用于检查涂覆表面的放气方法

专利名称：用于检查涂覆表面的放气方法
技术领域：
本发明涉及储存生物活性化合物或血液的涂覆容器的制造的技术领域。特别地， 本发明涉及一种用于容器的涂覆的容器处理系统，用于容器的涂覆和检查的容器处理系统，涉及一种用于容器处理系统的便携式容器支架，涉及一种用于涂覆容器的内部表面的等离子体增强化学气相沉积装置，涉及一种用于涂覆容器的内部表面的方法，涉及一种用于检查容器涂层的方法，涉及一种处理容器的方法，涉及一种容器处理系统的用途，涉及一种计算机可读介质并且涉及一种程序元件。在此提供了用于检查涂覆工艺的产品的一种方法。其中，测量了至少一种挥发性物种从该涂覆表面到与该涂覆表面邻近的气体空间中的释放并且将该结果与对于在相同试验条件下测量的至少一个参考对象的结果进行比较。从而可以确定该涂层的存在或缺乏、和/或该涂层的物理和/或化学特性。该方法对于检查任何涂覆的物品(例如容器) 是有用的。还披露了它的在由有机硅前体制成的PECVD涂层尤其是阻挡涂层的检查方面的应用。本披露还涉及改进的用于处理容器的方法，这些容器例如是用于静脉穿刺和其它医学采样、药物制剂储存和递送、以及其它目的的多个相同的容器。这样的容器被大量地应用于这些目的，并且对于制造而言必须是相对经济的并且在储存和使用中仍然是高度可靠的。
背景技术：
例如，真空采血管用于从病人抽取用于医学分析的血液。这些管被抽真空而出售。 通过将一个两端皮下针头的一端插入到病人的血管中并且在该两端针头的另一端刺穿该真空采血管的闭合件，病人的血液被连通到一个管的内部。真空采血管内的真空通过针头把血液抽取(或准确地说，病人的血压推动了血液)进入该真空采血管中，增大了该管内的压力并且因此减小了引起血液流动的压差。典型地血液流动继续直到该管从针头移开或者该压差太小而不能支持流动。真空采血管应该具有一个实质性的保质期以有助于这些管在使用之前的有效且方便的分配和储存。例如，一年的保质期是令人希望的，并且在一些情况下渐进更长的保质期，如18个月，M个月，或36个月也是所希望的。该管令人希望地保持基本上完全真空，至少达到抽取足够的用于分析的血液所必需的程度(一个共同标准是该管要保持至少原始抽取体积的90% )，对于整个保质期，很少(最佳地是没有)提供有缺陷的管。—个有缺陷的管有可能造成抽血者不能使用该管来抽取足够的血液。于是抽血者可能需要获得并且使用一个或多个另外的管以获得一个足够的血样。再例如，预充式注射器通常是被准备好而出售的，因此这种注射器不需要在使用前进行填充。在一些实例中，可以用盐溶液、一种用于注射的染料、或一种药物活性制剂预填充注射器。通常地，预充式注射器在远端是加帽的(正如带有一个帽)，并且在近端通过它的拉动柱塞是封闭的。在使用之前可以将预充式注射器包装在一种无菌包装中。为了使用该预充式注射器，移开包装和帽，任选地将一个皮下针头或另一个递送导管附接到注射器筒的远端，将该递送导管或注射器移动到一个使用位置(如通过将皮下针头插入到病人的血管中或进入有待用该注射器的内容物进行冲洗的装置中)，并且该柱塞在该筒中前进以注射该筒的内容物。在制造预充式注射器过程中，一个重要的考虑是该注射器的内容物令人希望地将具有一个实质性的保质期，在此期间使填充该注射器的材料与含有该材料的筒壁隔离是重要的，以避免来自该筒的浸出材料进入这些预填充的内容物中或者反之亦然。因为许多的这些容器是价廉的并且已被大量使用，对于某些应用将有用的是，在没有将制造成本增加到一个高不可及的水平的情况下可靠地获得必要的保质期。并且，对于某些应用而言令人希望的是避开玻璃容器(玻璃容器可能破损并且对于制造而言是昂贵的)而偏爱于在正常使用中很少破损的塑料容器(并且如果破损也不形成来自容器的残留物的尖锐的碎片，而像玻璃管会形成这样的碎片)。玻璃容器已经被偏爱是因为与未处理的塑料相比较对于预充填的内容物而言玻璃是更气密性的以及惰性的。并且，由于它的传统使用，玻璃是普遍接受的，因为已知当玻璃与医学样品或药物制剂等相接触时是相对无害的。关于注射器的一个进一步的考虑是当把柱塞压进筒时确保它能以恒定的速度和恒定的力进行移动。为此目的，在筒和柱塞之一或两者上的一个润滑涂层是令人希望的。一个非详尽无遗的可能相关的专利清单包括美国专利6，068，884和4，844，986以及美国公开申请20060046006和2004(^67194。