1.一种纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，包括支架及设置在支架上的釜体(3)、电机(1)、转轴(8)、搅拌盘(6)、导流组件、扇叶(9)、进料组件、进水管(4)和出水管(12)；
所述进水管(4)设置在釜体(3)上部，所述釜体(3)内部通过进水管(4)与外部连通，所述出水管(12)设置在釜体(3)下部，所述釜体(3)内部通过出水管(12)与外部连通；
所述进料组件包括进气管(10)、进料管(2)和旋转杆(21)，所述旋转杆(21)为圆柱型，所述旋转杆(21)的侧面上周向均匀设置有四个进料孔(11)，所述进气管(10)和进料管(2)均与旋转杆(21)垂直设置，所述进气管(10)和进料管(2)分别位于旋转的两侧，所述进气管(10)和进料管(2)分别与进料孔(11)连通，所述旋转杆(21)与电机(1)的输出轴同轴设置，所述电机(1)驱动旋转杆(21)旋转，所述进料组件位于釜体(3)外；
所述转轴(8)与旋转杆(21)同轴设置，所述电机(1)通过旋转杆(21)驱动转轴(8)旋转，所述转轴(8)为中空杆，所述旋转杆(21)的内部与转轴(8)的内部连通，所述转轴(8)的一点连接在旋转杆(21)上，所述转轴(8)的另一端位于釜体(3)内，所述转轴(8)竖直设置，所述转轴(8)上设有搅拌盘(6)，所述电机(1)通过转轴(8)驱动搅拌盘(6)旋转，所述扇叶(9)设置在转轴(8)上，所述电机(1)通过转轴(8)驱动扇叶(9)旋转；
所述搅拌盘(6)包括底盘(14)、转盘(15)和盘盖(18)，所述搅拌盘(6)设置在釜体(3)内部，所述底盘(14)的底面为圆形，所述底盘(14)的侧面为环形，所述底盘(14)为凹形，所述底盘(14)与盘盖(18)形成空腔，所述底盘(14)与盘盖(18)密封连接，所述转盘(15)位于底盘(14)与盘盖(18)形成的空腔内，所述底盘(14)的环形侧面上周向均匀设置有走料孔， 所述底盘(14)与釜体(3)固定设置，所述转盘(15)为凹形，所述转盘(15)的底面为圆形，所述转盘(15)的侧面为环形，所述转盘(15)的环形侧面上均匀设置有走料口，所述转盘(15)走料口与底盘(14)的走料孔连通，所述底盘(14)、转盘(15)和盘盖(18)均与转轴(8)同轴设置，所述盘盖(18)与底盘(14)的环形侧面的内壁固定连接，所述盘盖(18)通过连杆(17)固定设置在釜体(3)的内壁上，所述盘盖(18)的中部设有第一通孔(19)，所述转轴(8)穿过第一通孔(19)，所述搅拌机构有三个，三个搅拌机构在转轴(8)上均匀分布，位于下方的两个搅拌机构中的盘盖(18)上设有入料口(20)；
所述导流组件包括导流盘(5)和导流管(7)，所述导流盘(5)套设在底盘(14)外周，所述导流盘(5)与底盘(14)形成腔体，所述导流管(7)的一端与导流盘(5)与底盘(14)形成的腔体连通，所述导流管(7)的另一端连接在盘盖(18)上的入料口(20)上。
2.如权利要求1所述的纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，所述转盘(15)中央处设有第二通孔(16)，所述第二通孔(16)一侧设有限位孔(13)，所述转轴(8)位于转盘(15)内的一侧设有限位块，所述限位孔(13)与限位块匹配，所述限位块位于限位孔(13)内。
3.如权利要求1所述的纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，所述扇叶(9)上还设有第三通孔，所述第三通孔有若干个，所述第三通孔在扇叶(9)上均匀分布。
4.如权利要求1所述的纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，所述扇叶(9)的周边设有锯齿形固定块。
5.如权利要求1所述的纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，所述电机(1)为伺服电机(1)。
6.如权利要求1所述的纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，所述扇叶(9)的制作材料为玻璃钢复合材料。
7.如权利要求1所述的纳米二氧化钛催化剂分散装置，其特征在于，所述转轴(8)与釜体(3)、搅拌盘(6)的连接处均设有橡胶密封环。