专利名称：镀膜基片检测装置及镀膜基片检测方法
技术领域：
本发明涉及一种镀膜技术，特别涉及一种镀膜基片检测装置及一种镀膜基片检测方法。
技术背景当前，镀膜工艺在光电产品中，应用极其普遍。较常见的光学镀膜方法包括真空蒸镀法 。真空蒸镀法将基片密封于无污染物(如粉尘)的真空蒸镀室内进行蒸镀，以在基片上形成膜 层。然而，由于技术上的极限，真空蒸镀室不可能达到完全真空状态，镀膜基片通常存在麻 点(粒径为5-10微米)或白点(粒径为50-100微米)等不良。因此，需对镀膜基片进行相关检测 ，以确定镀膜基片的质量是否符合要求。目前，常用的检测方法包括目检(visual inspection,可能借助放大镜侦测麻点)。然而，目检效率差，标准不一，检测效果不理想发明内容有鉴于此，有必要提供一种检测效率高且检测标准统一的镀膜基片检测装置及镀膜基片 检测方法。一种镀膜基片检测装置，其包括一个具有相对两个端面的暗箱、 一个设置于该暗箱一个 端面的光源、 一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及与一个该光强度感测器电连 接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门及一个与该暗箱门对应的 镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出的镀膜基片。一种镀膜基片检测方法，其包括提供一个镀膜基片检测装置，该镀膜基片检测装置包括一个具有相对两个端面的暗箱、 一个设置于该暗箱一个端面的光源、 一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及一个 与该光强度感测器电连接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门及 一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出的 镀膜基片；打开该暗箱门；将多片标准镀膜基片放置于该镀膜基片收容部；合上该暗箱门；开启该镀膜基片检测装置；从该透过率显示装置读取透过率作为一个预定透过率； 关闭该镀膜基片检测装置，打开该暗箱门，取出该多片标准镀膜基片； 将多片镀膜基片放置于该镀膜基片收容部； 合上该暗箱门；开启该镀膜基片检测装置；及从该透过率显示装置读取透过率以判断该透过率是否高于一个预定透过率；若是，该多 片镀膜基片合格。利用该镀膜基片检测装置执行该镀膜基片检测方法，可同时检测多片镀膜基片，检测效 率高，且检测标准统一，检测效果好。
图l为本发明较佳实施方式的镀膜基片检测装置的立体示意图。 图2为图1的镀膜基片检测装置截面示意图。 图3为发明较佳实施方式的镀膜基片检测方法的流程图。
具体实施方式
请一并参阅图1及图2，本发明较佳实施方式的镀膜基片检测装置10包括一个暗箱110、 一个光源120、 一个光强度感测器130及一个透过率显示装置140。暗箱110包括两个相对的端 面112、 114。光源120及光强度感测器130分别设置于端面112、 114上。透过率显示装置140 与光强度感测器130电连接。暗箱110在两个端面112、 114之间形成有一个暗箱门116及一个 与暗箱门116对应的镀膜基片收容部118。镀膜基片收容部118用于收容多片由暗箱门116进出 的镀膜基片20(如镀膜玻璃片)。暗箱110为一个由不透明材料制成的矩形中空箱。端面112、 114为暗箱110与其长度方向 垂直的两个内表面。暗箱门116形成于矩形中空箱的一个长侧面(如顶侧面)上。镀膜基片安 装部118为形成于矩形中空箱与暗箱门116相对的内表面(如底内表面)上的多个夹持凹槽lla当然，暗箱110并不限于本实施方式，可视检测需求制成其他形状，如圆筒状(用于测试 圆形镀膜基片)。优选地，光源120为可见光面光源。更加优选地，光源120面积与端面112形状相配合， 以降低光源120的边缘现象。光强度感测器130为光度计(Photometer)，用于感测光源120发出的可见光经过多片镀膜 基片20后的强度，并换算为透过率。透过率显示装置140可采用液晶显示器，其固定于暗箱110上，当然，也可分离设置。透 过率显示装置140用于读取光强度感测器130输出的透过率(光源120发出的光经过多片镀膜基 片20的透过率)，并显示出来。