发明概述本发明的一个目标是提供一种改进的涂覆容器的制造。下面描述了多种方法以及根据这些方法制造的器件，其中这些方法可以通过下面进一步描述的容器处理系统来进行并且这些器件可以通过这个系统来制造。本发明提供了用涂层(通过PECVD由有机硅前体来制造)来涂覆表面(例如容器的内部表面)的一种方法。此外，本发明提供了产生的涂层、涂覆有这样的涂层的容器、以及该涂层的用途(例如，作为润滑涂层、疏水涂层、或阻挡涂层)。而且，提供了用于进行本发明的装置以及数种设备。本发明还提供了用于该涂层的检查方法，特别是将通过涂覆表面的挥发性物种(volatile species)的放气用于所述检查的一种方法。PECVD涂覆方法本发明涉及一种通过等离子体增强的化学气相沉积处理(PECVD)来制备涂层的方法，以及例如一种涂覆容器的内部表面的方法。提供了一个表面(例如一个内部容器表面)，如同是一种反应混合物，该混合物包括一种有机硅化合物气体，任选地一种氧化气体，以及任选地一种烃气体。该表面与该反应混合物相接触。等离子体在反应混合物中形成。优选地，所述等离子体是非空心阴极等离子体，或对于相同情况的另一种表述中，所述等离子体基本上不含空心阴极等离子体。该涂层被沉积在该表面的至少一个部分(例如该容器内壁的一个部分)上。该方法是如下实现的。提供了一种前体。优选地，所述前体是一种有机硅化合物(在下面也指定为“有机硅前体”)，更优选地是选自下组的一种有机硅化合物，该组由以下各项组成线性硅氧烷、 单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、任何这些前体的氮杂类似物 (即，线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷)、以及这些前体的任何两种或更多种的组合。在通过PECVD有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。于是该前体被聚合、交联、部分地或完全地氧化、或这些之中的任何组合。在本发明的一个方面，该涂层是一个润滑涂层，即它形成具有比未涂覆的基底更低的摩擦阻力的一个表面。在本发明的另一个方面，该涂层是一种钝化涂层，例如一种导致例如与该涂覆表面相接触的组合物的组分的更少的沉淀的疏水涂层。这样的疏水涂层的特征在于比未涂覆的对应物更低的湿润张力。本发明的润滑涂层还可以是一种钝化涂层，并且反之亦然。在本发明的一个进一步的方面，该涂层是一种阻挡涂层，例如一种SiOx涂层。典型地，该阻挡层是防气体或液体的，优选地是防水蒸气、氧气和/或空气的。还可以使用该阻挡层来建立和/或维持涂覆有该阻挡涂层的容器内部(例如一个采血管内部)的真空。此外，本发明的方法可以包括通过PECVD从一种有机硅前体制造的一个或多个另外的涂层的施加。一个任选的另外的步骤是用基本上由氧气组成的并且基本上不含挥发性硅化合物的一种工艺气体对该SiOx涂层进行后处理。润滑涂层在一个具体的方面，本发明提供了一种润滑涂层。这种涂层是通过PECVD方法并且使用如上所述的前体而有利地制造的。例如，本发明提供了用于设置在基底表面上的一种涂层的润滑特性的一种方法， 该方法包括以下步骤(a)在该基底表面附近提供一种气态反应物，该气态反应物包含一种有机硅前体以及任选地O2;并且(b)从该气态反应物产生一种等离子体，因此通过等离子体增强的化学气相沉积 (PECVD)在该基底表面上形成一个涂层，其中该涂层的润滑特性是通过设置该气态反应物中化与有机硅前体的比率、和/或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率进行设置的。用于该润滑涂层的一个优选的前体是单环硅氧烷，例如八甲基环四硅氧烷 (OMCTS)。与未处理的基底相比，所产生的涂覆表面具有更低的摩擦阻力。例如，当该涂覆表面是注射器筒和/或注射器柱塞的内部时，该润滑涂层有效地提供了小于在该润滑涂层缺乏时所需要的相应的力的起动力(breakout force)或柱塞滑动力或两者。涂覆有润滑涂层的物品可以是在壁上(优选地在内壁上)具有润滑涂层的一种容器，例如一种注射器筒、或在容器接触表面上具有所述涂层的一种容器部件或容器帽，例如一种注射器柱塞或一种容器帽。在一个方面，该润滑涂层可以具有式SiwOxCyHz，例如其中w是1，χ是1，χ是从大约0. 5至大约2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从大约2至大约9，优选地其中w是 1，χ是从大约0. 5至1，y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9。
