坩埚定位底座，其特征在于:所述的定位凸起环(3)由内至外环的凸起高度以2?4mm高度差递增。
5.根据权利要求1所述的一种新型坩埚定位底座，其特征在于:所述的定位凸起环(3)的材质是刚玉莫来石。
6.根据权利要求1所述的一种新型坩埚定位底座，其特征在于:所述的底座本体(I)为圆柱形、或长方体形、或椭圆柱形。
【文档编号】F27B17/02GK203534178SQ201320607364
【公开日】2014年4月9日 申请日期:2013年9月29日 优先权日:2013年9月29日
【发明者】王俊峰, 张言帅, 张广涛, 李俊锋, 闫冬成, 侯建伟 申请人:东旭集团有限公司