一种用于化妆品生产的均质装置的制作方法

本实用新型涉及化妆品生产加工设备，具体涉及一种用于化妆品生产的均质装置。

背景技术：

均质也称匀浆，是使悬浮液（或乳化液）体系中的分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀性的作用。均质是食品或化妆品行业生产中经常要用到的一项技术。在化妆品进行大批量生产之前，一般都要进行试样生产。另外，当今定制的小批量生产的化妆品也越来越多。若试样生产或小批量的化妆品生产都直接使用大型设备进行生产，无疑会造成极大的资料浪费。因此，化妆品试样生产或小批量生产的均质过程一般是将各种原料在反应烧杯中调配好，然后将反应烧杯放到均质装置上，再由均质装置对反应烧杯中的乳化液进行均质处理。一般的做法是人为地将反应烧杯固定，再由均质刀头对乳化液进行均质操作，但均质过程一般需要2分钟左右，这无疑造成了大量的人力资源浪费。另外，均质过程中均质刀头的转速极快，人工拿着烧杯可能会发生烧杯脱手，造成意外事故。因此亟需设计一种可固定不同规格烧杯的均质装置。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种可固定不同规格的反应烧杯，有效提高生产效率的均质装置。

为实现上述目的，本实用新型提供的用于化妆品生产的均质装置包括工作台、空心立柱和均质刀头。空心立柱设置在工作台的上表面，空心立柱上安装有可进行升降调节的悬臂，悬臂一端安装有驱动装置，均质刀头连接至驱动装置。工作台的上表面还设置有用于夹紧反应烧杯的夹紧装置，并且夹紧装置位于均质刀头的正下方。

由此可见，将化妆品原料在反应烧杯中调配好，然后将反应烧杯放到夹紧装置上，再将悬臂沿空心立柱向下移动，使均质刀头置于反应烧杯之中，并固定住悬臂。开启驱动装置，均质刀头即可对反应烧杯中的化妆品乳化液进行均质操作。整个过程无需人为地扶住反应烧杯，在均质装置进行均质操作的过程中，操作人员可以进行其他工作如准备其他的反应烧杯，有效地提高了生产的效率。另外，由于不需人工固定反应烧杯，不必担心均质刀头因反应烧杯脱手从而对工作人员造成人身伤害，保障了工作人员的人身安全。

优选地，夹紧装置包括底板、齿轮、第一齿条、第二齿条、第一侧板、第二侧板、承接板、第一夹板和第二夹板。底板上设有第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽。齿轮安装在第三凹槽与第四凹槽之间，即底板的中间位置。第一齿条安置在第一凹槽内并与齿轮配合，第一齿条与第一侧板固定连接。第一侧板还与固定设置在第三凹槽内的第一弹簧连接。第二齿条安置在第二凹槽内并与齿轮配合，第二齿条与第二侧板固定连接。第二侧板还与固定设置在第四凹槽内的第二弹簧连接。所述承接板安装在所述底板上方。第一夹板与第一侧板固定连接并且置于承接板的上方，第二夹板与第二侧板固定连接并且置于承接板的上方。

由此可见，当反应烧杯放置在承接板上方时，烧杯推动第一夹板和第二夹板向外伸出，从而使第一侧板和第二侧板向外伸出，并带动第一齿条和第二齿条向外伸出。此时第一弹簧和第二弹簧均处于拉伸状态，第一弹簧和第二弹簧分别对第一夹板和第二夹板产生反作用力，从而使得第一夹板和第二夹板共同作用，夹紧反应烧杯。齿轮使得第一齿条和第二齿条保持稳定状态，即夹紧装置能保持在稳定的状态。一个夹紧装置就可以稳定地夹紧不同规格的反应烧杯，不必配置更多的均质装置，有效节约了生产成本。

优选地，悬臂上设置有松紧手柄。

由此可见，调节松紧手柄，即可快速地调节悬臂的高度，即调节均质刀头的高度，减少了操作时间，提高了生产的效率。

优选地，承接板上设有圆形阶梯槽。

由此可见，反应烧杯可放置在承接板的圆形阶梯槽内。不同直径的反应烧杯落入不同直径的圆形槽内，使反应烧杯更稳固放置在夹紧装置上，使均质过程更加地安全可靠，保证了工作人员的安全。

优选地，第一夹板的一端为圆弧状并设置有齿状凸起，第二夹板的一端亦为圆弧状并设置有齿状凸起。

由此可见，第一夹板和第二夹板的一端均为圆弧状并设有齿状凸起，使第一夹板和第二夹板更稳固地夹紧反应烧杯，使均质过程更加地安全可靠，保证了工作人员的安全。

附图说明

图1是本实用新型实施例第一视角的结构图。

图2是本实用新型实施例第二视角的结构图。

图3是本实用新型实施例中夹紧装置的结构图。

图4是本实用新型实施例中夹紧装置的内部结构图。

图5是实用新型实施例中的夹紧装置的结构分解图。

以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。为了更好地说明本实施例，附图某些附件会有省略、放大或者缩小；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。

