活塞顶结构的制作方法

文档序号:5768424阅读:251来源:国知局
专利名称:活塞顶结构的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种活塞顶结构。
背景技术
现有技术中,活塞顶结构上的气环凹槽过于集中,间隙过大,致使活塞顶结构精度不够。
发明内容本实用新型的目的是提供一种活塞顶结构。本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是一种活塞顶结构,所述活塞顶上设有气环凹槽、螺柱孔和销孔。所述气环凹槽宽度为5-5. 1_。所述螺柱孔的深度为19mm。所述销孔的深度为7mm。本实用新型的一种活塞顶结构,现在高强度、低温胀的材料已用于此结构形式活塞上,使成本更加的低廉,并且能够在烧重油、高爆压等恶劣的工况下,持续不断的工作。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步说明。


图1是本实用新型一种活塞顶结构的结构示意图。
具体实施方式

图1所示,本实用新型活塞顶结构,活塞顶上设有气环凹槽1、螺柱孔2和销孔 3,气环凹槽宽度为5-5. Imm,螺柱孔的深度L2为19mm,销孔的深度Ll为7mm,销孔3直径 0为6mm,环槽外边缘倒角CO. 2 士0. 1。
权利要求1.一种活塞顶结构,其特征在于所述活塞顶上设有气环凹槽、螺柱孔和销孔。
2.根据权利要求1所述的一种活塞顶结构,其特征在于所述气环凹槽宽度为 5-5. Imm0
3.根据权利要求1所述的一种活塞顶结构,其特征在于所述螺柱孔的深度为19mm。
4.根据权利要求1所述的一种活塞顶结构,其特征在于所述销孔的深度为7mm。
专利摘要本实用新型公开了一种活塞顶结构,所述活塞顶上设有气环凹槽、螺柱孔和销孔。本实用新型的一种活塞顶结构,现在高强度、低温胀的材料已用于此结构形式活塞上,目前此类活塞结构从160-400mm缸径不等,此种活塞能够替代组合活塞,使成本更加的低廉,并且能够在烧重油、高爆压等恶劣的工况下,持续不断的工作。
文档编号F16J1/00GK202118234SQ201120174068
公开日2012年1月18日 申请日期2011年5月27日 优先权日2011年5月27日
发明者王玉金 申请人:大连滨城活塞制造有限公司
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