真空搅拌匀料系统的制作方法

本实用新型涉及真空搅拌匀料技术领域，特别是涉及一种真空搅拌匀料系统。

背景技术：

随着新材料技术的发展，出现了真空搅拌匀料系统，真空搅拌匀料系统是通过将在真空环境下多种特定质量比的物料(具体例如有机小分子物料)加热到熔融状态，进行搅拌混匀的系统。

传统的真空搅拌匀料系统包括坩埚、给坩埚加热的加热体、放置坩埚的密闭腔室、对密闭腔室进行抽真空的真空泵、以及将坩埚内的物料进行搅拌均匀的搅拌装置。具体工作时，将多种特定质量比的物料装入到坩埚内，在坩埚内装入物料的量不超过坩埚的腔室容积，然后将坩埚放入腔室并固定，放置搅拌装置并盖上炉盖，采用真空泵对腔室进行抽真空处理，接着对坩埚进行加热使得坩埚内的物料受热至熔融状态并在搅拌装置的搅拌作用下均匀混合在一起，再将混合均匀的物料进行冷却即可得到最终混合产品。然而，最终得到的混合产品中各个物料的质量占比与预设质量占比的偏差较大，混合产品的合格率较低。

技术实现要素：

基于此，有必要针对于现有技术中最终得到的混合产品中各个物料的质量占比与预设质量占比的偏差较大，混合产品的合格率较低的问题，提供一种真空搅拌匀料系统。

其技术方案如下：一种真空搅拌匀料系统，所述真空搅拌匀料系统包括：容器，所述容器用于装设物料；腔室，所述腔室为真空腔室，用于放置容器；加热件，所述加热件用于给所述容器进行加热处理；机壳，所述腔室与所述加热件均装设于所述机壳中；真空泵与搅拌装置，所述真空泵通过管道与所述放置容器的腔室连通，所述搅拌装置用于搅拌所述容器内的物料；驱动装置，所述驱动装置用于驱动所述机壳动作以带动所述容器内加热熔化的物料能浸润所述容器的内侧壁。

上述的真空搅拌匀料系统，工作时，将多种特定质量比的物料装入到容器内，例如在容器内装入物料的量不超过容器的腔室容积的四分之三，通过真空泵对容器进行抽真空处理提供真空环境，再通过加热件对容器进行加热处理以熔化容器内的物料，采用搅拌装置对容器内的物料进行搅拌处理使得各种物料混合均匀。驱动装置能驱动机壳动作，机壳动作时使得容器内熔化状态的物料浸润容器的内侧壁，熔化状态的物料浸润容器的内侧壁时便使得容器的内侧壁附着的物料也与其它物料进行了充分混合，如此最终得到的混合产品中各个物料的质量占比与预设质量占比的偏差较小，混合产品的合格率较高。

在其中一个实施例中，所述驱动装置包括转动机构与倾斜度调整机构；所述倾斜度调整机构装设于所述转动机构上，所述转动机构用于驱动所述倾斜度调整机构转动，所述机壳装设于所述倾斜度调整机构上，所述倾斜度调整机构用于调整所述机壳的底壁面相对于水平面的倾斜度；所述倾斜度调整机构包括底板、弹性件、支撑板及顶压机构；所述支撑板通过所述弹性件与所述底板相连；所述顶压机构用于顶压所述支撑板的其中一侧以调整所述支撑板相对于水平面的倾斜度，所述顶压机构与所述支撑板的顶压部位与所述支撑板滑动接触配合。

在其中一个实施例中，所述顶压机构包括顶压杆，所述顶压杆用于顶压所述支撑板的其中一侧以调整所述支撑板相对于水平面的倾斜度，所述底板设置于所述转动机构上，所述机壳设置于所述支撑板上。

