一种纳米技术设备的粉碎室的制作方法

文档序号:16773488发布日期:2019-01-29 18:37阅读:357来源:国知局
一种纳米技术设备的粉碎室的制作方法

本实用新型涉及纳米技术设置的技术领域,特指一种纳米技术设备的粉碎室。



背景技术:

现有的粉碎机在将物料粉碎的过程中,常出现粉碎原料粉碎质量低、需要进行二次、三次甚至多次粉碎才能获得细度符合要求的超微细粉,粉碎机的粉碎百分数低,生产效率与经济效益较低,难以满足市场要求。



技术实现要素:

针对以上问题,本实用新型提供了一种纳米技术设备的粉碎室,其粉碎百分数高,且质量稳定,经济效益和社会效益显著提高。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:

一种纳米技术设备的粉碎室,包括粉碎腔与配气盘,粉碎腔上部设有进料口,粉碎腔下部设有出料口,配气盘上连接有弯管,弯管上设有喷嘴,弯管通过喷嘴连接于粉碎腔的内腔。

进一步而言,所述配气盘包括储存气体、分配气体压力以及流量的圆盘结构,配气盘上设有进气口。

进一步而言,所述配气盘通过弯管接口连接有四个弯管,且四个弯管均匀对称设于配气盘上。

进一步而言,所述喷嘴包括拉瓦尔式喷管,喷嘴采用W18Cr4V材料制成。

进一步而言,所述粉碎腔侧壁上设有观察窗。

进一步而言,所述粉碎腔包括不锈钢材料制成的圆柱体结构。

本实用新型有益效果:

本实用新型采用这样的结构设置,其工作原理是通过配气盘分配的压力气体送入弯管,再由弯管上的喷嘴输入粉碎腔内,其中喷嘴采用拉瓦尔式喷管,气流在被喷射的过程中,由于反作用力的作用,在扩张管道的曲面上得到了微波,这个微波又正向作用在喷射的气流中,使喷射的气流密度增加,由于气流密度的作用,使喷射中的气流速度更快,喷射的柱截面更大,在对喷的区域内高速的气流喷射形成一定负压能,粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦,不断形成产生超微细粉,其粉碎百分数高,且质量稳定,经济效益和社会效益显著提高。

附图说明

图1是本实用新型纸尿裤芯体结构示意图;

图2是配气盘结构俯视图。

1.粉碎腔;2.配气盘;3.弯管;4.喷嘴;5.观察窗;6.进料口;7.出料口;8.进气口;9.弯管接口。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型的技术方案进行说明。

如图1和图2所示,本实用新型所述一种纳米技术设备的粉碎室,包括粉碎腔1与配气盘2,粉碎腔1上部设有进料口6,粉碎腔1下部设有出料口7,配气盘2上连接有弯管3,弯管3上设有喷嘴4,弯管3通过喷嘴4连接于粉碎腔1的内腔。以上所述构成本实用新型基本结构。

本实用新型采用这样的结构设置,其工作原理是:粉体进料口6进入粉碎腔1内,通过配气盘2分配的压力气体送入弯管3,再由弯管3上的喷嘴4输入粉碎腔1内,气体的动能转化为粉碎能,粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦,不断形成产生超微细粉,最后从出料口7排出,其粉碎百分数高,且质量稳定。

更具体而言,所述配气盘2包括储存气体、分配气体压力以及流量的圆盘结构,配气盘2上设有进气口8。采用这样的结构设置,通过进气口8将气体输入配气盘2中进行气体的储存以及分配。

更具体而言,所述配气盘2通过弯管接口9连接有四个弯管3,且四个弯管3均匀对称设于配气盘2上。采用这样的结构设置,使喷入粉碎腔1内的气体更均匀,且能形成对流区域。

更具体而言,所述喷嘴4包括拉瓦尔式喷管,喷嘴4采用W18Cr4V材料制成。采用这样的结构设置,气流在被喷射的过程中,由于反作用力的作用,在扩张管道的曲面上得到了微波,这个微波又正向作用在喷射的气流中,使喷射的气流密度增加,由于气流密度的作用,使喷射中的气流速度更快,喷射的柱截面更大,在对喷的区域内高速的气流喷射形成一定负压能,粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦,不断形成产生超微细粉,其粉碎百分数高,且质量稳定,喷嘴4采用W18Cr4V材料制成具有高硬度和耐磨性,使用寿命长。

更具体而言,所述粉碎腔1侧壁上设有观察窗5。采用这样的结构设置,通过观察窗5便于得知粉碎腔1内的粉体状况。

更具体而言,所述粉碎腔1包括不锈钢材料制成的圆柱体结构。

实际应用中,本实用新型对粉体颗粒进行加工粉碎,质量稳定,粉碎比可达700~1500,经济效益和社会效益显著提高。

以上结合附图对本实用新型的实施例进行了描述,但本实用新型并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下,在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,这些均属于本实用新型的保护范围之内。

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