位置调整装置以及具有位置调整装置的密封胶涂布机的制作方法

本发明涉及一种用于将密封胶涂敷到基板上的密封胶涂布机。

背景技术：

一般来说，在制造液晶面板的工艺期间，将密封胶以预定图案涂敷到至少一个基板上以防止介于基板之间的液晶泄露到外部，同时保持在基板之间的间隔。

密封胶涂布机用于在基板上形成密封胶图案。密封胶涂布机包括：托台，托台设置在框架上并支撑基板；涂布头单元，其包括容纳密封胶的注射器；以及喷嘴，与该注射器连通；以及涂布头支撑框架，用于支撑该涂布头单元。

该密封胶涂布机在基板上形成密封胶图案同时改变在喷嘴与基板之间的相对位置。换言之，密封胶涂布机在水平方向上移动喷嘴和/或基板，同时通过在垂直方向上移动喷嘴来精确地调整在喷嘴与基板之间的间隙，以及密封胶涂布机从喷嘴排出密封胶以在基板上形成密封胶图案。

涂布头单元或涂布头支撑框架被配置为通过线性运动机构(诸如滚珠丝杠装置或直线电机)来移动，并且，线性标尺用于控制涂布头单元或涂布头支撑框架的位置。一般来说，线性标尺由金属制成，且线性标尺会根据环境温度或湿度的变化而膨胀或收缩。在相关技术中，即使线性标尺根据环境温度或湿度的变化而膨胀或收缩，涂布头单元或涂布头单元支撑框架的位置也基于线性标尺来控制。因此，存在涂布头单元或涂布头单元支撑框架的位置精确性恶化的问题。另外，由于涂布头单元或涂布头单元支撑框架的位置精确性恶化的问题，因此可能存在密封胶被涂敷成不适合于目标基板的图案的问题。

另外，在涂布头单元或涂布头单元支撑框架所移动的距离增加以将密封胶涂敷到具有大尺寸的目标基板的情况下，线性标尺的长度也会增加。在如上所述线性标尺的长度增加的情况下，线性标尺根据环境温度和/或湿度变化而膨胀或收缩的程度也会增加。

技术实现要素：

本发明致力于提供一种密封胶涂布机，其不论环境温度和/或湿度变化如何，都能通过将可移动构件移动预期距离来将密封胶以适合图案涂敷到目标基板的精确位置上，而不受环境温度和/或湿度的影响，即使线性标尺根据温度和/或湿度变化而膨胀或收缩也能如此。

本发明的示例性实施例提供一种密封胶涂布机，包括：可移动构件，其相对于基板移动排出密封胶的喷嘴；支撑构件，其支撑可移动构件使得该可移动构件能够移动；移动装置，其移动该可移动构件；线性标尺，其安装在该支撑构件上以沿该移动构件移动的方向延伸；标尺传感器，其安装在该可移动构件上并读取在该线性标尺上形成的刻度；以及控制单元，该控制单元包括：计算装置，其计算补偿比，所述补偿比是在预定温度条件和/或预定湿度条件下可移动构件所实际移动的实际移动距离与根据标尺传感器读取线性标尺的刻度而获得的测量移动距离之间的比率；储存装置，其储存由计算装置根据多个温度条件和/或多个湿度条件计算的多个补偿比来作为映射数据；补偿装置，其基于在储存装置中储存的映射数据而获得与当前温度和/或当前湿度条件匹配的补偿比，并基于所获得的补偿比计算补偿距离；以及驱动装置，其控制移动装置使得可移动构件额外地移动通过补偿装置所计算的补偿距离。

根据本发明的示例性实施例的密封胶涂布机，即使在线性标尺根据环境温度和/或湿度变化而膨胀或收缩，可移动构件可以准确地移动预期距离，而不受温度和/或湿度变化的影响。因此，不论环境温度和/或湿度变化如何，可以将密封胶以适合图案涂敷到目标基板的精确位置。