请一并参阅图3，本发明较佳实施方式的镀膜基片检测方法包括以下步骤步骤310:提供镀膜基片检测装置10;步骤320:打开暗箱门116;步骤322:将多片标准镀膜基片(图未示)放置于镀膜基片收容部118;步骤324:合上暗箱门116;步骤326:开启镀膜基片检测装置10;步骤328:从透过率显示装置140读取透过率作为一个预定透过率(如90%); 步骤330:关闭镀膜基片检测装置IO，打开暗箱门116，取出该多片标准镀膜基片； 步骤332:将多片镀膜基片20放置于镀膜基片收容部118;步骤334:合上暗箱门116;步骤336:开启镀膜基片检测装置10;及步骤338:从透过率显示装置140读取透过率(光源120发出的光经过多片镀膜基片20的透过率)以判断该透过率是否高于该预定透过率(如90%);若是，则多片镀膜基片20合格；若否，多片镀膜基片20中存在不合格的镀膜基片20(此情况下，可将多片镀膜基片20与其他镀膜基片配合重新检测，或进行目检)。可以理解，多片镀膜基片20通常经由同批次的蒸镀工序得到，其镀膜质量差异较小。利 用镀膜基片检测装置10及镀膜基片检测方法30进行检测，可提高检测效率，且检测标准统一，检测效果好。应该指出，上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式，本领域技术人员还可在本发明精 神内做其它变化。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之 内。
权利要求
1.一种镀膜基片检测装置，其特征在于包括一个具有相对两个端面的暗箱、一个设置于该暗箱一个端面的光源、一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出的镀膜基片。
2.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该暗箱为 一个由不透明材料制成的矩形中空箱，该两个端面为该暗箱与其长度方向垂直的两个内表面 ，该暗箱门形成于该暗箱的一个长侧面上，该镀膜基片安装部为形成于该暗箱与该暗箱门相 对的内表面上的多个夹持凹槽。
3.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该光源为面光源。
4.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该光源面 积与其对应的端面面积相配合。
5.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该光源为 可见光光源。
6.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该光强度 感测器包括光度计。
7.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该透过率 显示装置包括液晶显示器。
8.如权利要求l所述的镀膜基片检测装置，其特征在于，该透过率 显示装置固定于该暗箱上。
9. 一种镀膜基片检测方法，其包括 提供一个镀膜基片检测装置，该镀膜基片检测装置包括一个具有相对两个端面的暗箱 、 一个设置于该暗箱一个端面的光源、 一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门 及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出 的镀膜基片；打开该暗箱门；将多片标准镀膜基片放置于该镀膜基片收容部；合上该暗箱门；开启该镀膜基片检测装置；从该透过率显示装置读取透过率作为一个预定透过率； 关闭该镀膜基片检测装置，打开该暗箱门，取出该多片标准镀膜基片； 将多片镀膜基片放置于该镀膜基片收容部； 合上该暗箱门；开启该镀膜基片检测装置；及从该透过率显示装置读取透过率以判断该透过率是否高于一个预定透过率；若是，该 多片镀膜基片合格。
全文摘要
本发明提供一种镀膜基片检测装置。该镀膜基片检测装置包括一个具有相对两个端面的暗箱、一个设置于该暗箱一个端面的光源、一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出的镀膜基片。利用该镀膜基片检测装置可同时检测多片镀膜基片，检测效率高，且检测标准统一，检测效果好。另外，本发明还提供一种镀膜基片检测方法。
文档编号G01N21/01GK101576492SQ20081030152
公开日2009年11月11日 申请日期2008年5月9日 优先权日2008年5月9日
发明者王仲培 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司