钝化，例如疏水涂层根据本发明的钝化涂层是例如一种疏水涂层。用于钝化(例如疏水涂层)的一种优选的前体是一种线性硅氧烷，例如六甲基二硅氧烷(HMDSO)。根据本发明的一种钝化涂层防止或减少了未涂覆的表面对包含在该容器中的化合物或组合物的机械和/或化学作用。例如，防止或减少了与该表面相接触的组合物的一种化合物或组分的沉淀和/或凝固或血小板激活，例如防止了血液凝固或血小板激活或胰岛素沉淀、或未涂覆表面被水性流体润湿。本发明的一个具体方面是具有一个疏水涂层的表面，该涂层具有式SiwOxCyHz，例如其中w是1，χ是从大约0. 5至大约2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从大约2至大约9，优选地其中w是1，χ是从大约0. 5至1，y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9。涂覆有钝化涂层的物品可以是在壁上(优选地在内壁上)具有这种涂层的一种容器，例如一种管、或在容器接触表面上具有所述涂层的一种容器部件或容器帽，例如一种容器巾冒。容器的涂覆当使用PECVD通过上述涂覆方法来涂覆容器时，该涂覆方法包括数个步骤。提供了一种容器，该容器具有一个开口端、一个闭合端、以及一个内部表面。将至少一种气态反应物引入该容器中。在有效形成该反应物的反应产物(即该容器的内部表面上的一个涂层)的条件下在该容器之内形成等离子体。优选地，该方法是通过使该容器的开口端落座于如在此所述的一个容器支架上、 在该容器支架与该容器的内部之间建立一个密封连通来进行的。在这个优选的方面，该气态反应物是通过该容器支架而引入该容器中的。在本发明的一个特别优选的方面，将包括一个容器支架、一个内部电极、一个外部电极、以及一个电源的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)装置用于根据本发明的涂覆方法。该容器支架具有一个端口，以将容器接收在一个落座的位置用于处理。该内部电极被定位从而有待被接收在落座于在一个容器支架上的容器之内。该外部电极具有一个内部部分，该内部部分被定位以接收落座于该容器支架上的一个容器。该电源将交流电输入到这些内部和/或外部电极上从而在落座于该容器支架上的容器中形成一种等离子体。典型地，该电源将交流电输入到该外部电极上而该内部电极是接地的。在这个实施方案中，该容器限定了该等离子体反应室。在本发明的一个具体方面，如前面段落中所述的PECVD装置包括一个并不必需包括真空源的放气管，用于将气体传递至落座在该端口上的容器的内部或者传递来自该容器的内部的气体，以限定一个闭合室。在本发明的一个进一步的具体的方面，该PECVD装置包括一个容器支架、一个第一夹钳、在该容器支架上的一个座、一个反应物供应装置、一个等离子体发生器、以及一个容器释放装置。该容器支架被配置用于落座于一个容器的开口端上。该第一夹钳被配置用于选择性地保持以及释放容器的闭合端并且同时夹住该容器的闭合端，将该容器运送至该容器支架附近。该容器支架具有一个座，该座被配置用于在该容器支架与该第一容器的内部空间之间建立密封的连通。该反应物供应装置被可操作地连接用于通过该容器支架将至少一种气态反应物引入到该第一容器内。该等离子体发生器被配置用于在该第一容器的内部表面上有效形成反应物的反应产物的条件下在该第一容器内形成等离子体。提供了该容器释放装置用于从该容器支架将该第一容器移开。一个夹钳(该夹钳是第一夹钳或另一个夹钳)被配置用于轴向地运送该第一容器离开该容器支架进而释放该第一容器。在本发明的一个具体方面，该方法是用于通过PECVD来涂覆容器的一个限制的开口的内表面，例如一个大致管状的容器。该容器包括一个外部表面、限定了一个内腔的一个内表面、具有内径的一个较大的开口、以及一个限制的开口，该限制的开口被一个内表面所限定并且相比于该较大开口的内径具有较小的内径。