一种α-氧化铝微粉除硅方法
【专利摘要】本发明公开了一种α-氧化铝微粉除硅方法，所述方法包括：一种高温α-氧化铝微粉除硅的方法，主要步骤包括：（1）将适量α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内，加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4-10小时；（2）待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。（3）重复上述步骤三次。本发明根据颗粒大小和比重大小的不同，从而达到SiO2的富集，将富集SiO2粉体分离开来，即可有效的降低氧化铝粉体中的SiO2含量。
【专利说明】一种α-氧化铝微粉除硅方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及氧化铝制备领域，尤其涉及一种高温α -氧化铝微粉除硅方法。
【背景技术】
[0002]在目前高温α-氧化铝烧制过程中，通常是将工业氧化铝放入莫来石匣钵(黄匣钵)中，放入隧道窑中烧制。在烧制过程中，经常会有部分莫来石匣钵碎片进入α-氧化铝烧成好的块料中，从而导致α -氧化铝粉体中的Si(V#量由烧成前的0.02%升高到0.08%左右。现有技术中，降低高温α -氧化铝粉体中的S12含量，一直没有太好的技术方法和设备装置。如采用采用常规的酸洗方法对除去氧化铝粉体中的S12S本没有效果。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种高温α -氧化铝微粉除硅方法。
[0004]上述目的是通过下述方案实现的:
一种高温α-氧化铝微粉除硅的方法，其特征在于将α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内，加水至氧化铝浆液固含在300_800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4-10小时，待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6
厘米厚的细颗粒氧化铝。
[0005]根据上述的方法，其特征在于，再次重复所述步骤(2) 二次。
[0006]本发明的有益效果:本发明根据颗粒大小和比重大小的不同，从而达到S12的富集，将富集S12粉体分离开来，即可有效的降低氧化铝粉体中的S12含量。
【具体实施方式】
[0007]本发明公开了一种高温α -氧化铝微粉除硅方法，包括以下步骤:
(1)将适量α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m,容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内，加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4_10小时；
(2)待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化销;
(3)重复上述步骤三次，即重复加水，搅拌，沉淀，刮去沉淀粉体上层颗粒的步骤。
[0008]本发明是在沉降中根据颗粒大小和比重大小的不同，从而达到S12的富集，将富集3102粉体分离开来，即可有效的降低氧化铝粉体中的S12含量。
【具体实施方式】
[0009]实施例1
将1600kga -氧化铝粉体(05(ι:36μπι)加入直径为2m，容积为2000L的圆柱形洗涤槽中，加满去离子水，搅拌20分钟后，静置4小时，并刮去上层0.3厘米厚的细颗粒氧化铝，重复三次后，α -氧化铝粉体中S12含量从原来的0.10%降低至0.05%。
[0010]实施例2
将600kg α -氧化铝粉体(D5tl: 18.5μπι)加入直径为1.6m，容积为1000L的圆柱形洗涤槽中，加满去离子水，搅拌30分钟后，静置6小时，并刮去上层0.4厘米厚的细颗粒氧化铝，重复三次后，α -氧化铝粉体中S12含量从原来的0.12%降低至0.08%ο
[0011]实施例3
将180kg α -氧化铝粉体(D5tl: 5 μ m)加入直径为0.8m，容积为600L的圆柱形洗涤槽中，加满去离子水，搅拌40分钟后，静置10小时，并刮去上层0.6厘米厚的细颗粒氧化铝，α -氧化铝粉体中S12含量从原来的0.10%降低至0.07%。
【权利要求】
1.一种高温α -氧化铝微粉除硅的方法，其特征在于，所述方法包括:(1)将α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内； (2)加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4_10小时，待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，再次重复所述步骤(2)二次。
【文档编号】B03B5/28GK104495892SQ201410732279
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年12月6日 优先权日:2014年12月6日
【发明者】李东红, 范卫东 申请人:中国铝业股份有限公司