光罩清洗装置的制作方法

本发明涉及一种光罩的清洗技术，具体而言涉及一种可以擦拭方式清洗光罩表面的光罩清洗装置，以能快速、且有效的清理光罩表面，供提升半导体制程的合格率。

背景技术：

按，在半导体的制程中，微影(Photolithography)与蚀刻制程(Etching Process)是用来完成晶圆表面的图案制作，其中用以供微影制程使用的光罩(Mask)具有不可或缺的关键地位。光罩系一绘有特定图案的透光玻璃片，其中包含一具图形(Pattern)的图案区，供利用一光源，将图案区上的图形转移至晶圆上的光阻，再经过蚀刻制程于晶圆表面完成图案。

因此影响晶圆合格率中最重要的因素其中一项即为光罩是否有遭受到污染，若光罩上出现微尘粒子，会使得受污染的光罩用于半导体微影制程时，会于晶圆上产生相对应的缺陷(Defect)，是以，为了保持光罩的清洁，一般会于光罩上设置有护膜(Pellicle)，以防止微尘粒子沾附在光罩上，而护膜为通过框架支撑而与光罩保持一距离，使落在光罩上的微尘粒子收集在护膜上，微影制程因护膜产生相当程度成像失真，使得该微尘粒子不至影响原本微影制程。

传统光罩清洗方法，凭借人工方式针对光罩的表面作一洁净处理。清洁人员将该光罩稳固的放置于一架体上，并凭借一清洗液(例如：丙酮、乙醇及去离子水等)冲洗该光罩表面，同时以一刷具刷除该光罩表面的颗粒物质；接着，再次以该清洗液冲洗该光罩的表面，如此重复数次上述清洁步骤后再对该光罩进行干燥，如此，可去除光罩表面的杂质或残余物，进而确保光罩表面的洁净度。

但上述现有光罩的清洗方法具有如清洁人员于清洗该光罩时需长时间暴露于该清洗液的工作环境下，极易因吸入或直接接触该化学物质，而影响该清洁人员的身体健康的缺点。为了解决前述的问题，近年来业界开发有多种自动化 的光罩清洗设备，但其仍需使用大量有机溶剂制成的清洗液，虽然减少人员的接触量，但其一样存在清洗液管理与污染的问题，且其清洗时因系冲洗为主，一样不易有效清洁光罩表面；

再者，由于护膜所使用的粘胶为酯类结构(RCOOR)x，如聚丙烯酸酯的高分子结构，故当光罩接触硫酸与过氧化氢溶液的清洗液时，(RCOOR)x会水解成可流动但不溶于水的胶态物质(RCOOH)x，且(RCOOH)x可能造成光罩图案上的缺陷与光罩的报废，是以现有光罩清洗装置无法进行护膜两侧表面的清洁，然而光罩于护膜两侧的表面形成有多样的识别及校准图形，当其受到污染时仍会造成缺陷(Defect)的问题，故一样有进行清理的需求，现有者仅能以人工方式进行，造成光罩清洁上极大的困扰与不便，如何解决前述问题，系业界的重要课题。

缘是，本发明即基于上述目前常见缺失予以总体考量后，希冀以本发明所提供的光罩清洁结构可有效的进行光罩的护膜两侧表面的清洁，同时达到保护清洁人员人身安全、且能维持光罩清洁程度，并可迅速且有效的缩短清洁时间，以利半导体工厂使用且进一步可达提升半导体制程合格率的功效。

技术实现要素：

因此，本发明的主要目的是在提供一种以擦拭方式清洁光罩的护膜两侧表面的光罩清洗装置，以能迅速、且有效的进行表面清洁，从而提高后续制程的效率与合格率。

又，本发明的次一主要目的在于提供一具湿式清洁与干式清洁的光罩清洗装置，供进行两阶段清洁，可有效清洁光罩表面上所附着微粒或雾化污渍，且清洁后不会残留清洗水痕或污渍，有助于提升清洁效率。

再者，本发明的另一主要目的在于提供一种可将光罩表面微粒与污渍直接擦拭干净的光罩清洗装置，其无需使用到大量有机清洁液，不会产生大量待处理废液，可达维持环境安全性，且降低处理成本的功效。