提供了一种处理容器，该处理容器具有一个内腔以及一个处理容器开口。该处理容器开口与该容器的限制的开口相连接从而经由该限制的开口在有待处理的容器的内腔与处理容器内腔之间建立连通。将有待处理的容器的内腔以及处理容器内腔之内抽成至少部分真空。PECVD反应物被流动通过该第一开口， 然后通过有待处理的容器的内腔，然后通过该限制的开口，然后进入该处理容器的内腔。在将一个PECVD反应产物的涂层有效沉积在限制的开口的内表面上的条件下在该限制的开口的附近产生等离子体。涂覆的容器以及容器部件本发明进一步提供了从如上所述的方法产生的涂层、涂覆有所述涂层的表面、以及例如涂覆有所述涂层的容器。涂覆有这种涂层的表面(例如容器壁或它的一部分)可以是玻璃或一种聚合物， 优选地一种热塑性聚合物，更优选地选自下组的一种聚合物，该组由以下各项组成一种聚碳酸酯、一种烯烃聚合物、一种环烯烃共聚物以及一种聚酯。例如，它是一种环烯烃共聚物、
一种聚对苯二甲酸乙二酯或一种聚丙烯。在本发明的一个具体方面，该容器壁具有被至少一个外部聚合物层围绕的一个内部聚合物层。这些聚合物可以是相同的或不同的。例如，环烯烃共聚物(COC)树脂的这些聚合物层之一(例如，限定了一个水蒸气阻挡层)，另一个聚合物层是聚酯树脂的一个层。 这样的容器是由包括通过同心的注射喷嘴将COC以及聚酯树脂层引入一个注塑模具中的一种方法来制造的。本发明的涂覆容器可以是空的、抽空的或(预)填充有一种化合物或组合物的。本发明的一个具体的方面是具有一种钝化涂层(例如如上所定义的一种疏水涂层)的容器。本发明的一个进一步的具体方面是具有如上所定义的一个润滑涂层的表面。它可以是在壁上(优选地在内壁上)具有润滑涂层的一种容器，例如一种注射器筒、或在容器接触表面上具有所述涂层的一种容器部件或容器帽，例如一种注射器柱塞或一种容器帽。本发明的一个具体的方面是一种注射器，该注射器包括一个柱塞、一个注射器筒、 以及在这些注射器部件之一或两者上(优选地在该注射器筒的内壁上)的如上所定义的一个润滑涂层。该注射器筒包括一个筒，该筒具有一个可滑动地接收一个柱塞的内部表面。该润滑涂层可以被布置在该注射器筒的内部表面上、或接触该筒的柱塞表面上、或在所述表面两者上。该润滑涂层有效减少了对于在筒内移动柱塞所必需的起动力或柱塞滑动力。本发明的一个进一步具体的方面是涂覆有如前面段落中所定义的润滑涂层的注射器筒。在所述涂覆的注射器筒的一个具体的方面，该注射器筒包含一个筒，该筒定义了一个内腔并且具有一个可滑动地接收一个柱塞的内部表面。该注射器筒有利地是由热塑性材料制成的。通过等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)将一个润滑涂层施加到该筒内部表面、该柱塞、或两者上。例如以有效减少该润滑涂层、该热塑性材料、或两者浸出进入该内腔中的一个量将一种溶质阻挡物(solute retainer)通过表面处理施加到该润滑涂层上。 该润滑涂层和溶质阻挡物是以有效提供比在缺乏该润滑涂层以及溶质阻挡物的情况下所需要的相应的力更小的一个起动力、柱塞滑动力、或两者的相对量来组成和存在的。本发明的又另一个方面是一种注射器，该注射器包括一个柱塞、注射器筒、以及内部以及外部涂层。该筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面以及一个外部表面。一个润滑涂层位于内部表面上，并且可以将SiOx (其中X是从大约1. 5至大约2. 9)的一个另外的阻挡涂层提供在该筒的内部表面上。例如一种树脂的或一种另外的SiOx涂层的一个阻挡涂层被提供在该筒的外部表面上。本发明的另一个方面是一种注射器，该注射器包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个鲁尔接头(Luer fitting)。该注射器筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。 该鲁尔接头包括一个鲁尔锥(Luer taper)，该鲁尔锥具有由一个内表面限定的一个内部通道。该鲁尔接头以与该注射器筒分离的一个分离件的形式而形成并且通过一个连接器连接到该注射器筒上。