在其中一个实施例中，所述驱动装置包括转动机构与倾斜度调整机构；所述转动机构装设于所述倾斜度调整机构上，所述机壳与所述转动机构相连，所述转动机构用于驱动所述机壳转动，所述倾斜度调整机构用于调整所述转动机构的底壁面与所述机壳的底壁面相对于水平面的倾斜度。

在其中一个实施例中，所述转动机构设置于所述机壳与所述倾斜度调整机构的支撑板之间，所述转动机构包括转动电机，所述转动电机的转轴驱动所述机壳转动；或者，所述转动机构与所述机壳均可转动地设置于所述倾斜度调整机构的支撑板上，所述转动机构包括转动电机、及与所述转动电机的输出轴相连的第一齿轮，所述机壳的外侧壁设有与所述第一齿轮相互啮合的第二齿轮。

在其中一个实施例中，所述倾斜度调整机构包括升降机构与支撑板，所述升降机构位于所述支撑板的下方，所述升降机构用于驱动所述支撑板的其中一侧升起或降落以调整所述支撑板相对于水平面的倾斜度，所述转动机构与所述机壳均设置于所述支撑板上；

或者，所述倾斜度调整机构包括底板、弹性件、支撑板及顶压机构，所述支撑板通过所述弹性件与所述底板相连，所述顶压机构包括顶压杆，所述顶压杆用于顶压所述支撑板的其中一侧以调整所述支撑板相对于水平面的倾斜度，所述转动机构与所述机壳均设置于所述支撑板上。

在其中一个实施例中，所述驱动装置包括若干个升降机构，所述升降机构绕所述机壳的底部外围周向间隔设置，所述升降机构用于驱动所述机壳的底部升起或降落。

在其中一个实施例中，所述驱动装置包括底板、弹性件、支撑板及顶压机构，所述支撑板通过所述弹性件与所述底板相连，所述顶压机构包括移动座、升降件与顶压杆，所述移动座绕所述机壳的周向移动，所述升降件设置于所述移动座上，所述顶压杆设置于所述升降件上，所述升降件用于驱动所述顶压杆升降移动顶压所述支撑板的其中一侧以调整所述支撑板相对于水平面的倾斜度，所述机壳均设置于所述支撑板上。

在其中一个实施例中，所述倾斜度为5°～50°。

在其中一个实施例中，所述腔室包括设有口部的腔体和可打开地设置于所述口部的密封盖，所述管道与搅拌装置均固定于密封盖上；所述搅拌装置包括搅拌电机与搅拌桨，所述搅拌电机驱动所述搅拌桨转动，所述搅拌电机的转轴贯穿所述密封盖，所述搅拌电机的转轴与所述搅拌桨相连，所述搅拌桨伸入到所述容器内。

在其中一个实施例中，所述的真空搅拌匀料系统还包括用于对所述容器进行冷却处理的冷却件，所述冷却件设置于所述机壳内并位于所述密封盖与所述加热件之间。

在其中一个实施例中，所述机壳设置有观察口。

在其中一个实施例中，所述腔室中设置有用于固定所述容器的固定件。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型第一实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；

图2为本实用新型第一实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图；

图3为本实用新型第二实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；

图4为本实用新型第二实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图；

图5为本实用新型第三实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；

图6为本实用新型第三实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图；

图7为本实用新型第四实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；

图8为本实用新型第四实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图；

图9为本实用新型第五实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；

图10为本实用新型第五实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图；

图11为本实用新型第五实施例所述的真空搅拌匀料系统的又一工作状态图；

图12为本实用新型第六实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；

图13为本实用新型第六实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图。

10、容器；12、腔室；121、腔体；122、密封盖；20、加热件；30、机壳；31、窗口；40、真空泵；41、管道；50、搅拌装置；51、搅拌电机；52、搅拌桨；60、驱动装置；61、转动机构；62、倾斜度调整机构；621、升降机构；622、支撑板；623、底板；624、弹性件；625、顶压机构；6251、顶压杆；6252、转动球；6253、移动座；6254、导轨；70、保温层。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