为此，本发明主要系通过下列的技术手段，来具体实现上述的各项目的与效能：

一种光罩清洗装置，其特征在于，其至少包含有：

一机体；

一设于机体的湿式清洁模块及一设于机体中湿式清洁模块后方的干式清洁 模块；

所述的湿、干式清洁模块分别具有至少一擦拭机构，该至少一擦拭机构具有一立设于机体的立板，且该立板上分别设有一置料卷轮及一收料卷轮，供同步自动收、放一无尘布条的两端卷收，又该立板在置料卷轮与收料卷轮之间设有复数转折轮，供无尘布条在移动过程中能够经过擦拭机构上缘处，立板在上方两转折轮之间设有一顶缘高于两侧的贴抵轮，供无尘布条形成较高的擦拭部分；

其中湿式清洁模块的擦拭机构在无尘布条相对贴抵轮的进料端设有一供喷洒清洁液体的喷液机构，供选择性对经过的无尘布条进行清洁液喷洒；

如此，供光罩能够依序相对湿式清洁模块及干式清洁模块进行直接擦拭，而构成一能迅速、且有效清洁的光罩清洗装置。

所述的光罩清洗装置，其中：该湿、干式清洁模块分别具有两相对的擦拭机构，供分别清洁光罩护膜的两侧下方的相对表面。

所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构的置料卷轮与收料卷轮于立板上分设有一第一驱动件与一第二驱动件，以作为置料卷轮与收料卷轮同步正逆转的放料及收料之用。

所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构的立板在置料卷轮的出料端设有一第一张撑轮组，且该收料卷轮的入料端设有一第二张撑轮组，使无尘布条于放料及收料时可保持平整、顺畅。

所述的光罩清洗装置，其中：该立板邻近上缘的相对滚揉轮组的移动后方设有一滚揉轮组，该滚揉轮组具有一具有第三驱动件的滚轮，供带动无尘布条，且滚轮一侧设有一可选择性改变压力的挤压轮，供整平经过的无尘布条，且湿式清洁模块的滚揉轮组能够进一步挤压含有水分的无尘布条，使无尘布条上的水分能分散均匀、且挤出多余水分。

所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构的贴抵轮设于一顶升组上，该顶升组是在立板上设有一第一伸缩缸组，且该第一伸缩缸组能够驱动一供设置贴抵轮的轮座升降。

所述的光罩清洗装置，其中：该擦拭机构在立板对应贴抵轮的两侧分设有一夹压定位组，该夹压定位组在对应无尘布条下方设有一定位板，该定位板上形成有一对应无尘布条宽度、且深度小于无尘布条厚度的定位槽，夹压定位组在对应无尘布条上方设有一由一第二伸缩缸组驱动的压板，使无尘布条在擦拭 时能被有效固定位置，且当无尘布条被拉动时能沿着固定路径位移，避免因晃动而位移。

所述的光罩清洗装置，其中：该湿式清洁模块的擦拭机构的喷液机构具有一可选择性对经过无尘布条进行清洁液喷洒的喷水管，喷液机构在无尘布条下方设有一回收组，供回收经滚揉轮组挤压的多余清洁液。

如此，通过前述技术手段的具体实现，使本发明的光罩清洗装置系利用湿、干式清洁模块的无尘布条可直接擦拭光罩表面的作法，而能迅速、且有效的去除表面附着的微尘或雾化，能提高后续制程的效率与合格率，再者本发明可进行两阶段清洁，其能在清洁后擦干水分，而不致残留清洁水痕或污渍，有助于提升清洁品质；

且由于其系以含浸清洁液的湿式清洁模块采直接擦拭方式去除微尘与污渍，不需使用到大量的有机清洁液，因此不会产生大量待处理废液，可达维持环境安全性，且降低处理成本的功效，故可大幅增进其实用性，而能增加其附加价值，并能提高其经济效益。