鲁尔锥的内部通道具有SiOx(其中χ是从约1.5至大大约2. 9)的阻挡涂层。本发明的另一个方面是用于注射器的一种柱塞，该柱塞包括一个活塞以及一个推杆。该活塞具有一个前面、一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分，该侧面被配置为可移动地落座于注射器筒之内。该柱塞在它的侧面上具有一个根据本发明的润滑涂层。该推杆接合该柱塞的后部分并且被配置为使活塞在注射器筒中前进。该柱塞可以另外地包括一个 SiOx涂层。本发明的一个进一步的方面是仅具有一个开口的容器，即用于收集或储存一种化合物或组合物的一种容器。在一个具体的方面，这样的容器是一种管，例如一种采样管，例如一种采血管。所述管可以用一个闭合件(例如一个帽或塞子)来闭合。这样的盖或塞子在它的与管相接触的表面上可以包括一个根据本发明的润滑涂层，和/或在它的面向该管的内腔的表面上它可以包含一个根据本发明的钝化涂层。在一个具体的方面，这样的塞子或它的一部分可以由一种弹性体材料制成。这样的一种塞子可以如下制造将塞子置于在一个基本上抽空的室中。提供一种反应混合物，该反应混合物包括一种有机硅化合物气体，任选地一种氧化气体、以及任选地一种烃气体。在与该塞子相接触的反应混合物中形成等离子体。将一个涂层沉积在该塞子的至少一部分上。本发明的一个进一步的方面是一种具有根据本发明的阻挡涂层的容器。该容器是大致管状的并且可以由热塑性材料制成。该容器具有一个开口和至少部分被一个壁限定的一个内腔。该壁具有与该内腔分界的一个内表面。在一个优选的方面，由如上所定义的SiOx 制成的一个至少基本上连续的阻挡涂层被施加到该壁的内表面上。该阻挡涂层有效保持该容器内至少90%的它的初始真空水平，任选地95%的它的初始真空水平，持续至少M小时的保质期。提供了一个闭合件，该闭合件覆盖该容器的开口并且使该容器的内腔与环境空气相隔离。使用如本说明书中所述的有机硅前体的PECVD制造的涂层以及PECVD涂覆方法对于涂覆导管或小杯以形成一个阻挡涂层、一个疏水涂层、一个润滑涂层、或这些之中的一项以上也是有用的。小杯是一种具有圆形或方形截面、一端密封的、由聚合物、玻璃、或熔融石英(用于UV光)制造的并且被设计用于容纳样品用于光谱实验的小型管。最好的小杯是尽可能透明的，没有可能影响光谱读数的杂质。如同一种试管，小杯可以是向大气开放的或具有一个帽从而将它密封关闭。本发明的施加PECVD的涂层可以是非常薄的、透明的、并且光学平坦的、因此不干扰该小杯或它的内容物的光学测试。(预)填充的涂覆容器本发明的一个具体方面是如上所述的一种涂覆容器，该容器在它的内腔中被预填充有一种化合物或组合物或用于用一种化合物或组合物进行填充。所述化合物或组合物可以是(i) 一种生物活性化合物或组合物，优选一种药剂，更优选胰岛素或包含胰岛素的一种组合物；或(ii) 一种生物流体，优选一种体液，更优选血液或一种血液成分(例如，血细胞)； 或(iii)在该容器中用于与另一种化合物或组合物相直接组合的一种化合物或组合物，例如在采血管中用于防止血液凝固、或血小板激活的一种化合物，像柠檬酸盐或含有柠檬酸盐的组合物。通常，本发明的涂覆容器对于收集或储存对未涂覆容器材料的表面的机械和/或化学作用敏感的一种化合物或组合物是特别有用的，优选地针对防止或减少与该容器的内部表面相接触的组合物的一种化合物或一种组分的沉淀和/或凝固或血小板激活。例如，具有配备有本发明的一种疏水涂层的壁的并且容纳有一种含水柠檬酸钠试剂的细胞制备管是适合用于收集血液并且防止或减少血液凝固的。该含水柠檬酸钠试剂以有效抑制引入该管中的血液凝固的一个量而被布置在该管的内腔中。本发明的一个具体的方面是用于收集/接收血液的一种容器或一种容纳血液的容器。该容器具有一个壁；该壁具有定义了一个内腔的内表面。该壁的内表面具有一个本发明的一个至少部分疏水涂层。该涂层可以是薄如单分子厚度或厚如大约lOOOnm。被收集或储存在该容器中的血液优选地是以能活的方式返回到病人的血管系统中而被布置在与涂层相接触的内腔中。与相同类型的未涂覆的壁相比较，该涂层有效减少了暴露于该内表面的血液的凝固或血小板激活。本发明的另一个方面是一种容纳胰岛素的容器，该容器包括具有定义了一个内腔的内表面的一个壁。该内表面具有本发明的一个至少部分疏水涂层。