一种工业废气的清洁处理装置的制作方法

文档序号:16958848发布日期:2019-02-22 22:37阅读:409来源:国知局
一种工业废气的清洁处理装置的制作方法

本实用新型属于烟气处理技术领域,具体涉及一种工业废气的清洁处理装置。



背景技术:

工业污染是指工业生产过程中所形成的废气、废水和固体排放物对环境的污染。污染主要是由生产中的“三废”(废水、废气、废渣)及各种噪音造成的,可分为废水污染、废气污染、废渣污染、噪音污染。其中工业废气污染,随着工业的高速发展,工业生产中会产生大量的废气,如果不能得到较好的处理就排放到到空气中,不仅对环境造成污染,而且严重危害人体的身体健康。工业废气污染来源大部分是工业烧锅炉,由于锅炉烟气中含有大量粉尘,因此需经过除尘及其他净化再排入大气,现有的除尘装置,多采用喷淋水的方式除尘,但是由于喷淋方式所限,喷出的雾状水和烟气接触不充分,导致除尘效果较差,并且喷出的水雾无法形成隔断膜,导致部分烟气未和雾状水接触而直接排入大气中,造成环境污染。



技术实现要素:

为了解决现有技术的不足本实用新型提供一种工业废气的清洁处理装置,该结构除尘、去除有害物质的效果好。

为实现上述目的,本实用新型采取如下技术方案:

本实用新型提供了一种工业废气的清洁处理装置,包括工业废气输入管道、一级沉淀室、二级沉淀室、旋风分离器、集尘室和喷淋室,所述工业废气输入管道上设有开关阀,一级沉淀室的入口与工业废气输入管道相通,一级沉淀室的出口与二级沉淀室的入口相通,二级沉淀室的出口与旋风分离器的入口相通,旋风分离器的下部出口与集尘室相通,旋风分离器的上部出口通过进气管道与喷淋室相通;所述喷淋室的顶端设有水喷头,水喷头通过软管与喷淋室外侧的进水管相通,喷淋室的底端一侧设有污泥排出口,污泥排出口上设有封堵。

根据上述的工业废气的清洁处理装置,所述一级沉淀室与二级沉淀室的内部均设有吸尘板,吸尘板上设有防堵塞孔。

根据上述的工业废气的清洁处理装置,所述旋风分离器的底部设有机架,机架的下部设有集尘室。

根据上述的工业废气的清洁处理装置,所述喷淋室内部的进气管道上设有出气孔。

根据上述的工业废气的清洁处理装置,所述工业废气输入管道的底部外侧壁上固定设有立柱,立柱焊接在一级沉淀室的外侧壁上。

根据上述的工业废气的清洁处理装置,所述工业废气输入管道的外侧壁上包覆有保温层。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果:

1.本实用新型包括工业废气输入管道、一级沉淀室、二级沉淀室、旋风分离器、集尘室和喷淋室,所述工业废气输入管道上设有开关阀,一级沉淀室的入口与工业废气输入管道相通,一级沉淀室的出口与二级沉淀室的入口相通,二级沉淀室的出口与旋风分离器的入口相通,旋风分离器的下部出口与集尘室相通,旋风分离器的上部出口通过进气管道与喷淋室相通;所述喷淋室的顶端设有水喷头,水喷头通过软管与喷淋室外侧的进水管相通,喷淋室的底端一侧设有污泥排出口,污泥排出口上设有封堵;该结构中的一级沉淀室和二级沉淀室用于初级除尘和二级除尘,旋风分离器用于将含尘气体气尘分离,喷淋室用于三级除尘及去除烟气中的有毒有害气体。

2.本实用新型结构所述喷淋室内部的进气管道上设有出气孔,出气孔的设置便于将进气管道的气体均匀分布在喷淋室;所述工业废气输入管道的底部外侧壁上固定设有立柱,立柱焊接在一级沉淀室的外侧壁上,该结构有效地将工业废气输入管道固定在一级沉淀室上,防止进气后工业废气输入管道的晃动。

3.本实用新型结构除尘、去除有害物质的效果好。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1所示,本实用新型提供了一种工业废气的清洁处理装置,包括工业废气输入管道1、一级沉淀室2、二级沉淀室3、旋风分离器4、集尘室5和喷淋室6,工业废气输入管道1上设有开关阀7,一级沉淀室2的入口与工业废气输入管道1相通,一级沉淀室2的出口与二级沉淀室3的入口相通,一级沉淀室2与二级沉淀室3的内部均设有吸尘板8,吸尘板8上设有防堵塞孔9,二级沉淀室3的出口与旋风分离器4的入口相通,旋风分离器4的下部出口与集尘室5相通,旋风分离器4的上部出口通过进气管道10与喷淋室6相通,旋风分离器4的底部设有机架12,机架12的下部设有集尘室5,喷淋室6内部的进气管道上设有出气孔13;所述喷淋室6的顶端设有水喷头14,水喷头14通过软管与喷淋室外侧的进水管15相通,喷淋室6的底端一侧设有污泥排出口16,污泥排出口16上设有封堵17。

为了防止进气后工业废气输入管道的晃动,所述工业废气输入管道的底部外侧壁上固定设有立柱,立柱焊接在一级沉淀室的外侧壁上;为了减少热量散失所述工业废气输入管道的外侧壁上包覆有保温层。

上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明,但是本专利并不限于上述实施方式,在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。

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