一种适应高过载环境的mems器件保护机构的制作方法_2

文档序号:10241058阅读:来源:国知局
51-前缓冲垫,52-后缓冲垫,53-左缓冲垫,54-右缓冲垫,61-前弹簧,62-后弹簧。
【具体实施方式】
[0026]下面结合附图和具体实施例,进一步阐明本实用新型所述机构,应理解这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围,在阅读本实用新型后,本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。比如,本实用新型所述的缓冲垫并不局限于图I和图2中“口”型结构,其保护范围应包含其它具有缓冲功能的结构,且缓冲垫数量也不局限于本实施例的个数;本实用新型所述的连接结构和锚点间的梁形式也不只局限于某种具体形式,而应包含具有梁功能的结构形式,而且梁的数量也应根据需求有所调整,不应局限于本实施例提出的数量;缓冲凸块的形状和数量也不局限于本实施例给出的方案。
[0027]一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构,包括质量块I、缓冲凸块部分、连接横梁部分、锚块部分、缓冲垫部分、弹簧部分;
[0028]所述缓冲凸块部分包括两个前缓冲凸块21、两个后缓冲凸块22、左缓冲凸块23、右缓冲凸块24;
[0029]两个前缓冲凸块21分别固定于质量块I的前表面左端和前表面右端;两个后缓冲凸块22分别固定于质量块I的后表面左端和后表面右端;左缓冲凸块23固定于质量块I的左表面中部;右缓冲凸块24固定于质量块I的右表面中部;
[0030]所述连接横梁部分包括前连接横梁31、后连接横梁32;
[0031]前连接横梁31平行设置于质量块I的正前方;后连接横梁32平行设置于质量块I的正后方;
[0032]所述锚块部分包括两个前锚块41、两个后锚块42、左锚块43、右锚块44;
[0033]两个前锚块41分别设置于两个前缓冲凸块21的正前方,且两个前锚块41分别设置于前连接横梁31的左方和右方;两个后锚块42分别设置于两个后缓冲凸块22的正后方,且两个后锚块42分别设置于后连接横梁32的左方和右方;左锚块43设置于左缓冲凸块23的正左方;右锚块44设置于右缓冲凸块24的正右方;
[0034]所述缓冲垫部分包括两个前缓冲垫51、两个后缓冲垫52、左缓冲垫53、右缓冲垫54;
[0035]两个前缓冲垫51分别固定于两个前锚块41的后表面,且两个前缓冲垫51与两个前缓冲凸块21之间留有间隙;两个后缓冲垫52分别固定于两个后锚块42的前表面,且两个后缓冲垫52与两个后缓冲凸块22之间留有间隙;左缓冲垫53固定于左锚块43的右表面,且左缓冲垫53与左缓冲凸块23之间留有间隙;右缓冲垫54固定于右锚块44的左表面,且右缓冲垫54与右缓冲凸块24之间留有间隙;
[0036]所述弹簧部分包括四个前弹簧61、四个后弹簧62;
[0037]四个前弹簧61的首端分别与前连接横梁31的后表面左部、后表面右部、左表面、右表面垂直固定;四个前弹簧61的尾端分别与质量块I的前表面左部、质量块I的前表面右部、其中一个前锚块41的右表面、另一个前锚块41的左表面垂直固定;四个后弹簧62的首端分别与后连接横梁32的前表面左部、前表面右部、左表面、右表面垂直固定;四个后弹簧62的尾端分别与质量块I的后表面左部、质量块I的后表面右部、其中一个后锚块42的右表面、另一个后锚块42的左表面垂直固定。
[0038]具体实施时,质量块I与缓冲凸块部分采用相同的材料加工而成。质量块I的加工工艺、缓冲凸块部分的加工工艺、缓冲垫部分的加工工艺均相互兼容。这样的好处在于有效降低了加工成本,有效减小了加工难度,有效提高了产品的一致性和可靠性。缓冲垫部分在未受冲击的状态下不影响质量块I的正常工作。
【主权项】