一般地，传统的真空搅拌匀料系统在对各个物料进行加热混料的过程中，由于各个物料的熔点不同，熔点较低的物料在加热过程中一方面熔化并位于坩埚的底部，另一方面还会升华并附着于坩埚的上部侧壁，上部侧壁指的是靠近于口部的侧壁部位。附着于上部侧壁的物料由于不会接触到其它物料便不会与其它熔化的物料相互混合，在进行冷却步骤后，坩埚内的混合均匀的物料冷却变成固体，坩埚的上部侧壁处附着的物料同样冷却变成固体。一方面，坩埚内的混合均匀的物料由于缺少上部侧壁处附着的物料导致最终的混合产品的各个物料质量占比与预设质量占比存在较大的偏差，另一方面，在取出坩埚内的物料时，不可避免会连带取出附着在上部侧壁上附着的物料，由于侧壁上附着的物料物料质量占比与预设质量占比存在很大偏差，导致整个混合产品的物料不均匀，而目前产品，特别是有机电致发光器件中，对混合物料要求极高，坩埚上部侧壁附着物料会导致混合后的物料合格率偏低。

基于此，参阅图1与图2，图1示出了本实用新型第一实施例中的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图，图2示出了本实用新型第一实施例中的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图。本实用新型一实施例提供的真空搅拌匀料系统，所述真空搅拌匀料系统包括：容器10、加热件20、机壳30、真空泵40、搅拌装置50及驱动装置60。所述容器10用于装设物料。所述加热件20用于给所述容器10进行加热处理。所述容器10与所述加热件20均装设于所述机壳30中。所述真空泵40通过管道41与所述容器10的腔室12连通。所述搅拌装置50用于搅拌所述容器10内的物料。所述驱动装置60用于驱动所述机壳30动作以使得所述容器10内加热熔化的物料能浸润所述容器10的内侧壁。

上述的真空搅拌匀料系统，工作时，将多种特定质量比的物料装入到容器10内，例如在容器10内装入物料的量不超过容器10的腔室12容积的四分之三，通过真空泵40对容器10进行抽真空处理提供真空环境，再通过加热件20对容器10进行加热处理以熔化容器10内的物料，采用搅拌装置50对容器10内的物料进行搅拌处理使得各种物料混合均匀。驱动装置60能驱动机壳30动作，机壳30动作时使得容器10内熔化状态的物料浸润容器10的内侧壁，熔化状态的物料清润容器10的内侧壁时便使得容器10的内侧壁附着的物料也与其它物料进行了充分混合，如此最终得到的混合产品中各个物料的质量占比与预设质量占比的偏差较小，混合产品的合格率较高。

需要说明的是，本实施例中的物料为有机小分子材料。例如，多种物料之间熔点差不超过30℃。进一步地，多种物料之间熔点差不超过10℃。多种物料之间熔点差值太大会导致熔点偏低的物料升华，从而影响混合产品的质量比。

请再参阅图1及图2，进一步地，所述驱动装置60包括转动机构61与倾斜度调整机构62。所述倾斜度调整机构62装设于所述转动机构61上。所述转动机构61用于驱动所述倾斜度调整机构62转动，所述机壳30装设于所述倾斜度调整机构62上，所述倾斜度调整机构62用于调整所述机壳30的底壁面相对于水平面的倾斜度。具体而言，所述倾斜度调整机构62包括底板623、弹性件624、支撑板622及顶压机构625。所述支撑板622通过所述弹性件624与所述底板623相连。所述顶压机构625用于顶压所述支撑板622的其中一侧以调整所述支撑板622相对于水平面的倾斜度，所述顶压机构625与所述支撑板622的顶压部位与所述支撑板622滑动接触配合。如此，转动机构61具体是带动支撑板622转动，支撑板622带动底板623转动。底板623转动时，底板623与顶压机构625相对滑动。顶压机构625与支撑板622的顶压部位与支撑板622滑动接触配合，顶压机构625具体可以是设置于地面、工作台上等等，不随着底板623、机壳30转动。

