技术特征：
技术总结
本发明涉及一种疏水防雾表面的制备方法，属于防雾表面和微纳米制造技术领域。该疏水防雾表面的制备结合了一种紫外光刻和软光刻工艺。首先以SU‑8 2005光刻胶为基材，采用紫外光刻工艺制备出微方孔阵列结构，且该基底可以重复使用，然后以PDMS为结构材料，复制得到微方柱阵列结构，通过调整微方柱阵列的尺寸和间距就可以得到不同的疏水防雾表面。该方法制备出的防雾表面结构不易破坏，同时表现出了不错的透过率、疏水性和防雾性能，并且该制备方法工艺简单，实验参数可控，将十分有利于工业化大面积生产与应用。
技术研发人员：牛士超;冯晓明;韩志武;张俊秋;穆正知;李博;王泽;焦志彬;王大凯;张斌杰
受保护的技术使用者：吉林大学
技术研发日：2017.09.08
技术公布日：2018.01.19