为使贵审查委员能进一步了解本发明的构成、特征及其他目的，以下乃举本发明的若干较佳实施例，并配合图式详细说明如后，供让熟悉该项技术领域者能够具体实施。

附图说明

图1是应用本发明光罩清洗装置的设备的俯视平面示意图。

图2是本发明光罩清洗装置的立体外观示意图，供说明各组件于俯视的相对关系。

图3是本发明光罩清洗装置中擦拭机构的立体外观示意图，供说明各组件的态样及其相对关系。

图4是本发明光罩清洗装置中擦拭机构的侧视平面示意图。

图5是本发明光罩清洗装置中擦拭机构于擦拭时的局部侧视动作分解示意图。

图6是本发明光罩清洗装置中擦拭机构于擦拭时的端视动作示意图。

附图标记说明：1机体；10第一线性滑轨；15第二线性滑轨；18座板；2光学检测装置；20光罩放置载台；30光罩夹取模块；35夹取机构；5A湿式清洁模块；5B干式清洁模块；50擦拭机构；51立板；52置料卷轮；520第一驱 动件；53第一张撑轮组；541转折轮；542转折轮；543转折轮；544转折轮；55第二张撑轮组；56收料卷轮；560第二驱动件；57滚揉轮组；571滚轮；572第三驱动件；573挤压轮；58顶升组；581第一伸缩缸组；582轮座；59贴抵轮；60喷液机构；61喷水管；65回收组；70夹压定位组；71定位板；710定位槽；72压板；75第二伸缩缸组；80无尘布条；90光罩；95护膜；96表面。

具体实施方式

本发明是一种光罩清洗装置，随附图例示本发明的具体实施例及其构件中，所有关于前与后、左与右、顶部与底部、上部与下部、以及水平与垂直的参考，仅用于方便进行描述，并非限制本发明，也非将其构件限制于任何位置或空间方向。图式与说明书中所指定的尺寸，当可在不离开本发明的申请专利范围内，根据本发明的具体实施例的设计与需求而进行变化。

而本发明是一种供利用擦拭方式清洁光罩表面的光罩清洗装置，尤指光罩的护膜两侧表面的清洁，系如图1所显示者，其可设于一设备机体1上，该设备的机体1包含有一与本发明光罩清洗装置并排的光学检测装置2，供进行一光罩90的清洗与清洗前、后的检测比较，其中该机体1上具有一第一线性滑轨10，供一光罩放置载台20设置滑移，且机体1于本发明光罩清洗装置一侧设有一第二线性滑轨15，供一可移至光学检测装置2端部的光罩夹取模块30设置滑移，且该光罩夹取模块30上设有一夹取机构35(其构成可选自如我国专利公告第M465658号的夹取装置)，供夹取光罩90侧边缘面、且露出下方表面供进行清洁，而本发明的光罩清洗装置由分设于机体1上一对应座板18的一湿式清洁模块5A及一干式清洁模块5B所组成，供利用前述的光罩夹取模块30夹掣光罩90相对湿式清洁模块5A及干式清洁模块5B依序擦拭清洁与去除水痕、污渍；

至于，前述该湿、干式清洁模块5A、5B的详细构成，则系如第2、3及4图所示，其分别具有两相对固设于机体1座板18的擦拭机构50，该两擦拭机构50的构成相同，供分别清洁光罩90护膜95的两侧下方的相对表面96(如第5、6图所示)；

再者，所述的这些擦拭机构50具有一立设于前述座板18的立板51，且该立板51于相对内面分设有一置料卷轮52及一收料卷轮56，供卷收无尘布条80两端，其该置料卷轮52与收料卷轮56于立板51于外侧面分别设有一第一驱动件520与一第二驱动件560，以作为置料卷轮52与收料卷轮56同步正逆转的放 料及收料之用，且立板51于置料卷轮52的出料端与收料卷轮56的入料端分设有一第一张撑轮组53及一第二张撑轮组55，使无尘布条80于放料及收料时可保持平整、顺畅，又该立板51于置料卷轮52与收料卷轮56间设有复数转折轮541～544，使无尘布条80于移动过程中可平稳经过擦拭机构50的上缘处；

又，该擦拭机构50的立板51邻近上缘的两转折轮542、543间设有一滚揉轮组57，该滚揉轮组57具有一具第三驱动件572的滚轮571，供带动无尘布条80，且滚轮571一侧设有一可选择性改变压力的挤压轮573，供整平经过的无尘布条80，且当无尘布条80含有水分时可进一步挤压，使无尘布条80上的水分能分散均匀、且挤出多余水分，用以供控制无尘布条80的含水量，另立板51于无尘布条80相对滚揉轮组57的移动后方利用顶升组58设有一贴抵轮59，供将经过贴抵轮59的无尘布条80于擦拭前、后选择性升降(如图5所示)，其中顶升组58系于立板51上设有一第一伸缩缸组581，该第一伸缩缸组581可驱动一供设置贴抵轮59的轮座582升降，供通过贴抵轮59驱动无尘布条80升降，使无尘布条形成较高的擦拭部分；