进一步地，所述顶压机构625包括顶压杆6251。所述顶压杆6251用于顶压所述支撑板622的其中一侧以调整所述支撑板622相对于水平面的倾斜度。所述底板623设置于所述转动机构61上，所述机壳30设置于所述支撑板622上。具体而言，顶压杆6251抵触于支撑板622的上方时，当需要使得支撑板622相对于水平面倾斜时，则将顶压杆6251下移使得支撑板622的其中一侧向下移动，顶压杆6251反向移动松开支撑板622即可在弹性件624的作用下恢复原状；顶压杆6251抵触于支撑板622的下方时，当需要使得支撑板622相对于水平面倾斜时，则将顶压杆6251上移使得支撑板622的其中一侧面向上移动，顶压杆6251反向移动松开支撑板622即可在弹性件624的作用下恢复原状，也是可行的方案。

进一步地，顶压杆6251与支撑板622相接触的部位为光滑面或设有转动球6252，如此转动机构61倾斜度调整机构62转动过程中，顶压杆6251与支撑板622之间的相对运动效果较为顺畅。

请参阅图3及图4，图3示意出了本实用新型第二实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；图4示意出了本实用新型第二实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图。图3及图4示意出的真空搅拌匀料系统与图1与图2示意出的真空搅拌匀料系统相比，区别主要在于转动机构61与倾斜度调整机构62的设置方式不同。图3及图4示意出的真空搅拌匀料系统中，所述驱动装置60包括转动机构61与倾斜度调整机构62。所述转动机构61装设于所述倾斜度调整机构62上。所述机壳30与所述转动机构61相连，所述转动机构61用于驱动所述机壳30转动。所述倾斜度调整机构62用于调整所述转动机构61的底壁面与所述机壳30的底壁面相对于水平面的倾斜度。

如此，当需要浸润容器10的内侧壁附着的物料时，倾斜度调整机构62使得机壳30的底壁面由水平状态调整到倾斜状态，装设于机壳30内的容器10的底壁相应同步由水平状态调整到倾斜状态，具体例如容器10的底壁相对于水平面发生5°～15°偏转。这样，在转动机构61驱动机壳30转动时，机壳30同步使得倾斜设置的容器10相应转动，倾斜设置的容器10转动时，容器10内熔化状态的物料即可浸润容器10的内侧壁的物料并与物料充分混合均匀。

请参阅图3及图4，在一个实施例中，所述转动机构61设置于所述机壳30与所述倾斜度调整机构62的支撑板622之间。所述转动机构61包括转动电机，所述转动电机的转轴驱动所述机壳30转动。如此，转动电机转动时，转动电机的转轴驱动机壳30转动。

请参阅图5及图6，图5示意出了本实用新型第三实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；图6示意出了本实用新型第三实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图。图5与图6示意出的真空搅拌匀料系统与图3及图4示意出的真空搅拌匀料系统的区别主要在于，转动机构61的设置位置不同，图3及图4示意出的转动机构61直接驱动机壳30进行转动，而图5与图6示意出的转动机构61则采用齿轮的方式驱动机壳30进行转动。在另一个实施例中，所述转动机构61与所述机壳30均可转动地设置于所述倾斜度调整机构62的支撑板622上。所述转动机构61包括转动电机、及与所述转动电机的输出轴相连的第一齿轮，所述机壳30的外侧壁设有与所述第一齿轮相互啮合的第二齿轮。如此，转动电机转动时，转动电机驱动第一齿轮转动，第一齿轮相应带动第二齿轮转动，也可以实现驱动机壳30转动。

请再参阅图3及图4，进一步地，所述倾斜度调整机构62包括升降机构621与支撑板622。所述升降机构621位于所述支撑板622的下方，所述升降机构621用于驱动所述支撑板622的其中一侧升起或降落以调整所述支撑板622相对于水平面的倾斜度，所述转动机构61与所述机壳30均设置于所述支撑板622上。

