专利名称：光学面板和制造方法
光学面板和制造方法本公开涉及在包括光和图像传输的各种应用中使用的光学面板(fac印late)，更 特别地，涉及采用横向设置到光学衬底的模压的(embossed)光纤的光学面板和制造方法。其中光从源传输或者传输到检测器的光纤面板在可以包括CCD/CMOS耦合、激光 阵列/纤维阵列耦合、CRT/IXD显示器、图像增强、远程观察、场平坦化、X射线成像以及像在 基因组学、蛋白质组学、药物发现和微流体系统中的分子诊断的应用中用于高分辨率、零厚 度光和图像传输。尽管光纤的优点是清楚的且被证明的，但是在制造这些板时存在各种不 同的问题和缺陷。
光学面板制造中的当前问题包括将细光纤集束成希望的直径、将它们结合在一 起、之后将集束的纤维切割并且抛光到希望的厚度中的困难。在利用具有较小的尺寸(10 微米以下)的纤维制造面板方面同样存在改进的空间，以便控制直径以及单独的纤维之间 的平行对准。此外，当前的制造工艺并没有提供改变纤维之间的中心间距的有效方式，并且 没有提供不同形状的纤维(例如椭圆形、正方形、六边形、八边形等等)。另一个认识的问题在于，提供纤维相对于诸如CCD或CMOS传感器之类的检测器的 像素的精确对准以便避免串扰。常规面板制造的复杂性导致昂贵的制造工艺。依照本发明实施例，公开了光学面板和制造光学面板的方法。光学面板包括具有 主表面的衬底以及模压到衬底上的光纤阵列。光纤具有依照沉积到衬底上的、光纤由其形 成的材料层，模具或压印器(stamp)中的特征的深度以及处理/冲压(stamping)步骤的数 量而确定的长度。方法包括在具有主表面的衬底上形成层以及处理该层以便形成横向设置 到主表面的光纤阵列。本公开的这些和其他目的、特征和优点根据以下对其说明性实施例的详细描述将 变得清楚明白，所述描述应当结合附图进行阅读。本公开将详细地提供以下参照下面的附图对于优选实施例的描述，其中
图1为依照一个实施例的模压到衬底上的光学面板的透视图；图2为依照另一个实施例的具有模压到衬底上的堆叠的光纤的光学面板的透视 图；图3为依照一个实施例的具有沉积的光阻挡材料的图1或图2光学面板的透视 图；图4为依照一个实施例的具有沉积到光纤上的功能材料(例如磷光材料)的光学 面板的透视图；图5为依照另一个实施例的具有沉积到光纤上的功能材料(例如靶特异性亲和探 针)的光学面板的透视图；图6A为具有激活分子形成于其上的溶剂层的衬底的截面图；图6B为转化成凝胶的图6A的溶剂层的截面图；图6C为使用橡胶压印器冲压以便将纤维模压到固体结构中的图6B的凝胶的截面 图；图6D为示出依照一个说明性实施例的形成光纤的固体结构的截面图7A为具有UV或热可固化层的衬底的截面图；图7B为使用模板压印(imprint)并且随后利用辐射照射图7A的UV或热可固化 层以便启动聚合的图7A的UV或热可固化层的截面图；图7C 为示出依照一个说明性实施例移除模板留下形成光纤的固体结构的截面 图；图8A为具有填充了填充材料的光纤阵列的衬底的截面图；图8B为具有填充了填充材料的固体结构的衬底的截面图，该固体结构具有在其 上压印形成的层；图8C为使用模板压印并且随后凝固(solidify)可固化抗蚀剂(resist)的图8B 的层的截面图；图8D为示出依照一个说明性实施例移除模板留下形成光纤的固体结构的截面 图；图8E为示出移除填充材料之后依照一个说明性实施例的形成光纤的固体堆叠结 构的截面图；图9为示出依照一个说明性实施例的光学面板的说明性应用的示意图；图10为示出没有面板的设置的示意图；以及图11为示出用于制造依照本发明原理的光学面板的说明性方法的框图/流程图。本公开描述了可以在包括但不限于电荷耦合器件(CXD)/互补金属氧化物半导体 (CMOS)耦合、激光阵列/纤维阵列耦合、阴极射线管/液晶显示器(CRT/IXD)显示、图像增 强、远程观察、场平坦化、诸如射线照相术和乳房摄影术之类的X射线成像以及像在基因组 学、蛋白质组学、药物发现、微流体系统及其他中的分子诊断的应用中采用的光学面板。