在内表面上该涂层可以是从单分子厚度至大约IOOOnm厚。胰岛素或包含胰岛素的一种组合物被布置在与该涂层相接触的该内腔中。任选地，与缺乏该涂层的相同表面相比较，该涂层有效减少了从接触内表面的胰岛素形成沉淀。因此关于涂覆方法、涂覆产品以及所述产品的用途，本发明提供了以下实例(1) 一种用于设置在基底表面上的涂层的润滑特性的方法，该方法包括以下步骤(a)在该基底表面附近提供包括一种有机硅前体或任选地&的一种气态反应物； 以及(b)从该气态反应物产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积 (PECVD)在该基底表面上形成一个涂层，其中该涂层的润滑特性是通过设置气态反应物中&与有机硅前体的比率，和/或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率来设置的。(2) 一种用于在一种基底上制备疏水涂层的方法，该方法包括以下步骤(a)在该基底表面附近提供包括一种有机硅前体以及任选地&的气态反应物；以及(b)从该气态反应物产生一种等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积 (PECVD)在该基底表面上形成一种涂层，其中该涂层的疏水特性是通过设置气态反应物中&与该有机硅前体的比率，和/ 或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率来设置的。(3)如(1)或( 所述的方法，这导致了一种涂层，该涂层被表征为一个总式，其中与有机硅前体的总式相比较，原子比C 0是增加的和/或原子比Si 0是降低的。(4)根据(1)至(3)中的任一项所述的方法，其中O2以相对于气态反应物的以下体积-体积比率而存在从0 1至5 1，任选地从0 1至1 1，任选地从0 1至 0.5 1，任选地从0 1至0. 1 1，优选地其中在该气态反应物中至少实质上不存在氧气。(5)根据(1)至(4)中的任一项所述的方法，其中该气态反应物包括小于1体积％ 的O2，，更具体地小于0. 5体积％的02，并且最优选地是不含02。(6)根据(1)至(5)中的任一项所述的方法，其中该等离子体是非空心阴极等离子体。(7)根据(1)至(6)中的任一项所述的方法，其中该基底是具有一个内腔的容器的内壁，该内腔具有以下空体积从0. 5至50ml，优选从1至10ml，更优选从0. 5至5ml，最优选从1至:3ml。(8)根据(1)至(7)中的任一项所述的方法(i)其中该等离子体是用电极产生的，这些电极用足够的功率供能从而在基底表面上形成一个涂层，优选地使用提供有以下电功率的电极从0. 1至25W，优选地从1至 22W,更优选地从3至17W，甚至更优选地从5至14W，最优选地从7至11W，特别地是8W ；和 /或(ii)其中该电极功率与等离子体体积的比率是小于10W/ml，优选地是从5W/ml至 0. lW/ml，更优选地是从4W/ml至0. lW/ml，最优选地是从2W/ml至0. 2ff/mL·(9) 一种用于在基底表面上制备一种涂层的方法，该方法包括以下步骤(a)在该基底表面附近提供包括一种有机硅前体以及任选地O2的一种气态反应物；以及(b)在减压下从该气态反应物产生一种非空心阴极等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)在该基底表面上形成一个涂层，其中通过设置该气态反应物中A与该有机硅前体的比率，和/或通过设置用于产生该等离子体所使用的电功率来设置该涂层的物理和化学特性。(10) 一种用于在基底上制备一个阻挡涂层的方法，该方法包括以下步骤(a)在该基底表面附近提供包含一种有机硅前体以及&的一种气态反应物；以及(b)在减压下从该气态反应物产生一种非空心阴极等离子体，由此通过等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)在该基底表面上形成一个涂层，其中通过设置该气态反应物中A与该有机硅前体的比率，和/或通过设置用于产生等离子体所使用的电功率来设置该涂层的阻挡特性。