具体实施方式

本实用新型用于化妆品生产的均质装置是一种可固定不同规格的反应烧杯，高效地进行小批量生产的均质装置。

参见图1和图2，本实用新型提供的用于化妆品生产的均质装置包括工作台1、空心立柱2和均质刀头3。空心立柱2设置在工作台1的上表面，空心立柱2上安装有可进行升降调节的悬臂4。悬臂4的一端设有通孔（图中未示出），悬臂4上还设有通槽41，并且通槽41自悬臂4的端顶沿轴向延伸至通孔。悬臂4上还设有一个贯穿通槽41的螺纹孔（图中未示出）。这样，外力对通槽41的作用使得通孔的直径大小可产生细微变化。悬臂4通过通孔套装在空心立柱2上，再由螺栓紧固件42通过螺纹孔将悬臂4锁紧。螺栓紧固件42的螺帽一端设有松紧手柄43，通过松紧手柄43的旋转即可改变悬臂4的应力，即改变悬臂4上的通孔的直径，从而使得悬臂4可以在立柱2上滑动，改变悬臂4的高度。悬臂4的另一端安装有驱动装置5，驱动装置5包括旋转电机（图中未示出）、联轴器（图中未示出）等。驱动装置5通过导线51连接至工作台1的内部。均质刀头3连接至驱动装置5，并安装在悬臂4的下方。由此可见，通过操作松紧手柄43就可以调节均质刀头3的工作高度。工作台1的上表面还设置有用于夹紧反应烧杯的夹紧装置6，并且夹紧装置6位于均质刀头3的正下方。

将装有化妆品原料的反应烧杯进行均质操作前，先调节松紧手柄43，将均质刀头3提高，再将反应烧杯防止到夹紧装置6上面，然后在调节松紧手柄43，将均质刀头3降低至反应烧杯中。开启旋转电机的电源开关11，并通过对调速开关12和正反转开关13控制，控制均质刀头3对反应烧杯中的化妆品原料进行均质操作。均质操作完成，断电，抬高均质刀头3，移走反应烧杯，即完成均质过程。由于这个过程不需要人工将反应烧杯固定，不必担心因发生反应烧杯打滑等现象使得均质刀头对工作人员造成人身安全，而且由于均质操作时间较长，工作人员在均质装置进行均质的操作过程中可以进行其他工序的准备或操作，提高了生产效率。

为了使夹紧装置6能适应不同直径规格的反应烧杯，减少设备的额外投入，夹紧装置6采用自夹紧结构。夹紧装置6包括底板61、齿轮62、第一齿条63、第二齿条64、第一侧板65、第二侧板66、承接板67、第一夹板68和第二夹板69。

底板61采用方形结构，底板61上设有第一凹槽611、第二凹槽612、第三凹槽613和第四凹槽614。第一凹槽611和第二凹槽612对称地设置在底板61的两侧。第三凹槽613和第四凹槽614对称地设置底板61的中心线位置。第三凹槽613和第四凹槽614之间，即底板61的正中间处留有活动空间。齿轮62安装在第三凹槽613与第四凹槽614之间，即底板61的正中间位置。第一齿条63安置在第一凹槽611内并与齿轮62配合，并且第一齿条63的高度低于第一凹槽611的深度，第一齿条63与第一侧板65固定连接。第一侧板65表面固定设置有第一弹簧连接件651。第三凹槽613内固定设置有第二弹簧连接件615和第一弹簧616。第一弹簧616的一端与第一弹簧连接件651连接，另一端与第二弹簧连接件615连接。同样的，第二齿条64安置在第二凹槽612内并与齿轮62配合，并且第二齿条64的高度低于第二凹槽612的深度，第二齿条64与第二侧板66固定连接。第二侧板66表面固定设置有第三弹簧连接件661。第四凹槽614内固定设置有第四弹簧连接件617和第二弹簧618。第二弹簧618的一端与第三弹簧连接件661连接，另一端与第四弹簧连接件617连接。

由此可见，以图4所示方向为例，使用外力将第一侧板65向外侧伸出，第一齿条63带动齿轮62顺时针转动，继而带动第二齿条64也向外伸出，即第二侧板66向外伸出。同时，第一弹簧616和第二弹簧618都处于拉伸状态，并分别对第一侧板65和第二侧板66提供一个反作用弹力。当外力消失，第一弹簧616和第二弹簧618将第一侧板65和第二侧板66拉回。整个运动过程中，第一凹槽611、第二凹槽612、第三凹槽613和第四凹槽614的限位作用可保证相应运动模块运动的平衡稳定性。

承接板67安装在底板61上方，承接板67设置为与底板61相对应的方形结构，承接板67的上表面设有圆形阶梯孔671。不同直径的反应烧杯放到圆形阶梯孔671时，反应烧杯根据其自身的直径落入到相同或相近直径的圆孔之中，使反应烧杯可以更稳定地置于承接板67上面。第一夹板68与第一侧板65固定连接并且置于承接板67的上方。同样，第二夹板69与第二侧板66固定连接并且置于承接板67的上方。第一夹板68和第二夹板69的内侧一端均设计为圆弧状结构并设置有齿状凸起。这样可以使第一夹板68和第二夹板69更好地夹紧反应烧杯。

由此可见，人工使第一夹板68和第二夹板69向外伸出，将反应烧杯放置在承接板67上；松手，第一夹板68和第二夹板69回收，夹紧反应烧杯。夹紧装置就可以稳定地夹紧不同规格的反应烧杯，不必配置更多的均质装置，有效节约了生产成本。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，在以上说明的基础上，本实用新型还可以做出其它的不同形式的变动或者改进，例如将夹紧装置由方形结构改为圆形结构、将调节悬臂高度的方法由松动手柄来调整改为利用气压传动调整等等。凡在本实用新型精神和原则之内所做的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。