目 前，这样的板通过将细光纤集束成希望的直径、将它们结合在一起、之后将器件切割并且抛 光到希望的厚度来产生。这是具有各种缺陷的困难过程。依照本发明原理，公开了一种用 于制造光学板的方法。该方法涉及在可以是功能单元(检测器等)的希望的衬底上模压希 望的高度和纵横比的结构。这之后可以是，如果必要的话，利用低折射率材料或其他功能材 料填充模压的纤维周围的区域。功能材料也可以沉积到纤维上。这些功能材料可以包括例 如沉积到光学面板上的靶特异性亲和探针。应当理解的是，下面将根据具有模压的光纤的光学面板来描述本发明。然而，本发 明的教导要宽广得多并且可以适用于在相对于承载或固定纤维的衬底的横向取向上的纤 维的基于阵列的附接方法。可以使用多种不同的技术将纤维安装、定位或者以其他方式放 置在衬底上。本文描述的实施例优选地使用印刷工艺来制造；然而，也可以采用平版印刷成 像和处理。也可以设想其他处理技术。同样应当理解的是，所述光学面板的说明性实例可以适于包括附加的电子/光学 部件。这些部件可以与衬底形成整体或者安装在衬底或其他部件上(例如安装在纤维上)。 此外，所采用的部件可以根据应用和设计而变化。附图中绘出的元件可以以各种硬件组合 实现并且提供可以在单个元件或多个元件中组合的功能。现在，参照其中相同的附图标记表示相同或相似的元件的附图，并且初始时参照 图1，光学面板10包括衬底12，多根光纤14以希望的模式或阵列15模压到衬底12上。衬 底12可以是功能单元16或者具有在其上形成的功能单元16，例如像素、像素阵列、检测器、传感器等等。如果在衬底12中采用了检测器或传感器，那么质量检查或测试光纤阵列15变得容易，因为检测最终产品的功能更容易。纤维14优选地具有高的纵横比，例如1 2到 1 10或者更大的宽长比。通过印刷或冲压光学面板10，有利地解决了常规的对光纤集束、将它们结合在一 起、之后将它们切割和抛光到希望的厚度中的描述的缺陷。依照本发明原理形成的、尤其是 具有较小直径(例如低于10微米)的纤维14单独地对准并且可以更容易地制造。该方法 也适合用于产生具有纳米尺寸的纤维(纳米纤维)。该制造方法也允许控制各种阵列尺寸 (例如纤维14之间的中心间距)、纤维形状(例如椭圆形、正方形、六边形、八边形等等)和 纤维尖端形状。这样的尺寸、形状和间距有利地在管芯/压印器中预先确定或者在平版印 刷掩模操作中预定型(pre-pattern)。同样应当理解的是，本发明原理在光纤的制造方面提供了大量的灵活性。例如，纤 维的截面形状和纤维之间的间距可以在相同的器件或衬底上变化。换言之，纤维的密度和 纤维的各尺寸可以在表面上变化。同样地，截面形状和宽度可以在表面上变化和混合。此 夕卜，纤维的顶面形状可以改变成圆顶形的、平坦的、金字塔形的、弯曲的等等。此外，纤维的 尺寸也可以沿着纤维轴而变化。这样的结构可以沿着表面变化和混合。例如，也可以产生 锥形纤维。有利的是，实现了光纤14相对于衬底12的精确定位。例如，如果衬底12包括源 或检测器，例如CCD或CMOS传感器，那么可以在可以最优化或提高性能的衬底12上的特定 位置处提供纤维14的精确定位。此外，改善了光学面板到源或检测器的结合，从而导致传 输效率提高以及成本降低。纤维可以化学地结合到表面。这可以通过使用随后可以与所述 层反应的活性分子处理表面来实现。它也可以仅仅是物理粘附。在纤维14的形成中可以使用各种材料。在一个特别有用的实施例中，可以采用表 现出低聚合收缩并且变成化学地附接到表面的溶胶凝胶材料。在一个实施例中，通过蒸发 溶剂和/或由热或光进行交联来沉积(例如旋压(spin))和凝固液体材料。对于光学面板 10而言，这些材料具有用于该应用的希望的和改善的光学性质(例如最佳数值孔径、高透 射性)，同时是热和化学稳定的(没有退化或褪色)。