一种青霉素废气处理装置的制作方法

本申请涉及药厂废气治理领域，尤其涉及一种青霉素废气处理装置，用于处理废气中的青霉素类物质。

背景技术：

青霉素作为一种常用抗生素，其本身对人体的毒性非常微弱，但是，人群中有1％-10％的个体对青霉素产生过敏反应。在青霉素类化学药物或半合成药物的合成过程中会产生含有青霉素类致敏物体的废气，若将这些废气直接排放至环境中，将可能对过敏群体造成致敏伤害。为了防止青霉素造成的危害，《药品生产质量管理规范(gmp)》(2010年版)(以下简称2010年新药典)规定：废气中青霉素有效成分含量浓度在1ppm以下。因此，对于工业中产生的含有青霉素的废气，需进行青霉素去除，在达到上述规定后，才可排放。

目前，处理含有青霉素废气的常用设备包括亚高效过滤器。亚高效过滤器采用超细玻璃纤维滤纸或聚丙烯滤纸作为滤材，在具体使用时，含有青霉素的废气与设备内的超细玻璃纤维滤纸或聚丙烯滤纸接触，超细玻璃纤维滤纸或聚丙烯滤纸将青霉素等杂质吸附在滤纸上，仅允许气体或粒径尺寸小于滤纸的滤网尺寸的颗粒通过。

在上述滤除青霉素的过程中，亚高效过滤器只滤除废气中粒径较大的青霉素，而无法滤除气态的或粒径较小的青霉素，因此，经过亚高效过滤器处理后的废气中，青霉素的含量浓度大于1ppm，不满足新药典的排放规定。

技术实现要素：

本申请提供了一种青霉素废气处理装置，以解决现有的青霉素废气处理装置处理的气体中含有青霉素气体的浓度大于1ppm，未达到新药典关于青霉素排放量的要求，且易对敏群体造成过敏伤害的问题。

本申请提供了一种青霉素废气处理装置，用于处理废气中的青霉素类物质，该装置包括废气处理箱，所述废气处理箱上设有进气口与排气口；

所述废气处理箱内由所述进气口通往所述排气口的废气流道中设置水幕喷头组件，所述水幕喷头组件将青霉素处理液喷射在所述废气处理箱内形成净化水幕，所述净化水幕将所述废气处理箱间隔成相对独立的第一腔室与第二腔室，其中所述第一腔室与所述进气口连通，所述第二腔室与所述排气口连通。

优选地，所述进气口与排气口分别位于所述废气处理箱顶部的两侧；

所述水幕喷头组件包括数个水幕喷头，多个所述水幕喷头组件沿垂直于所述进风口与排风口连线的方向、依次排列在所述废气处理箱顶部的内壁上。

优选地，所述废气处理箱内设有沉液池，所述沉液池用于盛放青霉素处理液；

所述水幕喷头组件通过一循环泵将所述沉液池内的青霉素处理液喷射在所述废气处理箱内。

优选地，所述青霉素处理液为浓度为1-3mol/l的碱溶液。

优选地，所述废气处理箱上还设有投放碱料的投料口。

优选地，所述废气处理箱上还设有进水口。

优选地，所述废气处理箱上还设有废液口。

本申请提供了一种青霉素废气处理装置，通过水幕喷头组件将由青霉素处理液喷洒成净化水幕，净化水幕将废气处理箱间隔成相对独立的第一腔室与第二腔室，其中所述第一腔室与所述进气口连通，所述第二腔室与所述排气口连通。在实际使用时，青霉素废气由进气口通往排气口的废气流道中，必须经过由青霉素处理液形成的净化水幕，在该过程中，青霉素处理液可沉淀废气中的青霉素以及其他颗粒，同时，青霉素处理液通过化学反应，有效的分解了废气中残留的青霉素有效成分。

采用本申请提供的青霉素废气处理装置处理含有青霉素的废气，对废气中的青霉素同时进行了颗粒沉淀与化学分解两方面的处理，处理后的废气中，青霉素有效成分含量浓度在1ppm以下，满足了新药典对青霉素废气的排放要求，同时，也解决了由于青霉素废气中青霉素浓度过高易造成过敏群体过敏伤害的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请的一种青霉素废气处理装置的一个实施例的结构示意图；

图2为本申请的一种青霉素废气处理装置的另一实施例的结构示意图。

图1-2中的标号分别表示为：1-废气处理箱，11-进气口，12-排气口，13-第一腔室，14-第二腔室，15-沉液池，16-投料口，17-进水口，18-废液口，2-水幕喷头组件，21-水幕喷头，3-循环泵。

具体实施方式

本申请提供了一种青霉素废气处理装置，用于处理废气中的青霉素类物质。

图1为本申请的一种青霉素废气处理装置的一个实施例的结构示意图，如图1所示，青霉素废气处理装置包括废气处理箱1，废气处理箱1上设有进气口11与排气口12。本实施例中，进气口11与排气口12分别位于废气处理箱1顶部的两侧，待处理的青霉素废气从进气口进入废气处理箱，在废气处理箱内处理后，由排气口排出。

在废气处理箱1内，由进气口11通往排气口12的废气流道上设置水幕喷头组件2，水幕喷头组件2将青霉素处理液喷射在废气处理箱1内形成净化水幕。净化水幕将废气处理箱1间隔成相对独立的第一腔室13与第二腔室14，其中第一腔室13与进气口11连通，第二腔室14与排气口12连通。