(11)根据(10)的方法(i)其中该等离子体是用电极来产生的，这些电极用足够的功率来供能从而在该基底表面上形成一个涂层，优选地使用提供有以下电功率的电极从8至500W，优选地从20 至400W，更优选地从35至350W，甚至更优选地从44至300W，最优选地从44至70W ；和/或(ii)电极功率与等离子体体积的比率是等于或大于5W/ml，优选地是从6W/ml至 150W/ml，更优选地是从7W/ml至100W/ml，最优选地是从7W/ml至20W/ml。(12)根据(10)或(11)的方法，其中&是以相对于该气态反应物的以下体积体积比率而存在的相对于含硅前体从1 1至100 1，优选地以从5 1至30 1的比率，更优选地以从10 1至20 1的比率，甚至更优选地地以15 1的比率。(13)如(1)至(1 中的任一项所述的方法，其中该有机硅前体是选自下组，该组由以下各项组成线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、烷基三甲氧基硅氧烷、以及这些化合物的任何两种或更多种的组合，优选是线性或单环硅氧烷。(14)如⑴或⑵所述的方法，其中该有机硅前体是一种单环硅氧烷，优选 OMCTS。(15)如⑵或(10)所述的方法，其中该有机硅前体是一种线性硅氧烷，优选 HMDSO0(16)根据(1)至(15)中的任一项所述的方法，其中该PECVD是在以下有机硅前体的流率下进行的等于或小于6sCCm( “标准立方厘米/每分钟”)、优选地等于或小于 2. kccm、更优选地等于或小于1. kccm、最优选地等于或小于1. 25sccm。(17)根据(1)至(16)中的任一项所述的方法，其中该基底是选自下组的一种聚合物，该组由以下各项组成聚碳酸酯、烯烃聚合物、环烯烃共聚物以及聚酯，并且优选是环烯烃共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯或聚丙烯。(18)根据(1)至(17)中的任一项所述的方法，其中该基底表面是具有至少一个开口以及一个内表面的一个容器的内表面的部分或全部，并且其中该气态反应物填充该容器的内部内腔，并且在该容器的内部内腔的一部分或全部中产生该等离子体。(19)根据(1)至(18)中的任一项所述的方法，其中该等离子体是用在以下射频下供能的电极来产生的优选地在从IOkHz至小于300MHz的频率下，更优选地从1至50MHz，甚至更优选地从10至15MHz，最优选地在13. 56MHz。(20)根据(1)至(19)中的任一项所述的方法，其中该等离子体是在减压下产生的并且该减压是小于300mTorr、优选地小于200mTorr、甚至更优选地小于lOOmTorr。(21)根据⑴至00)的任一项所述的方法，其中该PECVD沉积时间是从1至30 秒，优选地从2至10秒，更优选地从3至9秒。(22)根据(1)至的任一项所述的方法，其中所产生的涂层具有从1至IOOnm 的范围内的厚度，优选地在从20至50nm的范围内。(23) 一种涂层，该涂层可以通过根据以上权利要求的任一项所述的方法得到。(24)如所述的涂层，它是一种润滑涂层和/或疏水涂层。(25)如04)所述的涂层，与有机硅前体相比较，其中碳与氧的原子比率是增加的，和/或与有机硅前体相比较，其中氧与硅的原子比率是降低的。(26)如至0 的任一项所述的涂层，其中该前体是八甲基环四硅氧烷，并且其中该涂层具有一个密度，该密度高于在相同的PECVD反应条件下从HMDSO制造的涂层的
也/又。(27)根据04)至06)的任一项所述的涂层，其中涂层(i)具有比未涂覆表面更低的摩擦阻力，与未涂覆的表面相比较，其中该摩擦阻力优选地减少至少25%，更优选地减少至少45 %，甚至更优选地减少至少60 %。(28)根据04)至07)的任一项所述的涂层，该涂层(i)具有比未涂覆的表面更低的湿润张力，优选地从20至72达因/cm的湿润张力、更优选地从30至60达因/cm的湿润张力、更优选地从30至40达因/cm的湿润张力、 优选34达因/cm ；和/或(iv)是比未涂覆表面更疏水的。(29)在它的内部表面的至少一部分上用根据03)至08)的任一项所述的涂层进行涂覆的一种容器，优选地一种容器是(i) 一种样品收集管，具体地是一种采血管；或(ii) 一种小瓶；或(iii) 一种注射器或一种注射器部件，具体地是一种注射器筒或一种注射器柱塞； 或(iv) 一种管子；或(ν) 一种小杯。(30)根据09)所述的涂覆的容器，另外地包括至少一个SiOx层，其中χ是从1.5 至2. 9，其中(i)该涂层是位于该SiOx层与该基底表面之间，或反之亦然，或其中(ii)该涂层是位于两个SiOx层之间或反之亦然，或其中(iii)这些SiOx层以及该涂层是SiwOxCyHz至SiOx的梯度复合材料，或反之亦然。(31)根据09)至(30)的任一项所述的涂覆容器，该容器在它的外部表面上含有至少一个另外的层，优选地一个另外的由塑料或S i Ox构成的阻挡层，其中χ是从1.5至