可固化材料的实例可以选自以下组 (甲基)丙烯酸酯((methahcrylate)，环氧树脂氧杂环丁烷，乙烯基醚，醇盐，例如烷氧基 硅烷，四甲氧基硅烷(tertramethoxysilane, TM0S)，四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane, TE0S)，甲基三甲氧基硅烷(methyltrimethoxysilane，MTMS)或者其他适当的材料。参照图2，其说明性地示出了堆叠的光纤面板20。第一层28包括可以沉积或旋压 到衬底12上的第一材料。第二层26在第一层28上形成。层26和28的处理可以分步执 行或者同时执行，这取决于用来处理这些层的方法和每层采用的材料类型。例如，如果采用 了冲压工艺，那么两个层26和28可以同时冲压以便形成堆叠的纤维24。如果采用了平版 印刷工艺，那么这些层可以同时蚀刻，或者在需要针对这些不同层调节蚀刻化学的情况下 分步蚀刻。图2的衬底12可以包括在衬底12之内或之上形成的像素化光传感器16，例如 CMOS或CCD器件。纤维24用来将光引导到传感器，其被配置成引导由例如纤维上面的磷光 体层产生的光。如果纤维需要具有不能在单次压印动作中获得的纵横比，那么可以使用图2 中示出的堆叠的纤维配置。堆叠的纤维24可以包括不同的材料并且具有不同的光学特性和尺寸。本领域技术人员应当理解的是，这些层之一可以用来衰减辐射(光、X射线等等) 或者以其他方式调节光和/或辐射(例如过滤特定的波长等等)。在一个实施例中，层26 可以保持连续并且没有其中形成的纤维，使得纤维仅在层28内形成。应当理解的是，数量大于2的多个层可以堆叠到彼此之上。此外，堆叠的纤维24的若干部分可以如图2中所示同轴地形成；然而，堆叠的纤维24的这些部分可以从一层到 下一层截面面积不同地形成，或者可以从一层到下一层使中心偏移。参照图3，纤维14或24之间的区域可以保持为空或者填充或部分地填充材料32。 材料32可以包括低折射率材料、辐射阻挡材料(例如光阻挡材料或者包含重金属及其离子 的X射线阻挡材料)或者其他功能材料或结构。例如，也可以包含任何尺寸的颗粒的高反 射或吸收材料可以用来填充光纤面板10或20的外部结构以便获得CCD或CMOS成像仪的 高图像质量。材料32也可以用来保护纤维14和24免受由于操纵或操作而引起的应力/ 应变。材料32也可以用作掩模以保护纤维14或24的下部并且提供纤维14和24的上部 以用于处理(例如，蚀刻以使粗糙或肮脏表面洁净或者用于如下面例如参照图4和图5所 描述的形成附加的特征)。参照图4，在应用包括X射线成像或其他模式的情况下，光纤面板10(或20)可以 包括功能材料42，例如发光或磷光材料(磷光体)或者闪烁体材料或其他材料。优选地，该 材料(例如磷光体)42可以置于纤维14的上部区域内。可以在给定条件下照射这些材料 结构42。参照图5，也可以将诸如例如靶特异性亲和探针54之类的功能材料52沉积到光学 面板10或20上。可以以包括接触、下滴、点样(spotting)的多种方式或者通过任何其他 适当的沉积技术将靶特异性亲和探针54沉积到光学面板10或20上。将靶特异性亲和探 针54固定到光学面板上可以以不同方式来实现，这些方式包括将探针54化学结合到面板 10或20。探针54可以包括不同的生物受体，其用于检测DNA、RNA、蛋白质、细胞、组织或者 任何种类的生物分子或感兴趣有机物。光学面板可以用于分子诊断的高通量方法。所述部件可以用在许多应用中，举几 个实例而言，例如，基因组学、蛋白质组学、药物发现和微流体系统。光学面板具有以下优 点具有极高数量的光学元件和反应部位。它们通过微孔(microwell)或毛细管提供了反 应部位的无干扰分离。使用光纤技术，可以获得对单独光学通道的优越的读出。这允许实 现高灵敏度、可重复性和低背景荧光。参照图6A-6D，其说明性地示出了根据一种用于制造依照本发明原理的光学面板 的方法的压印平版印刷/模压方法。