净化水幕将废气处理箱间隔成相对独立的第一腔室13与第二腔室14，在此，对第一腔室13与第二腔室14的相对独立状态进行说明，当无废气通入废气处理箱时，第一腔室与第二腔室保持各自独立，第一腔室与第二腔室之间无气流流动；当有废气通入废气处理箱时，废气可穿过净化水幕从第一腔室进入第二腔室，第一腔室与第二腔室之间存在气流流动。

为使形成的净化水幕密集、均匀，每个水幕喷头组件2包括数个水幕喷头21，数个水幕喷头以“一”字形依次排列设置在废气处理箱1的顶壁、侧壁或底壁上。在实际使用时，本领域技术人员可根据每个水幕喷头的射程范围以及废气处理箱的宽度，相应的调整水幕喷头的数量以及相邻水幕喷头的间距。例如，水幕喷头组件的射程直径为1.5m，废气处理箱的宽度为3m，则可选择设置2-4个水幕喷头，相邻水幕喷头的间距可选择设置为0.8-1.4m。

每个水幕喷头上设有多个均匀分布的喷孔，本领域技术人员可根据实际需要，设置喷孔的孔径以及相邻喷孔的间距，例如，喷孔的孔径为1.5mm，相邻喷孔的间距为1cm。

水幕喷头组件形成的净化水雾将进气口与排气口间隔分别在两个相对独立的腔室。在实际使用时，青霉素废气由进气口11通往排气口12的过程中，青霉素废气将与净化水幕进行接触，净化水幕一方面沉淀废气中的青霉素颗粒，另一方面通过化学反应分解废气中残留的青霉素气体。

本实施例中，将水幕喷头组件2设置在废气处理箱1顶壁上，多个水幕喷头组件沿垂直于进风口与排风口连线的方向依次排列在顶壁的内侧。在具体使用时，水幕喷头组件喷射形成的净化水幕将废气处理箱1间隔成第一腔室13与第二腔室14，进气口11与第一腔室13连通，排气口12与第二腔室14连通。青霉素废气从第一腔室流入第二腔室的过程中，青霉素废气需穿过由青霉素处理液形成的净化水幕，在此过程中，净化水幕可有效的处理废气中的青霉素，其处理过程具体包括：净化水幕沉淀废气中的青霉素颗粒以及其他颗粒，同时，净化水幕通过化学反应分解废气中残留的青霉素气体。

废气处理箱1内设有沉液池15，沉液池15内盛放青霉素处理液。青霉素处理液通过水幕喷头组件在废气处理箱内形成净化水幕，之后，青霉素处理液将落入废气处理箱下端的沉液池。为了循环使用青霉素处理液，本申请的青霉素废气处理装置还包括一循环泵3，循环泵一端连接水幕喷头组件，另一端通过一连接管连通沉液池。在实际使用时，循环泵将沉液池内的青霉素处理液输送至水幕喷头组件，水幕喷头组件将循环泵输送的青霉素处理液在废气处理箱内形成净化水幕，形成净化水幕的青霉素处理液最终降落在沉液池中，完成一次循环过程。

本申请中，青霉素处理液为碱性溶液，当然，该碱性溶液的浓度应当满足可以充分净化青霉素废气中的青霉素成分，同时，不可对废气处理箱的内壁以及箱体内其他零件造成腐蚀，例如，青霉素处理液可采用1-3mol/l的naoh溶液。

经过长时间或多次的循环使用后，青霉素处理液的浓度将发生降低，从而导致其净化废气的能力降低，为了确保净化效果，需要定时添加或更换新的青霉素处理液。本申请中，废气处理箱1上还设有投料口16，通过投料口可投放新的青霉素处理液或用于配制青霉素处理液的碱料，例如naoh粉末。

为了配制新的青霉素处理液，废气处理箱1上还设有进水口17，进水口17连通沉液池15。在配置新的青霉素处理液时，可通过进水口向沉液池内输送清洁水。

另外，为了排放废弃的青霉素处理液，废气处理箱1上还设有废液口18，通过废液口，可排放废弃的青霉素处理液。

图2为本申请的一种青霉素废气处理装置的另一实施例的结构示意图，如图2所示，为形成的净化水雾更加密实、均匀，设置了多组相互平行的水幕喷头组件。本实施例中，设置了相互平行的3组水幕喷头组件。本实施例中的其他部件与上一实施例中的相同，此处不进行赘述。

本申请提供了一种青霉素废气处理装置，通过水幕喷头组件将由青霉素处理液喷洒成净化水幕，净化水幕将废气处理箱间隔成相对独立的第一腔室与第二腔室，其中第一腔室与进气口连通，第二腔室与排气口连通。在实际使用时，青霉素废气由进气口通往排气口的废气流道中，必须经过由青霉素处理液形成的净化水幕，在该过程中，青霉素处理液可沉淀废气中的青霉素以及其他颗粒，同时，青霉素处理液通过化学反应，有效的分解了废气中残留的青霉素有效成分。

采用本申请提供的青霉素废气处理装置处理含有青霉素的废气，对废气中的青霉素同时进行了颗粒沉淀与化学分解两方面的处理，处理后的废气中，青霉素有效成分含量浓度在1ppm以下，满足了新药典对青霉素废气的排放要求，同时，也解决了由于青霉素废气中青霉素浓度过高易造成过敏群体过敏伤害的问题。

以上所述的本申请实施方式并不构成对本申请保护范围的限定。