附图说明

图1是示意性示出根据本发明一示例性实施例的密封胶涂布机的透视图。

图2是示意性示出在图1中的密封胶涂布机中提供的线性标尺和标尺传感器的视图。

图3是示意性示出根据温度变化的测量移动距离与实际移动距离之间的关系的曲线图。

图4是示意性示出根据湿度变化的测量移动距离与实际移动距离之间的关系的曲线图。

具体实施方式

下文中，将参考附图描述根据本发明一示例性实施例的密封胶涂布机。

如图1和图2所示，根据本发明示例性实施例的密封胶涂布机可以包括：框架10；托台20，其安装在框架10上并支撑基板s；一对导轨30，该对导轨安装在托台20的两侧并在y轴方向上延伸；涂布头单元支撑框架40，其通过受该对导轨30支撑而安装在托台20上方并在x轴方向上延伸；涂布头单元50，其沿x轴方向以可移动方式安装在涂布头单元支撑框架40上并具有喷嘴53；以及控制单元80，其控制上述组件的操作以将密封胶涂敷到基板s上。

在x轴方向上移动托台20的x轴台21和在y轴方向上移动托台20的y轴台22可以安装在框架10上。因此，托台20可以分别通过x轴台21和y轴台22而在x轴方向上和在y轴方向上移动。当然，可以仅使用在x轴台21和y轴台22中的一个，使得托台20仅在x轴方向和y轴方向中的一个方向上移动。

与导轨30连接的移动构件41可以安装在涂布头单元支撑框架40的两侧上。通过导轨30与移动构件41之间的交互，涂布头单元支撑框架40可以在导轨30的纵向(即y轴方向)上移动。因此，随着涂布头单元支撑框架40沿y轴方向移动，涂布头单元50可以沿y轴方向移动。

设置在x轴方向上的头移动导引件42可以安装在涂布头单元支撑框架40上，以及，与涂布头单元支撑框架40的头移动导引件42连接的头移动装置51可以安装在涂布头单元50上。通过在头移动导引件42与头移动装置51之间的交互，涂布头单元50可以在涂布头单元支撑框架40的纵向(即x轴方向)上移动。

如上所述，涂布头单元50可以在基于x-y坐标系限定的x轴方向和/或y轴方向中移动。

在根据本发明示例性实施例的密封胶涂布机中，在托台20在涂布头单元50停止的状态中移动的同时或在涂布头单元50在托台20停止的状态中移动的同时，密封胶p可以被涂敷到基板s上。下文中，将在托台20与涂布头单元50之间的相对移动定义为喷嘴53相对于基板s的移动。

在涂布头单元50移动的方向(x轴方向)中，线性标尺61安装在涂布头单元支撑框架40上。此外，在涂布头单元支撑框架40移动的方向(y轴方向)中，线性标尺61也安装在框架10中。

如图2所示，线性标尺61大体具有带状。在线性标尺61上以预定节距标有刻度62。

此外，读取线性标尺61的刻度62的标尺传感器63分别安装在涂布头单元50和涂布头单元支撑框架40上。例如，标尺传感器63可以包括光发射元件和光接收元件以通过将光发射到线性标尺61并判定光是否被线性标尺61反射或测量被线性标尺61反射的光的量来读取刻度62。但是，本发明不限于线性标尺61，可以使用公知的光电编码器、电磁编码器、电磁感应型编码器、电容编码器等来作为线性标尺61。

标尺传感器63被配置为，通过在根据涂布头单元50和涂布头单元支撑框架40的移动而沿线性标尺61移动的同时读取线性标尺的刻度62，来测量涂布头单元50或涂布头单元支撑框架40已经移动的距离、涂布头单元50和涂布头单元支撑框架40的当前位置等。

涂布头单元50和涂布头单元支撑框架40是用于相对于基板移动喷嘴53的装置。如图2所示，其上安装有标尺传感器63的涂布头单元50和涂布头单元支撑框架40被分别定义为可移动构件71。此外，其上可移动地支撑可移动构件71以及安装有线性标尺61的涂布头单元支撑框架40和框架10被分别定义为支撑构件72。此外，移动涂布头单元支撑框架40的移动构件41以及移动涂布头单元50的头移动装置51被定义为移动装置73。

这里，本发明不限于可移动构件71是涂布头单元50和涂布头单元支撑框架40的配置，而移动托台20的x轴台21和y轴台22可以是可移动构件71。在此情况中，支撑x轴台21和y轴台22的框架10可以被定义为支撑构件72。

如图3和图4所示，线性标尺61根据环境温度t、t1或t2的变化和环境湿度h、h1或h2的变化而膨胀或收缩。即，线性标尺61具有相对于温度的温度收缩系数和相对于湿度的湿度收缩系数。即，线性标尺61随着环境温度增加而膨胀，且线性标尺61随着环境湿度增加而膨胀。相反，线性标尺61随着环境温度降低而收缩，且线性标尺61随着环境湿度降低而收缩。

