一种废气处理装置的制作方法

文档序号:17038263发布日期:2019-03-05 18:26阅读:315来源:国知局
一种废气处理装置的制作方法

本实用新型公开一种废气处理装置,属于废气处理技术领域。



背景技术:

工业生产排放的废气,常对环境和人体健康产生有害的影响,在排入大气前应该采取净化措施处理,使之符合废气排放标准的要求,这一过程被称为废气净化。在印染生产过程中,机器产生粉尘颗粒,染化料挥发出刺激性气体,严重影响人体健康。目前市场上的废气处理装置的净化效果不佳,还不能在处理后对气体的湿度进行调整。



技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的是为了提供一种废气处理装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案来实现的:

一种废气处理装置,包括隔离吸附区、光氧催化区、离子加湿区,其特征是:所述隔离吸附区、光氧催化区、离子加湿区的上侧均设置有太阳能储能板,所述废气处理装置的一侧设置有操作箱,所述隔离吸附区的一侧设置有进气管,所述进气管的一侧设置有过滤毛絮、灰尘、大颗粒悬浮物的第一层过滤网,所述第一层过滤网的一侧设置有祛除微小颗粒的第二层过滤网,所述第二层过滤网的一侧设置有吸附有害物质的第三层活性炭网,所述第三层活性炭网的一侧设置有吸气扇,所述吸气扇的一侧设置有百叶窗,所述百叶窗远离吸气扇的一侧设置有反光膜,所述隔离吸附区与光氧催化区连通,所述光氧催化区的内部设置有上下对称分布的高能紫外线灯管,所述高能紫外线灯管的中部设置有若干孔洞的二氧化钛板,所述光氧催化区的内壁上设置有若干二氧化钛凸起,所述高能紫外线灯管的一侧设置有臭氧发生器,所述离子加湿区与光氧催化区连通,所述离子加湿区的一侧设置有∩形通道,所述∩形通道的内部左侧设置有加热棒,所述∩形通道的内部右侧设置有冷却棒,所述冷却棒的下端一侧设置有负离子通道,所述负离子通道的下方设置有负离子发生器,所述负离子通道的上侧设置有大倾角的轴流风扇,所述离子加湿区的内壁上设置有湿度传感器,所述轴流风扇的上侧设置有加湿器,所述离子加湿区的一侧设置有出气管。

作为优选:所述第一层过滤网的孔径大于第二层过滤网的孔径。

作为优选:所述第一层过滤网与第二层过滤网之间设置有风向向下的涡轮风扇一,所述涡轮风扇一的下侧设置有隔离网一,所述隔离网一的下侧设置有吸附垫一。

作为优选:所述第二层过滤网与第三层活性炭网之间设置有风向向下的涡轮风扇二,所述涡轮风扇二的下侧设置有隔离网二,所述隔离网二的下侧设置有吸附垫二。

作为优选:所述吸气扇的中部设置有两个水雾喷口,所述水雾喷口对准吸气扇的扇叶,所述吸气扇的下侧设置有排水口一。

作为优选:所述冷却棒的下侧设置有隔离块,所述隔离块的一侧设置有排水口二。

本实用新型的有益效果:

吸气扇运转,印染所产生的废气从进气管进入,废气经过第一层过滤网,过滤掉毛絮、灰尘和大颗粒悬浮物,再经过第二层过滤网,过滤掉微小颗粒,然后经过第三层活性炭网,活性炭吸附有害物质并且消除染化料挥发的部分臭味,废气经过吸气扇穿过百叶窗进入光氧催化区,高能紫外线灯管发射C波段的紫外线光束,分解废气中的氧分子产生游离氧,进入臭氧发生器,同时二氧化钛板配合二氧化钛凸起在受到紫外线光照射,生成化学活泼性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,攻击有机物,达到降解有机物的作用,二氧化钛属于非溶出型材料,在分解有机污染物和杀灭菌的同时,自身不分解、不溶出,光催化作用持久,臭氧发生器产生臭氧,进入离子加湿区,臭氧遇加热棒后加热,快速化学反应为氧气,由于热气体的密度大于冷气体的密度,热气体向上升,从∩形通道的上方进入∩形通道的右侧,接触冷却棒,冷却棒对热气体降温,形成常温的空气,空气从冷却棒的下端一侧进入负离子通道,负离子发生器用高压电晕增加空气中负离子成份,处理空气中多余的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,大倾角的轴流风扇将空气向上传递,湿度传感器对空气进行检测,若空气在设定湿度范围直接从出气管排出,若空气过于干燥,加湿器对空气进行加湿,使空气达到要求的湿度,废气经上述处理后能达到正常的排放要求,且湿度与外界环境一致,冷却管的下侧设置有隔离块,保证热气体与冷却棒接触后,产生的水珠不会流向负离子通道,而是从排水口二排出,涡轮风扇一和涡轮风扇二能定时运转,产生向下的气流,清除第一层过滤网、第二层过滤网和第三层活性炭网上的印染污染物,使印染污染物黏附于吸附垫一和吸附垫二上,吸气扇的中部设置有两个水雾喷口,定时向扇叶上喷射水柱,并利用吸气扇的离心力作用,使水珠包覆印染污染物一起离开扇叶,并从排水口一排出,从而达到对隔离吸附区的清洁作用,保证隔离吸附区的过滤效果。

附图说明

图1为本实用新型一种废气处理装置的结构示意图;