可以采用大面积压印技术，其非常适合用于在室温下 在单层和堆叠的层中制造具有高纵横比的低至纳米尺寸的结构。依照这种方法，将柔性压 印器用于复制从mm尺寸到nm尺寸的结构。该技术极其适合用于制造光纤面板，因为它可 以以高精度印刷具有高纵横比的从mm尺寸直到nm尺寸的特征。此外，制造工艺是低成本 的并且具有工业制造能力。本文提供了使用压印平版印刷术制造光纤面板的建议的制造工 艺。参照图6A，例如通过旋涂、喷涂或刮涂(doctor blading)将具有诸如2. 9wt% (重 量百分比)TM0S、2. 6wt% MTMS、87. 5wt% 1-丙醇、2. 3wt% 甲酸、3. 7Wt%水禾口 1. 0 1%苯甲 酸甲酯(methylbenzoate)之类的活性分子的可凝固液体62施加到衬底12上。该衬底可以包括功能单元16，例如像素或光学传感器等等。在该工艺期间，液体62中的溶剂蒸发，并 且活性分子开始形成如图6B中示出的凝胶66。随后，层68由柔性橡胶压印器70模压，该 柔性橡胶压印器如通过引用合并于此的W02003099463和EP1511632中所描述的和图6C中 所描绘的那样以防止包含空气的波型运动轻轻地施加到衬底12。液体62中的溶剂也可以 从凝胶材料66扩散到压印器70中以便如图所示帮助将固体结构72留在衬底12和/或功 能单元16上。橡胶压印器70优选地也通过波型运动技术移除，从而如图6D中所示剥离压 印器而不损坏复制物。如果结构72之间仍然存在一些留下的材料，那么可以采用诸如活性 离子蚀刻(RIE)和/或离子束蚀刻之类的蚀刻方法。可选地，衬底12上的固体结构72可 以由诸如银溶胶凝胶(参见例如图3)之类的光阻挡材料或其他材料填充。同样可能的是， 首先制造光阻挡结构，并且随后利用允许光从中传播的材料填充间隙。参照图7A-C，说明性地示出了第二压印平版印刷/模压方法，其将紫外(UV)或热 敏感材料用于制造光学面板。参照图7A，例如通过旋涂或刮涂将UV或热 敏感材料164施加到衬底12上。如图 7B中所示，沉积的层164由压印器170模压或压印并且随后由辐射照射。该照射使得抗蚀 剂或材料164交联或者否则凝固。如图7C中所示，移除压印器170在衬底12上留下纤维 结构172。参照图8，示出了依照另一个说明性实施例制造纤维叠层结构中使用的工艺步骤。参照图8A，纤维阵列180在包括功能单元16的衬底12上形成。纤维阵列180通 过压印平版印刷术产生，其中纤维14之间的区域填充有材料182 (其可以与上面描述的材 料32相同)。参照图8B，例如通过旋涂或者刮涂将可固化材料184(例如抗蚀剂)施加到 图8A的填充的纤维阵列180上。如图8C中所示，在压印器170相对于衬底对准之后，图8B 的沉积的层184由压印器170模压并且随后凝固以便形成固体结构186。如图8D中所示， 移除压印器170在图8A的填充的纤维阵列180上留下纤维结构186。填充材料182可以之 后通过例如将填充材料182溶解到适当的溶剂中或者通过烧掉填充材料182来移除，从而 导致堆叠的纤维阵列188(仅在抗热或防溶解材料用于产生纤维阵列的情况下才可能，例 如溶胶凝胶材料)。参照图9，在一个说明性实施例中，可以在数字射线照相术应用中采用光纤面板 190。这与透镜相比导致更好的图像分辨率以及更有效的光收集和传输。光纤阵列190置 于闪烁器192与C⑶或CMOS成像仪194之间。X射线源196产生X射线。来自χ射线闪烁 器的光倾向于如图10中所示散射，但是依照本发明原理的由相干光纤束制成的面板190最 小化了散射并且保护了图像强度和分辨率。尽管光纤用于数字射线照相术的优点是清楚的，但是在使用常规的技术制造这样 的光纤面板并且将其结合到闪烁器和CCD或CMOS成像仪方面可能存在问题。重要的是，纤 维与检测器的像素对准。使图像质量退化的失真和响应非均勻性应当降低。