206]一种用于从用于制备芳族二羧酸的方法中的第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的方法，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物，所述用于制备芳族二羧酸的方法包括烃前体在所述有机溶剂中在氧化反应器中的催化氧化，所述回收有机溶剂的衍生物的方法包括以下步骤:
[0207]i)将所述第一工艺流进料至气提装置，所述气提装置包括气提塔和贮槽气提；
[0208]ii)将纯化的有机溶剂流从所述贮槽移除；以及
[0209]iii)将气提塔顶流从所述气提塔传送至冷凝器，
[0210]其中，步骤ii)中的从所述贮槽移除的纯化的有机溶剂流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度低于步骤i)中的进料至气提装置的所述第一工艺流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度，并且，任选地，
[0211]其中，步骤iii)中的传送至所述冷凝器的塔顶流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度大于步骤i)中的进料至气提装置的所述第一工艺流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度。
[0212]附加方案2
[0213]根据附加方案I所述的方法，其中所述芳族二羧酸是对苯二甲酸。
[0214]附加方案3
[0215]根据附加方案2所述的方法，其中所述有机溶剂是乙酸。
[0216]附加方案4
[0217]根据附加方案3所述的方法，其中所述有机溶剂的衍生物是乙酸甲酯。
[0218]附加方案5
[0219]根据在前附加方案中的任一项所述的方法，其中所述气提塔、贮槽和冷凝器形成集成式单元。
[0220]附加方案6
[0221]根据在前附加方案中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0222]iv)将包含所述有机溶剂的衍生物的液体流从所述冷凝器或所述气提塔的上部区域进料至所述氧化反应器。
[0223]附加方案7
[0224]根据在前附加方案中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0225]V)将所述纯化的有机溶剂流进料至清洗段，以将所述有机溶剂的衍生物从气态流移除。
[0226]附加方案8
[0227]根据附加方案7所述的方法，其中所述清洗段包括加压清洗器和/或常压清洗器，所述加压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从塔顶气体移除，所述塔顶气体源于来自所述氧化反应器的排放气体，所述常压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从蒸气流移除。
[0228]附加方案9
[0229]根据附加方案7或附加方案8所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0230]vi)将一种或多种塔底流从所述清洗段传送至所述氧化反应器。
[0231]附加方案10
[0232]根据附加方案7-9中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0233]vii)在将所述纯化的有机溶剂流进料至所述清洗段之前将其冷却。
[0234]附加方案11
[0235]根据附加方案10所述的方法，其中所述清洗段包括加压清洗器，所述加压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从塔顶气体移除，所述塔顶气体源于来自所述氧化反应器的排放气体，并且步骤vii)包括将热量从所述纯化的有机溶剂流传送至从所述加压清洗器传送至所述氧化反应器的塔底流。
[0236]附加方案12
[0237]根据附加方案7-11中的任一项所述的方法，其中所述清洗段包括常压清洗器，所述常压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从由所述冷凝器传送至所述常压清洗器的蒸气流移除。
[0238]附加方案13
[0239]根据在前附加方案中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0240]viii)将污染的有机溶剂流从所述贮槽进料至溶剂气提装置；以及
[0241]ix)将蒸气流从所述溶剂气提装置传送至所述气提装置。
[0242]附加方案14
[0243]根据在前附加方案中的任一项所述的方法，其中所述贮槽包括基本上垂直的内堰板，所述内堰板将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的贮器分离。
[0244]附加方案15
[0245]根据附加方案14所述的方法，其中所述贮槽还包括导流板，所述导流板布置为使得将来自所述气提塔的液体引导至所述纯化的有机溶剂的贮器中。
[0246]附加方案16
[0247]根据附加方案14或附加方案15所述的方法，其中所述污染的有机溶剂中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度与所述纯化的有机溶剂中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度的比大于或等于约2: 1，或者大于或等于约5: 1，或者大于或等于约7: I。
[0248]附加方案17
[0249]根据附加方案14-16中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0250]χ)将源于来自第一结晶器的塔顶蒸气流的冷凝的第一冷凝物流进料至所述贮槽中的第一冷凝物流入口，所述第一冷凝物流入口布置为使得源于所述第一冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。
[0251]附加方案18