1.一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构,其特征在于:包括质量块(I)、缓冲凸块部分、连接横梁部分、锚块部分、缓冲垫部分、弹簧部分; 所述缓冲凸块部分包括两个前缓冲凸块(21)、两个后缓冲凸块(22)、左缓冲凸块(23)、右缓冲凸块(24); 两个前缓冲凸块(21)分别固定于质量块(I)的前表面左端和前表面右端;两个后缓冲凸块(22)分别固定于质量块(I)的后表面左端和后表面右端;左缓冲凸块(23)固定于质量块(I)的左表面中部;右缓冲凸块(24)固定于质量块(I)的右表面中部; 所述连接横梁部分包括前连接横梁(31)、后连接横梁(32 ); 前连接横梁(31)平行设置于质量块(I)的正前方;后连接横梁(32)平行设置于质量块(I)的正后方; 所述锚块部分包括两个前锚块(41)、两个后锚块(42)、左锚块(43)、右锚块(44); 两个前锚块(41)分别设置于两个前缓冲凸块(21)的正前方,且两个前锚块(41)分别设置于前连接横梁(31)的左方和右方;两个后锚块(42)分别设置于两个后缓冲凸块(22)的正后方,且两个后锚块(42)分别设置于后连接横梁(32)的左方和右方;左锚块(43)设置于左缓冲凸块(23)的正左方;右锚块(44)设置于右缓冲凸块(24)的正右方; 所述缓冲垫部分包括两个前缓冲垫(51)、两个后缓冲垫(52)、左缓冲垫(53)、右缓冲垫(54); 两个前缓冲垫(51)分别固定于两个前锚块(41)的后表面,且两个前缓冲垫(51)与两个前缓冲凸块(21)之间留有间隙;两个后缓冲垫(52)分别固定于两个后锚块(42)的前表面,且两个后缓冲垫(52)与两个后缓冲凸块(22)之间留有间隙;左缓冲垫(53)固定于左锚块(43)的右表面,且左缓冲垫(53)与左缓冲凸块(23)之间留有间隙;右缓冲垫(54)固定于右锚块(44)的左表面,且右缓冲垫(54)与右缓冲凸块(24)之间留有间隙; 所述弹簧部分包括四个前弹簧(61)、四个后弹簧(62); 四个前弹簧(61)的首端分别与前连接横梁(31)的后表面左部、后表面右部、左表面、右表面垂直固定;四个前弹簧(61)的尾端分别与质量块(I)的前表面左部、质量块(I)的前表面右部、其中一个前锚块(41)的右表面、另一个前锚块(41)的左表面垂直固定;四个后弹簧(62)的首端分别与后连接横梁(32)的前表面左部、前表面右部、左表面、右表面垂直固定;四个后弹簧(62)的尾端分别与质量块(I)的后表面左部、质量块(I)的后表面右部、其中一个后锚块(42)的右表面、另一个后锚块(42)的左表面垂直固定。2.根据权利要求I所述的一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构,其特征在于:质量块(I)与缓冲凸块部分采用相同的材料加工而成。3.根据权利要求I所述的一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构,其特征在于:质量块(I)的加工工艺、缓冲凸块部分的加工工艺、缓冲垫部分的加工工艺均相互兼容。4.根据权利要求I所述的一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构,其特征在于:缓冲垫部分在未受冲击的状态下不影响质量块(I)的正常工作。
【专利摘要】本实用新型涉及MEMS器件的过载保护技术,具体是一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构。本实用新型解决了现有MEMS器件的过载保护方法降低了MEMS器件的测试精度、容易导致MEMS器件发生损坏的问题。一种适应高过载环境的MEMS器件保护机构,包括质量块、缓冲凸块部分、连接横梁部分、锚块部分、缓冲垫部分、弹簧部分;所述缓冲凸块部分包括两个前缓冲凸块、两个后缓冲凸块、左缓冲凸块、右缓冲凸块;所述连接横梁部分包括前连接横梁、后连接横梁;所述锚块部分包括两个前锚块、两个后锚块、左锚块、右锚块;所述缓冲垫部分包括两个前缓冲垫、两个后缓冲垫、左缓冲垫、右缓冲垫。本实用新型适用于MEMS器件的过载保护。
【IPC分类】B81B7/00
【公开号】CN205151758
【申请号】CN201520945665
【发明人】刘俊, 曹慧亮, 石云波, 申冲, 唐军, 马宗敏, 刘文耀, 王 华
【申请人】中北大学
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年11月24日
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