图2为图1中A处的放大图。

附图标记:1、进气管;2、太阳能储能板;3、第一层过滤网;4、涡轮风扇一;5、隔离网一;6、第二层过滤网;7、涡轮风扇二;8、第三层活性炭网;9、吸气扇;10、高能紫外线灯管;11、二氧化钛凸起;12、光氧催化区;13、臭氧发生器;14、加热棒;15、∩形通道;16、冷却棒;17、离子加湿区;18、湿度传感器;19、加湿器;20、操作箱;21、出气管;22、轴流风扇;23、负离子发生器;24、隔离块;25、排水口二;26、二氧化钛板;27、排水口一;28、吸附垫二;29、吸附垫一;30、水雾喷口;31、隔离吸附区;32、负离子通道。

具体实施方式

参照图1和图2对本实用新型一种废气处理装置做进一步说明。

一种废气处理装置,包括隔离吸附区31、光氧催化区12、离子加湿区17,其特征是:所述隔离吸附区31、光氧催化区12、离子加湿区17的上侧均设置有太阳能储能板2,所述废气处理装置的一侧设置有操作箱20,所述隔离吸附区31的一侧设置有进气管1,所述进气管1的一侧设置有过滤毛絮、灰尘、大颗粒悬浮物的第一层过滤网3,所述第一层过滤网3的一侧设置有祛除微小颗粒的第二层过滤网6,所述第二层过滤网6的一侧设置有吸附有害物质的第三层活性炭网8,所述第三层活性炭网8的一侧设置有吸气扇9,所述吸气扇9的一侧设置有百叶窗,所述百叶窗远离吸气扇9的一侧设置有反光膜,所述隔离吸附区31与光氧催化区12连通,所述光氧催化区12的内部设置有上下对称分布的高能紫外线灯管10,所述高能紫外线灯管10的中部设置有若干孔洞的二氧化钛板26,所述光氧催化区12的内壁上设置有若干二氧化钛凸起11,所述高能紫外线灯管10的一侧设置有臭氧发生器13,所述离子加湿区17与光氧催化区12连通,所述离子加湿区17的一侧设置有∩形通道15,所述∩形通道15的内部左侧设置有加热棒14,所述∩形通道15的内部右侧设置有冷却棒16,所述冷却棒16的下端一侧设置有负离子通道32,所述负离子通道32的下方设置有负离子发生器23,所述负离子通道32的上侧设置有大倾角的轴流风扇22,所述离子加湿区17的内壁上设置有湿度传感器18,所述轴流风扇22的上侧设置有加湿器19,所述离子加湿区17的一侧设置有出气管21;所述第一层过滤网3的孔径大于第二层过滤网6的孔径,所述第一层过滤网3与第二层过滤网6之间设置有风向向下的涡轮风扇一4,所述涡轮风扇一4的下侧设置有隔离网一5,所述隔离网一5的下侧设置有吸附垫一29,所述第二层过滤网6与第三层活性炭网8之间设置有风向向下的涡轮风扇二7,所述涡轮风扇二7的下侧设置有隔离网二,所述隔离网二的下侧设置有吸附垫二28,所述吸气扇9的中部设置有两个水雾喷口30,所述水雾喷口30对准吸气扇9的扇叶,所述吸气扇9的下侧设置有排水口一27,所述冷却棒16的下侧设置有隔离块24,所述隔离块24的一侧设置有排水口二25。

吸气扇9运转,印染所产生的废气从进气管1进入,废气经过第一层过滤网3,过滤掉毛絮、灰尘和大颗粒悬浮物,再经过第二层过滤网6,过滤掉微小颗粒,然后经过第三层活性炭网8,活性炭吸附有害物质并且消除染化料挥发的部分臭味,废气经过吸气扇9穿过百叶窗进入光氧催化区12,高能紫外线灯管10发射C波段的紫外线光束,分解废气中的氧分子产生游离氧,进入臭氧发生器13,同时二氧化钛板26配合二氧化钛凸起11在受到紫外线光照射,生成化学活泼性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,攻击有机物,达到降解有机物的作用,二氧化钛属于非溶出型材料,在分解有机污染物和杀灭菌的同时,自身不分解、不溶出,光催化作用持久,臭氧发生器13产生臭氧,进入离子加湿区17,臭氧遇加热棒14后加热,快速化学反应为氧气,由于热气体的密度大于冷气体的密度,热气体向上升,从∩形通道15的上方进入∩形通道15的右侧,接触冷却棒16,冷却棒16对热气体降温,形成常温的空气,空气从冷却棒16的下端一侧进入负离子通道32,负离子发生器23用高压电晕增加空气中负离子成份,处理空气中多余的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,大倾角的轴流风扇22将空气向上传递,湿度传感器18对空气进行检测,若空气在设定湿度范围直接从出气管21排出,若空气过于干燥,加湿器19对空气进行加湿,使空气达到要求的湿度,废气经上述处理后能达到正常的排放要求,且湿度与外界环境一致,冷却管的下侧设置有隔离块24,保证热气体与冷却棒16接触后,产生的水珠不会流向负离子通道32,而是从排水口二25排出,涡轮风扇一4和涡轮风扇二7能定时运转,产生向下的气流,清除第一层过滤网3、第二层过滤网6和第三层活性炭网8上的印染污染物,使印染污染物黏附于吸附垫一29和吸附垫二28上,吸气扇9的中部设置有两个水雾喷口30,定时向扇叶上喷射水柱,并利用吸气扇9的离心力作用,使水珠包覆印染污染物一起离开扇叶,并从排水口一27排出,从而达到对隔离吸附区31的清洁作用,保证隔离吸附区31的过滤效果。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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