[0252]根据附加方案17所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0253]xi)将源于来自第二结晶器的塔顶蒸气流的冷凝的第二冷凝物流进料至所述贮槽中的第二冷凝物流入口，所述第二冷凝物流入口布置为使得源于所述第二冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。
[0254]附加方案19
[0255]根据附加方案14-18中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0256]xii)将来自所述污染的有机溶剂的贮器的污染的有机溶剂流经由外部流体通路进料至所述气提塔。
[0257]附加方案20
[0258]根据附加方案14-19中的任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤:
[0259]xiii)将干净的有机溶剂流进料至所述纯化的有机溶剂的贮器。
[0260]附加方案21
[0261]一种用于从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物，所述设备包括:
[0262]气提装置，所述气提装置包括:
[0263]气提塔；
[0264]贮槽，所述贮槽布置为从所述气提塔接收液体；
[0265]冷凝器，所述冷凝器布置为从所述气提塔接收塔顶流；以及
[0266]第一工艺流入口 ；
[0267]其中所述贮槽包括
[0268]基本上垂直的内堰板，所述内堰板将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的IC器分离；
[0269]导流板，所述导流板布置为使得将来自所述气提塔的液体导入所述纯化的有机溶剂的贮器；以及
[0270]纯化的有机溶剂流出口，所述出口用于将纯化的有机溶剂流从所述纯化的有机溶剂的贮器移除。
[0271]附加方案22
[0272]根据附加方案21所述的设备，其中所述气提塔、贮槽和冷凝器形成集成式单元。
[0273]附加方案23
[0274]根据附加方案21或附加方案22所述的设备，其中所述贮槽还包括用于移除污染的有机溶剂流的出口。
[0275]附加方案24
[0276]根据附加方案23所述的设备，其中所述气提塔还包括用于接收所述污染的有机溶剂流的一部分的入口。
[0277]附加方案25
[0278]根据附加方案21-24中的任一项所述的设备，其中所述贮槽还包括第一冷凝物流入口，其中，任选地，所述第一冷凝物流入口布置在所述导流板和所述污染的有机溶剂的贮器之间，使得源于进入所述第一冷凝物流入口的第一冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。
[0279]附加方案26
[0280]根据附加方案25所述的设备，其中所述贮槽还包括第二冷凝物流入口，其中，任选地，所述第二冷凝物流入口布置在所述导流板和所述污染的有机溶剂的贮器之间，使得源于进入所述第二冷凝物流入口的第二冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。
[0281]附加方案27
[0282]根据附加方案21-26中的任一项所述的设备，其中所述贮槽还包括用于接收干净的有机溶剂流的入口，其中，任选地，用于接收所述干净的有机溶剂流的所述入口布置为使得所述干净的有机溶剂流进入所述纯化的有机溶剂的贮器。
[0283]附加方案28
[0284]根据附加方案21-27中的任一项所述的设备，其中所述第一工艺流入口在所述气提塔中或在所述贮槽中。
[0285]附加方案29
[0286]根据附加方案21-28中的任一项所述的设备，其中所述冷凝器或所述气提塔的上部区域包括用于将包含所述有机溶剂的衍生物的液体流从所述气提装置移除的液体流出口气提。
[0287]附加方案30
[0288]根据附加方案21-29中的任一项所述的设备，其中所述冷凝器包括用于将包含所述有机溶剂的衍生物的蒸气流从所述冷凝器移除的蒸气流出口。
[0289]附加方案31
[0290]一种用于从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物，所述设备包括:
[0291]气提装置，所述气提装置构造为接收第一工艺流，所述气提装置包括:
[0292]气提塔；
[0293]贮槽，所述贮槽布置为从所述气提塔接收液体；和
[0294]冷凝器，所述冷凝器布置为从所述气提塔接收塔顶流，以及氧化反应器，所述氧化反应器用于芳族二羧酸的制备，所述芳族二羧酸的制备包括烃前体在所述有机溶剂中的催化氧化，
[0295]其中，所述设备还包括:
[0296]用于将包含所述有机溶剂的衍生物的流从所述冷凝器传送至所述氧化反应器的
目.ο
[0297]附加方案32
[0298]根据附加方案31所述的设备，其中所述包含所述有机溶剂的衍生物的流是液体流。
[0299]附加方案33
[0300]根据附加方案31或附加方案32所述的设备，所述设备还包括:
[0301]用于将所述有机溶剂的衍生物从气态流移除的清洗段，以及
[0302]用于将纯化的有机溶剂流从所述气提装置传送至所述清洗段，以将所述有机溶剂的衍生物从所述气态流移除的装置。
[0303]附加方案34
[0304]根据附加方案33所述的设备，其中所述清洗段包括加压清洗器和/或常压清洗器，所述加压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从塔顶气体移除，所述塔顶气体源于来自所述氧化反应器的排放气体，所述常压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从蒸气流移除。
[0305]附加方案35
[0306]根据附加方案33或附加方案34所述的设备，所述设备还包括:
[0307]用于将一种或多种塔底流从所述清洗段传送至所述氧化反应器的装置。
[0308]附加方案36
[0309]根据附加方案33-35中的任一项所述的设备，所述设备还包括用于冷却所述纯化的有机溶剂流的装置。
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