具体而言，倾斜度调整机构62还包括设置于升降机构621下方的底板623。如此，根据实际情况将底板623放置于平整的地面或工作台上。当然，作为一个可行的方案，底板623、支撑板622均可以省略掉，直接通过升降机构621来改变机壳30及转动机构61的倾斜度。

请参阅图7及图8，图7示意出了本实用新型第四实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；图8示意出了本实用新型第四实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图。图7及图8示意出的所述的真空搅拌匀料系统与图3及图4示意出的所述的真空搅拌匀料系统相比，主要区别在于倾斜度调整机构62不同。图7及图8示意出的真空搅拌匀料系统中，所述倾斜度调整机构62包括底板623、弹性件624、支撑板622及顶压机构625。所述支撑板622通过所述弹性件624与所述底板623相连，所述顶压机构625包括顶压杆6251。所述顶压杆6251用于顶压所述支撑板622的其中一侧以调整所述支撑板622相对于水平面的倾斜度。所述转动机构61与所述机壳30均设置于所述支撑板622上。具体而言，顶压杆6251抵触于支撑板622的上方时，当需要使得支撑板622相对于水平面倾斜时，则将顶压杆6251下移使得支撑板622的其中一侧向下移动，顶压杆6251反向移动松开支撑板622即可在弹性件624的作用下恢复原状；顶压杆6251抵触于支撑板622的下方时，当需要使得支撑板622相对于水平面倾斜时，则将顶压杆6251上移使得支撑板622的其中一侧面向上移动，顶压杆6251反向移动松开支撑板622即可在弹性件624的作用下恢复原状，也是可行的方案。

进一步地，弹性件624可以为弹簧或弹性块等等，在此不进行限定。

请参阅图9至图11，图9示意出了本实用新型第五实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；图10示意出了本实用新型第五实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图；图11示意出了本实用新型第五实施例所述的真空搅拌匀料系统的又一工作状态图。在另一个实施例中，所述驱动装置60包括若干个升降机构621。所述升降机构621绕所述机壳30的底部外围周向间隔设置，所述升降机构621用于驱动所述机壳30的底部升起或降落。具体而言，驱动装置60还包括支撑板622与底板623，若干个升降机构621均设置于底板623上，支撑板622设置于升降机构621与机壳30之间。升降机构621升起或降落机壳30的底部的其中一侧时，便相应实现机壳30的底壁面发生倾斜，从而容器10内熔化状态的物料浸润容器10的内侧壁，熔化状态的物料清润容器10的内侧壁时便使得容器10的内侧壁附着的物料也与其它物料进行了充分混合。

进一步地，升降机构621为四个，四个升降机构621绕机壳30的底部周向等间隔设置。其中一个升降机构621升起动作时，该升降机构621相对立设置的另一个升降机构621降落动作。当然，升降机构621也可以是其它数量，在此不进行限定。

请参阅图12及图13，图12示意出了本实用新型第六实施例所述的真空搅拌匀料系统的其中一工作状态图；图13示意出了本实用新型第六实施例所述的真空搅拌匀料系统的另一工作状态图。在另一个实施例中，所述驱动装置60包括底板623、弹性件624、支撑板622及顶压机构625。所述支撑板622通过所述弹性件624与所述底板623相连。所述顶压机构625包括移动座6253、升降件与顶压杆6251。所述移动座6253绕所述机壳30的周向移动，所述升降件设置于所述移动座6253上，所述顶压杆6251设置于所述升降件上，所述升降件用于驱动所述顶压杆6251升降移动顶压所述支撑板622的其中一侧以调整所述支撑板622相对于水平面的倾斜度，所述机壳30均设置于所述支撑板622上。具体而言，顶压杆6251抵触于支撑板622的上方时，当需要使得支撑板622相对于水平面倾斜时，则通过升降件将顶压杆6251下移使得支撑板622的其中一侧向下移动，升降件驱动顶压杆6251反向移动松开支撑板622时支撑板622在弹性件624的作用下恢复原状；顶压杆6251抵触于支撑板622的下方时，当需要使得支撑板622相对于水平面倾斜时，则通过升降件将顶压杆6251上移使得支撑板622的其中一侧面向上移动，顶压杆6251反向移动松开支撑板622即可在弹性件624的作用下恢复原状，也是可行的方案。