纤维相对于像 素的更高程度的对准通过依照本发明原理将纤维结合或模压到衬底(例如直接到CCD或 CMOS成像仪)来实现。精确、鲁棒、可靠的附接通过冲压纤维凝胶或者对交联层使用照相平 版印刷术来提供。此外，更高的图像质量通过增加将光输送到每个传感器像素的纤维数量 来提供。例如，6微米纤维直径可以提供16根纤维给24微米像素；然而，依照本发明原理 可以提供多得多的纤维，因为可以制造具有小直径(甚至在纳米尺度上)的纤维。可以容易地跨衬底改变纤维的密度、尺寸、形状和位置。本发明原理提供了光纤面板的改善的传输效率、精确而鲁棒的附接以及降低的失 真和响应非均勻性，以最大化图像质量和持久性。此外，面板可以利用如上面所描述的具有 特定形状(例如椭圆形、正方形、六边形、八边形等等)和较小的尺寸(例如低于15微米以 及进入纳米范围内)的纤维来制造。同样地，可以将纤维的顶面 形状改变成圆顶形的、平坦 的、金字塔形的、弯曲的等等。此外，依照本发明实施例的制造方法成本更低。在本发明的实施例中，已经使用交联材料制造光纤面板。在具有不同粗糙度或轮 廓的各种表面上制造了具有各种形状和高纵横比(1 10)的微米和甚至纳米结构。参照图11，说明性地绘出了依照本发明原理的制造光学面板的方法。在框202中， 在衬底的主表面上形成层。该层优选地为在固化/干燥时能够透射希望的波长或波长范围 的电磁辐射的材料。该层可以旋压或刮涂到衬底表面上。衬底可以包括成像器件(例如像 素等等)。所述材料可以包括能够凝固的液体或者交联材料，例如在蒸发溶剂或者通过热和 辐射聚合溶剂之后变成凝胶的液体。在一个实施例中，层材料可以在该层的模压期间凝固。 在框204中，层被处理以形成横向设置到衬底主表面的光纤阵列。这可以包括在框206中 的模压步骤之前或期间形成凝胶或固体，或者在模压步骤期间使用辐射(例如UV)或热固 化抗蚀剂层。在可选的步骤203中，填充材料可以在先前的纤维层周围形成。这使得可以形成 多个层以便创建堆叠的光学面板。在根据需要完成框202-210中的处理之后，代替(框210 的)辐射阻挡材料的是或者除了该辐射阻挡材料之外，施加填充物材料。根据需要，依照步 骤202、204、206、208和210形成和处理第二层(框202)。这可以对于与需要的一样多的层 继续。所述多个层形成所述光纤阵列，使得每层提供整个光纤的长度的一部分。在框206中，所述处理可以包括冲压或模压所述层以便形成光纤阵列。在对准之 后，冲压优选地包括利用例如波状运动施加压印器以避免真空和空气泡。冲压过程还包括 控制纤维之间的间距、纤维的截面形状和纤维的尖端几何结构中的至少一个。这可以使用 压印器上提供的特征来实现。在框208中，可以蚀刻或加热所述纤维阵列以便移除纤维之间的材料。蚀刻可以 包括例如活性离子蚀刻工艺。在框210中，可以在纤维阵列周围形成辐射(光、X射线等等) 阻挡材料。在框212中，可以将功能材料沉积到光纤的上部。功能材料可以包括磷光或发 光材料和/或亲和探针(例如靶特异性亲和探针)。也可以设想其他功能材料。在解释所附权利要求书时，应当理解的是a)措词“包括/包含”并没有排除存在给定权利要求中未列出的其他元件或动作；b)元件之前的措词“一”或“一个”并没有排除存在多个这样的元件；c)权利要求中的任何附图标记并没有限制其范围；d)若干“装置”可以由同一项目或者硬件或软件实现的结构或功能来表示；以及e)除非有明确说明，并不预期要求特定的动作顺序。描述了光学面板和制造方法的优选实施例(其预期是说明性的而不是限制性的) 之后，应当指出的是，本领域技术人员根据上面的教导应当能够做出若干修改和变型。因 此，应当理解的是，可以在所披露的本公开的特定实施例中做出改变，这些改变处于所附权 利要求书所概述的本文公开的实施例的范围和精神内。这样描述了专利法所要求的细节和特征之后，所附权利要求书中阐述了要求和希望专利证书保护的内容 。
权利要求
