自动化真空含浸机的制作方法

本实用新型涉及自动化生产领域，具体地说，是涉及一种自动化真空含浸机。

背景技术：

含浸机，非常常见，其一般包括机架、设置在机架上的含浸槽，与含浸槽的槽口密封连接并形成含浸区间的密封盖，与含浸区间相连通的抽真空管、放气管、压缩空气管，使得含浸机能够在常压、真空、以及恒压的条件下，满足工艺要求。上述的含浸机具有以下的不足：由于大多数的密封盖与含浸槽是通过外连接件进行密封连接，然而，均需要手动调节后，密封盖才能打开，造成加工的不便。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种可自动开启上盖，便于加工，安全性高的自动化真空含浸机。

本实用新型的技术方案如下：

一种自动化真空含浸机，包括：具有上部开口的箱体、与所述箱体的上部开口密封连接并形成含浸区间和真空区间的密封上盖，所述密封上盖的后侧枢转连接在所述箱体上，所述含浸区间内设置有用于放置加工件的含浸装置，所述含浸装置具有一盛载含浸液的含浸槽，所述真空区间内设置有真空泵，所述含浸区间与所述真空区间相连通，所述真空泵对所述含浸区间内的空气环境进行抽真空处理，所述箱体的两侧竖直设置有气缸，所述箱体的两外侧壁上固定有凸台，所述气缸的气缸轴连接所述密封上盖，所述气缸枢接于所述凸台上并可前后摆动，所述密封上盖通过所述气缸自动开启。

进一步地，所述箱体的两侧设置有覆盖所述气缸的侧盖。

进一步地，所述箱体的两侧设有左启动开关和右启动开关，所述左启动开关和右启动开关同时按下控制机台的启动。

进一步地，所述箱体的一侧设有电源开关。

进一步地，所述含浸装置的两侧设有调节螺母，所述含浸装置通过该调节螺母调节左右高度。

进一步地，所述密封上盖上设置有测量所述含浸区间内真空压力的压力表。

进一步地，所述含浸区间内的压力范围为0.5～1个大气压。

进一步地，所述密封上盖上设有透明的观察区。

进一步地，所述箱体上设置有具有报警作用的三色灯。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供的自动化真空含浸机包括具有上部开口的箱体、与箱体的上部开口密封连接并形成含浸区间和真空区间的密封上盖，密封上盖的后侧枢转连接在箱体上，含浸区间内设置有用于放置加工件的含浸装置，含浸装置具有一盛载含浸液的含浸槽，真空区间内设置有真空泵，含浸区间与真空区间相连通，真空泵对含浸区间内的空气环境进行抽真空处理，箱体的两侧竖直设置有气缸，箱体的两外侧壁上固定有凸台，气缸的气缸轴连接密封上盖，气缸枢接于凸台上并可前后摆动，密封上盖通过气缸自动开启。密封上盖采用气缸自动开启，便于加工，该自动化真空含浸机需同时按下两个启动开关，机台才可启动，安全性高。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述自动化真空含浸机的结构示意图；

图2为本实用新型实施例所述自动化真空含浸机的立体结构图；

图3为本实用新型实施例所述密封上盖的开启状态图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例，对本实用新型进行详细说明。

本实用新型提供一种自动化真空含浸机，该整机采用Q235A材质，表面烤漆颜色，如图1～3所示，其包括：具有上部开口的箱体10、与所述箱体10的上部开口密封连接并形成含浸区间11和真空区间12的密封上盖20，所述密封上盖20的后侧枢转连接在所述箱体10上，所述含浸区间11内设置有用于放置加工件的含浸装置30，所述含浸装置30具有一盛载含浸液的含浸槽31，所述真空区间12内设置有真空泵40，所述含浸区间11与所述真空区间12相连通，所述真空泵40对所述含浸区间11内的空气环境进行抽真空处理，所述箱体10的两侧竖直设置有气缸50，所述箱体1的两外侧壁上固定有凸台60，所述气缸50的气缸轴51连接所述密封上盖20，所述气缸50枢接于所述凸台60上并可前后摆动，所述密封上盖20通过所述气缸50自动开启，密封上盖20采用气缸50自动开启，便于加工，此外，本实用新型采用密封条边框，整机密封性良好。

所述箱体10的两侧设置有覆盖所述气缸50的侧盖70。具有保护的作用。考虑到安全因素，所述两个侧盖70上分别设有左启动开关80和右启动开关90，所述左启动开关80和右启动开关90需同时按下才可控制机台的启动，安全性高，所述侧盖70上设有电源开关100。

所述含浸装置30的两侧设有调节螺母110，所述含浸装置30可通过该调节螺母110调节左右高度0～4mm。

为了可随时了解含浸区间11的真空压力，在所述密封上盖20上设置有测量所述含浸区间11内真空压力的压力表120。所述含浸区间11内的压力范围为0.5～1个大气压(正负压均可)。

作为优选的，所述密封上盖20上设有透明的观察区21，对含浸区间无法打开密封上盖20即可视。

所述箱体10上还设置有具有报警作用的三色灯130。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。