进一步地，机壳30的外围绕设有导轨6254，移动座6253沿着导轨6254移动。

在一个实施例中，本实例中的倾斜度为大于0°小于90°。优选地，倾斜度为0°～60°。具体而言，本实例中的倾斜度为5°～50°。

请再参阅图1及图2，在一个实施例中，所述容器10具体为坩埚。其中，坩埚上部敞口，从而能便于装设物料。

在一个实施例中，所述腔室12包括设有口部的腔体121和可打开地设置于所述口部的密封盖122。所述管道41与搅拌装置50均固定于密封盖122上。所述搅拌装置50包括搅拌电机51与搅拌桨52，所述搅拌电机51驱动所述搅拌桨52转动，所述搅拌电机51的转轴贯穿所述密封盖122，所述搅拌电机51的转轴与所述搅拌桨52相连，所述搅拌桨52伸入到所述容器10内。具体而言，所述搅拌电机51的转轴与所述密封盖122紧密配合，从而保证密封性，为真空腔室12提供良好的真空环境。

进一步地，所述的真空搅拌匀料系统还包括用于对所述容器10进行冷却处理的冷却件。所述冷却件设置于所述机壳30内并位于所述密封盖122与所述加热件20之间。如此，在需要对容器10进行冷却工作时，冷却件进行工作，从而能实现快速地降低容器10的温度。

进一步地，请再参阅图1及图2，所述机壳30设置有观察口。如此，观察口用以观察坩埚内物料状态和坩埚倾斜角度，防止物料溢出坩埚。需要说明的是，观察口在机壳30上的设置位置可以任意设置，例如可以是机壳30的顶壁，也可以是机壳30的侧壁，只要能通过观察口观察到坩埚内物料状态和坩埚倾斜角度即可。

进一步地，所述腔室12中设置有用于固定所述容器10的固定件。如此，固定件固定腔室12内的容器10，防止容器10倾斜时晃动。

进一步地，所述的真空搅拌匀料系统还包括保温层70。保温层70包裹于腔室12的外侧壁。保温层70对腔室12起到保温作用，避免加热件20加热过程中能量流失，利于实现容器10内的物料熔化混合均匀。

在一个实施例中，请再参阅图1及图2，一种采用了上述任一实施例所述的真空搅拌匀料系统的匀料方法，包括如下步骤：

提供预设质量比的物料，并装入到容器10内；

其中，在容器10内装入物料的量不超过容器10的腔室12容积的四分之三。

对所述容器10进行抽真空处理提供真空环境，通过加热件20对所述容器10进行加热处理使所述容器10内的物料处于熔融状态；

对所述容器10内的物料进行搅拌处理使得各种物料混合均匀；

驱动机壳30动作，所述机壳30动作时使得所述容器10内熔化状态的物料浸润容器10的内侧壁。

熔化状态的物料清润所述容器10的内侧壁时便使得容器10的内侧壁附着的物料也与其它物料进行充分混合。

上述的真空搅拌匀料系统的匀料方法，容器10内熔化状态的物料浸润容器10的内侧壁，熔化状态的物料清润容器10的内侧壁时便使得容器10的内侧壁附着的物料也与其它物料进行了充分混合，如此最终得到的混合产品中各个物料的质量占比与预设质量占比的偏差较小，混合产品的合格率较高。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。