一种用于制造光学面板的方法，包括在具有主表面的衬底上形成(202)层；以及处理(206)该层以便形成横向设置且附添到主表面的光纤阵列。
2.如权利要求1所述的方法，其中形成(202)层包括形成交联的部分。
3.如权利要求1所述的方法，其中形成交联的层包括UV/热可固化层和凝胶层之一。
4.如权利要求1所述的方法，其中形成(202)层包括形成(203)多个层，并且处理 (204)该层以便形成光纤阵列包括处理所述多个层以便形成该光纤阵列，使得每层提供光 纤长度的一部分。
5.如权利要求1所述的方法，其中处理包括冲压(206)所述层以便形成所述光纤阵列。
6.如权利要求5所述的方法，其中冲压(206)包括采用柔性压印器。
7.如权利要求5所述的方法，其中冲压(206)包括控制纤维之间的间距、纤维的截面形 状和纤维的尖端形状中的至少一个。
8.如权利要求1所述的方法，还包括蚀刻(208)所述纤维阵列以便移除纤维之间的材料。
9.如权利要求1所述的方法，还包括在所述纤维阵列周围形成(208)辐射阻挡材料。
10.如权利要求1所述的方法，还包括在光纤的上部沉积(212)功能材料。
11.如权利要求10所述的方法，其中在光纤的上部沉积(212)功能材料包括沉积发光 材料、磷光材料、亲和探针或者其组合之一。
12.一种用于制造光学面板的方法，包括 在衬底上施加(202)层；以及在存在压印器的情况下通过施加压印器并且凝固该层来模压(206)该层以便形成光 纤阵列。
13.如权利要求12所述的方法，其中所述层包括交联材料。
14.如权利要求12所述的方法，其中所述层包括液体材料，并且还包括在模压(206)之 前至少部分地凝固(204)该层。
15.如权利要求12所述的方法，还包括形成(203)多个层并且处理这些层以便形成堆 叠的光纤阵列，使得所述多个层中的每一层提供光纤长度的一部分。
16.如权利要求12所述的方法，还包括蚀刻(208)所述纤维阵列以便移除纤维之间的 材料。
17.如权利要求12所述的方法，还包括在所述纤维阵列周围形成(210)辐射阻挡材料。
18.如权利要求12所述的方法，还包括在光纤的上部沉积(212)功能材料，所述功能材 料包括发光材料、磷光材料和亲和探针之一。
19.一种光学面板，包括 衬底(12)，其具有主表面；以及模压到衬底上的光纤(14)阵列(15)，所述光纤具有由沉积到衬底上的、光纤由其形成 的材料的层厚度和/或用来模压光纤的压印器上的特征的深度确定的长度。
20.如权利要求19所述的光学面板，其中衬底包括光学传感器(16)。
21.如权利要求19所述的光学面板，还包括在所述纤维阵列周围形成的辐射阻挡材料 (32)。
22.如权利要求19所述的光学面板，还包括在光纤的上部的功能材料(42)，该功能材 料包括磷光材料、发光材料和亲和探针之一。
23.如权利要求19所述的光学面板，其中所述层包括多个层(26，28)，并且所述长度依 照所述多个层来确定。
24.如权利要求19所述的光学面板，其中光纤(14)包括至少1 10的宽度-长度纵 横比。
25.如权利要求19所述的光学面板，其中光纤(14)具有非圆形截面形状。
全文摘要
公开了光学面板和用于制造光学面板的方法。光学面板(10)包括具有主表面的衬底(12)以及模压到衬底上的光纤阵列(15)。所述光纤具有依照沉积到衬底上的、光纤由其形成的材料的层，模具或压印器中的特征的深度以及处理/冲压步骤的数量确定的长度。方法包括在具有主表面的衬底上形成(202)层；以及处理(204)该层以便形成横向设置到主表面的光纤阵列。
文档编号G01N21/64GK101889228SQ200880119362
公开日2010年11月17日 申请日期2008年12月3日 优先权日2007年12月6日
发明者H·范斯普兰奇, M·A·弗舒伦, R·A·M·希克梅特, T·范博梅尔 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司