当如上所述，线性标尺61根据环境温度t的变化和/或环境湿度h的变化而膨胀或收缩时，在根据标尺传感器63读取线性标尺61的刻度62所获得的测量移动距离b与可移动构件71所实际移动的实际移动距离a1、a或a2之间存在差异。

因此，在本发明的示例性实施例中，即使线性标尺61根据环境温度和/或湿度的变化而膨胀或收缩，可移动构件71也可以移动预期距离，而不受线性标尺61的膨胀或收缩的影响，从而使得密封胶以适合图案被涂敷在目标基板的精确位置上。

因此，根据本发明的示例性实施例的密封胶涂布机设置有位置调整装置，且该位置调整装置可以包括：可移动构件71，其相对于基板移动排出密封胶的喷嘴53；支撑构件72，其支撑可移动构件71使得可移动构件71能够移动；移动装置73，其移动可移动构件71；线性标尺61，其安装在支撑构件72上，从而沿可移动构件71移动的方向延伸；标尺传感器73，其安装在可移动构件71上并读取在线性标尺61上形成的刻度62；以及控制单元80。控制单元80可以包括：计算装置81，其计算补偿比r＝a/b，所述补偿比r＝a/b是在预定温度条件和/或预定湿度条件下可移动构件71所实际移动的实际移动距离a与根据标尺传感器73读取线性标尺61的刻度62所获得的测量移动距离b之间的比率；储存装置82，其储存由计算装置81根据多个温度条件和/或多个湿度条件计算的多个补偿比r作为映射数据；补偿装置83，其基于在储存装置82中储存的映射数据来获得与当前温度和/或当前湿度条件匹配的补偿比r，并基于所获得的补偿比r计算补偿距离c；以及驱动装置84，其控制移动装置73使得可移动构件71额外移动由补偿装置83计算的补偿距离c。

这里，实际移动距离a可以是可移动构件71在多个温度条件和多个湿度条件下实际移动的多个实际移动距离a。例如，激光测量装置安装在可移动构件71与支撑构件72之间。用于发射光的光发射单元和用于接收光的光接收单元安装在可移动构件71和支撑构件72中的一个上，而用于反射光的反射部分安装在可移动构件71和支撑构件72中的另一个上。激光测量装置分析从光发射单元发射、经反射部分反射、然后由光接收单元接收的光，从而测量可移动构件71的实际移动距离a。再例如，可移动构件71的实际移动距离a可以通过在移动可移动构件71的移动过程期间拍摄可移动构件71的图像以及通过分析拍摄到的可移动构件71的图像来测量。

测量移动距离b是当可移动构件71在多个温度条件和多个湿度条件下移动时，通过使用线性标尺61测量的可移动构件71的移动距离。

储存装置82储存映射数据，该映射数据包括补偿比r，所述补偿比r是在多个温度条件、多个湿度条件或多个温度条件和多个湿度条件二者下实际移动距离a相对于测量移动距离b的比率。

例如，补偿装置83基于以下表达式计算补偿距离c。

补偿距离c＝测量移动距离b–测量移动距离b×补偿比r

驱动装置84控制移动装置73以使可移动构件71移动通过将测量移动距离b加上通过补偿装置83计算的补偿距离c。

例如，当温度升高时，由于线性标尺61的热膨胀，因此实际移动距离a变得长于测量移动距离b，因此，补偿比r大于1。在此情况中，补偿距离具有负值。因此，可移动构件71需要移动的距离短于测量移动距离b。例如，当温度降低时，由于线性标尺61的热收缩，因此实际移动距离a变得短于测量移动距离b，因此，补偿比r小于1。在此情况中，补偿距离c具有正值。因此，可移动构件71需要移动的距离长于测量移动距离b。

因此，根据本发明的示例性实施例的密封胶涂布机，即使线性标尺61根据环境温度和/或湿度变化而膨胀或收缩，可移动构件71也可以准确地移动预期距离，而不受温度和/或湿度变化的影响。因此，不论环境温度和/或湿度变化如何，可以将密封胶以适合图案涂敷在目标基板的精确位置。

同时，根据本发明的示例性实施例的位置调整装置可以不仅应用于密封胶涂布机，还可以应用于移动可移动构件同时调整可移动构件相对于支撑构件的位置的各种装置。

已经出于说明目的描述了本发明的示例性实施例。然而，将了解，本发明的范围不限于这些特定实施例，可以在不偏离由所附权利要求限定的范围的前提下做出各种修改。