1.一种用于氯羟吡啶合成的曝气反应装置，其特征在于：包括装置外壳，以及位于装置外壳内部的电磁搅拌机构和反应罐，所述电磁搅拌机构设置于所述装置外壳的底部，所述反应罐设置于所述电磁搅拌机构的上部；所述装置外壳底部还设置有固定板，所述固定板包裹于所述电磁搅拌机构和反应罐外周；所述反应罐底部设置有隔离板，所述隔离板为微孔板，所述隔离板下部设置有磁性搅拌子，且所述磁性搅拌子位于所述电磁搅拌机构的正上方，所述反应罐上端设置有加液口，所述加液口通过螺纹盖实现密闭，所述反应罐中间设置有的通气管，所述通气管穿过隔离板，一端通至反应罐外部，另一端通至磁性搅拌子上方。
2.根据权利要求1所述用于氯羟吡啶合成的曝气反应装置，其特征在于：所述反应罐侧面还设置有回流管、位于回流管上的循环泵和位于回流管顶端的喷淋装置，所述回流管下端连接至反应罐底端，上端连接至反应罐上端，所述喷淋装置位于反应罐内侧，可实现水平方向喷淋。
3.根据权利要求2所述用于氯羟吡啶合成的曝气反应装置，其特征在于：所述回流管底端设置有过滤块。