一种清洗半导体器件的清洗槽的制作方法

文档序号:11998508阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种清洗半导体器件的清洗槽,包括槽体(1),其特征在于,所述槽体(1)的顶端一侧内边缘上固结有支撑架(11),所述槽体(1)的一侧面底端上固结有出液管(12),所述槽体(1)的一侧面中间部位固结有循环进液管(13)和循环出液管(14),所述循环进液管(13)置于循环出液管(14)的斜上方,所述循环进液管(13)和循环出液管(14)通过液压泵连接成一体。

2.根据权利要求1所述的清洗半导体器件的清洗槽,其特征在于,所述支撑架(11)上开有进液管(111),所述进液管(111)和抽水泵连接在一起。

3.根据权利要求1所述的清洗半导体器件的清洗槽,其特征在于,所述循环出液管(14)在槽体(1)的内侧形成有向下弯曲的弯管。

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