一种新型立式压滤机的制作方法

文档序号:11940091阅读:235来源:国知局
一种新型立式压滤机的制作方法与工艺

本实用新型涉及陶瓷生产设备领域,尤其是一种新型立式压滤机。



背景技术:

陶瓷生产过程中,很重要的一个步骤是对球磨机粉末混合后的泥浆进行压滤,采用压滤设备将固体物和水分分离开来。压滤设备包括厢式压滤机、立式压滤机和板式压滤机;由于立式压滤机占地面积小,使用更方便,从而被广泛使用;但目前的立式压滤机结构复杂、造价昂贵、维修不方便、效率低下,需要进行改进。



技术实现要素:

为解决上述问题,本实用新型提供了一种新型立式压滤机,其结构简单、维修方便,使用效率高、成本低。

本实用新型所述的一种新型立式压滤机,包括支架、过滤装置、压板、压滤缸、上导轨和下导轨,所述支架上方设有所述压滤缸,所述上导轨左右两端分别设在所述支架上并位于所述压滤缸下方,所述上导轨下方设有与其平行的下导轨,所述压板顶部连接所述压滤缸活动端,所述压板正下方设有过滤装置,所述压板和所述滤板均位于所述上导轨和所述下导轨之间,所述滤板左右两侧对称设有半滤腔装置,所述半滤腔装置包括分别固定连接在所述支架左右两端并相向设置的推动气缸和分别设在两个所述推动气缸活动端的半滤腔板,所述半滤腔板的上下两端分别设在所述上导轨和所述下导轨上,两个半滤腔板在各自对应的推动气缸的带动下分开或闭合。

所述推动气缸带动其对应的半滤腔板沿上导轨和下导轨滑动,使两个半滤腔板分开或闭合,当两个半滤腔板闭合时,与上下导轨之间的压板和过滤装置构成一个密封的滤室,物料从压板上的进料口通过进料装置送入滤室中,压滤缸下压,对物料进行压滤,滤液从过滤装置的出水口排出;当压滤工作完成后,两个推动气缸分别带动其对应的半滤腔板分开并向左右两侧滑动,这时可以很方便的取出压滤后的滤饼,并对设备进行清洗。所述半滤腔横截面可以是半矩形框或半圆环或半椭圆环。

进一步改进,过滤装置包括滤板、弹力板和弹簧,所述弹力板设在所述滤板上方,所述弹力板上设有若干通孔,所述弹簧两端分别连接所述弹力板和所述滤板;压滤时,压板给物料施加向下的压力,所述弹力板在弹簧的作用下对物料施加反弹力,使物料脱水效果更好,滤液通过弹力板上的通孔进滤板出水口排出。

进一步改进,所述过滤装置下方设有可伸缩支撑柱,其高度可调节。

本实用新型的有益效果是:结构简单,造价低廉,使用方便,脱水效果好,便于维修和清洗,降低了人工劳动强度,提高了工作效率。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明。

图1是本实用新型非压滤状态时主结构示意图。

图2是本实用新型压滤状态时主结构示意图。

图3是过滤装置左右两侧两个半滤腔装置俯视结构示意图。

其中,1-支架,2-过滤装置,21-滤板,22-弹力板,23-弹簧,3-压板,4-上导轨,5-下导轨,6-压滤缸,7-半滤腔装置,71-推动气缸,72-半滤腔板,8-支撑柱。

具体实施方式

如图所示,一种新型立式压滤机,包括支架1、过滤装置2、压板3、上导轨4、下导轨5、压滤缸6和支撑柱,所述支架1的上方设有所述压滤缸6,所述上导轨4的左右两端分别设在所述支架1上并位于所述压滤缸6的下方,所述上导轨4的下方设有与其平行的下导轨5,所述压板3的顶部连接所述压滤缸6的活动端,所述压板3的正下方设有过滤装置2,所述过滤装置2的下方设有可伸缩的支撑柱8,所述压板3和所述过滤装置2均位于所述上导轨4和所述下导轨5之间,所述过滤装置2的左右两侧对称设有半滤腔装置7,所述半滤腔装置7包括分别固定连接在所述支架1左右两端并相向设置的推动气缸71和分别设在两个所述推动气缸71活动端的半滤腔板72,所述半滤腔板72的上下两端分别设在所述上导轨4和所述下导轨5上,两个所述推动气缸71带动各自对应的半滤腔板72分开或闭合。

过滤装置2包括滤板21、弹力板22和弹簧23,所述弹力板22设在所述滤板21的上方,所述弹力板22上设有若干通孔,所述弹簧两端分别连接所述弹力板22和所述滤板21。

所述推动气缸带动其对应的半滤腔板沿上导轨和下导轨滑动,使两个半滤腔板分开或闭合,当两个半滤腔板闭合时,与上下导轨之间的压板和过滤装置构成一个密封的滤室,物料从压板上的进料口通过进料装置送入滤室中,压滤缸下压,同时弹力板在弹簧的作用下对物料施加向上的推力,对物料进行压滤,滤液从滤板的出水口排出;当压滤工作完成后,两个推动气缸分别带动其对应的半滤腔板分开并向左右两侧滑动,取出压滤后的滤饼,并对设备进行清洗。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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