另，擦拭机构50的立板51于无尘布条80相对滚揉轮组57的移动前方设有一供喷洒清洁液体的喷液机构60(其中干式清洁模块5B的擦拭机构50可以不设置、又或设置但不启动喷洒功能)，该喷液机构60具有一可选择性对经过无尘布条80进行清洁液喷洒的喷水管61，再者喷液机构60进一步可于前述滚揉轮组57下方设有一回收组65，供回收经滚揉轮组57挤压的多余清洁液；

更甚者，如图5所示，所述的这些擦拭机构50进一步可于立板51对应贴抵轮59的两侧分设有一夹压定位组70，该夹压定位组70系于对应无尘布条80下方设有一定位板71，该定位板71上形成有一对应无尘布条80宽度、且深度略小于无尘布条80厚度的定位槽710，又夹压定位组70于对应无尘布条80上方设有一供由一第二伸缩缸组75驱动的压板72，使压板72可选择性将无尘布条80夹掣于夹压定位组70的定位板71内，使无尘布条80在擦拭时能被有效固定位位置，且当无尘布条80被拉动时能沿着固定路径位移，避免因晃动而位移，从而影响到擦拭位置的准确性；

如此，可利用光罩夹取模块30的夹取机构35夹掣光罩90，并令光罩90两侧下表面96可相对湿式清洁模块5A中含清洁液的无尘布条80及干式清洁模块5B的干燥无尘布条80依序进行擦拭清洁与去除水痕、污渍，进而组构成一能迅速、且有效清洁的光罩清洗装置者。

而本发明于进行光罩90的护膜95两侧下方表面95清洁作业时，则系如第1、4图所示，首先令湿、干式清洁模块5A、5B的各擦拭机构50中的第一、二及三驱动件520、560、572同步驱动，使无尘布条80被卷动、且令未使用的部分对应贴抵轮59，此时夹压定位组70的压板72系相对定位板71呈开启状，使无尘布条80可沿定位板71的定位槽710稳定移动，而不致因晃动而滑移错位，同时其中湿式清洁模块5A的喷液机构60喷水管61可对其无尘布条80进行清洁液喷洒，且当该无尘布条80经过对应的滚揉轮组57时，可经由挤压使该无尘布条80上的清洁液分布更为均匀、且含水量更符合擦拭需求，不致于后续擦拭时发生含水量过少而无法有效去除、又或发生含水量过多而产生水痕的现象；

接着，当光罩夹取模块30的夹取机构35于夹掣光罩90后，系令其依序向湿式清洁模块5A及干式清洁模块5B前进位移(如图1所示)，则如进一步如第4、5及6图所示，令各该擦拭机构50于贴抵轮59两侧夹压定位组70的压板72相对定位板71下压，使无尘布条80位于贴抵轮59的两端并夹掣固定，接着所述的这些擦拭机构50利用顶升组58的贴抵轮59上升(如图5所示)，使其推动对应的无尘布条80部分向上凸出；

如此，当光罩90经过湿式清洁模块5A的两擦拭机构50的贴抵轮59上方无尘布条80时，可利用含有清洁液的无尘布条80直接擦拭光罩90的护膜95两侧的下方表面96(如图6所示)，而能直接去除所述的这些表面96附着的微尘、雾化、污渍等。且当光罩90经过干式清洁模块5B的两擦拭机构50的贴抵轮59上方无尘布条80时，可利用含有清洁液的无尘布条80直接擦拭光罩90的护膜95两侧的下方表面96(如图6所示)，而能直接擦干所述的这些表面96清洁液，避免光罩90的所述的这些表面96残留水痕或污渍，大幅提升其清洁效果。

又，本发明的湿、干式清洁模块5A、5B的擦拭机构50可设置宽度较大的无尘布条80，其也能用于清洁光罩90的上方玻璃表面。

经由上述的说明，本发明利用湿、干式清洁模块5A、5B的无尘布条80可直接擦拭光罩90表面96的作法，而能迅速、且有效的去除表面96附着的微尘或雾化，能进行有效的清洁，从而提高后续制程的效率与合格率，再者本发明可进行两阶段清洁，其能在清洁后擦干水分，因此不会残留清洁水痕或污渍，有助于提升清洁品质，更重要的是由于其系以含浸清洁液的湿式清洁模块5A采直接擦拭方式去除微尘与污渍，不需使用到大量有机清洁液，不会产生大量待 处理废液，可达维持环境安全性，且降低处理成本的功效，故可大幅增进其实用性。

以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。