(32)根据09)至(31)的任一项所述的涂覆容器，该容器在它的内腔中容纳一种化合物或组合物，优选地一种生物活性化合物或组合物或一种生物流体，更优选地(i)柠檬酸盐或一种含有柠檬酸盐的组合物，(ii) 一种药剂，具体地是胰岛素或一种含有胰岛素的组合物，或(iii)血液或血细胞。(33)根据09)至(3 的任一项所述的涂覆容器，该涂覆容器是根据权利要求1 所述的方法制造的一种注射器筒，其中该前体是一种硅氧烷，更优选地是一种单环硅氧烷， 甚至更优选地是八甲基环四硅氧烷，并且其中在步骤(a)中基本上没有O2气体被提供于该气态反应物中，其中与未涂覆的注射器筒相比较，用于移动柱塞通过所述涂覆的筒的力减少了至少25 %，更优选地减少了至少45 %，甚至更优选地减少了至少60 %。(34)具有总式SiwOxCyHz的涂层，其中w是1，χ是0. 5至2. 4，y是0. 6至3，并且 ζ是从2至9，作为以下各项的用途(i)具有比未涂覆表面更低的摩擦阻力的一种润滑涂层；和/或(ii)比未涂覆表面更疏水的一种疏水涂层。(35)如(34)所述的用途，其中该涂层是如在04)至Q8)的任一项中所定义的一种涂层。(36)如(34)或(35)所述的用途，其中与未涂覆的表面和/或与根据(1)所述的使用HMDSO作为前体的方法所涂覆的表面相比较，该涂层防止或减少了与该涂层相接触的一种组合物中的一种化合物或组分的沉淀，具体地防止或减少了胰岛素沉淀或血液凝固。(37)根据09)至(33)的任一项所述的涂覆容器的用途，用于保护被容纳或接收在所述涂覆容器中的一种化合物或组合物免受该未涂覆容器材料的表面的机械和/或化学作用，优选地用于防止或减少与该容器的内部表面相接触的组合物的一种化合物或一种组分的沉淀和/或凝固。(38)如(37)所述的用途，其中该化合物或组合物是(i) 一种生物活性化合物或组合物，优选地一种药剂，更优选地胰岛素或包含胰岛素的一种组合物，其中胰岛素沉淀被减少或防止；或(ii) 一种生物流体，优选地一种体液，更优选地血液或一种血液成分，其中血液凝固和/或血小板激活被减少或防止。(39)包括根据本发明所述的涂覆容器的一种医学或诊断试剂盒，该试剂盒可以另外地包括一种药剂或诊断剂，该药物或诊断剂被容纳在所述涂覆容器中；和/或一种皮下注射针、两端针头、或其他递送导管；和/或一个说明单。本发明进一步提供了以下实施方案I.具有多个处理站以及多个容器支架的容器处理系统根据本发明的一个方面，提供了用于容器涂覆的一种容器处理系统，该系统包括一个第一处理站、一个第二处理站、一个容器支架以及一个输送机布置。该第一处理站被配置用于进行一个第一处理，例如对该容器的内部表面进行检查或涂覆。该第二处理站是以该第一处理站为基础，并且被配置用于进行一个第二处理，例如对该容器的内部表面进行检查或涂覆。该容器支架包括一个容器端口，该端口被配置为接收一个容器的开口并且使其落座用于经由位于该第一处理站以及位于该第二处理站的容器端口对该落座的容器的内部表面进行处理(检查和/或涂覆和/或检查)。该输送机布置被适配用于在该第一处理之后将该容器支架以及该落座的容器从该第一处理站运送至该第二处理站之后用于在该第二处理站对该落座的容器的内部表面进行第二处理。在本说明书中这些容器被宽泛地定义为包括任何类型的容器，包括但不限于用于收集或储存血液、尿液、或其他样品的样品管，用于储存或递送一种生物活性化合物或组合物的注射器，用于储存生物材料或生物活性化合物或组合物的小瓶，用于运送生物材料或生物活性化合物或组合物的导管，以及用于容纳生物材料或生物活性化合物或组合物的小杯。以下定义的这些容器都是用下面描述的处理系统或装置之一来处理的。换言之， 就一种装置或处理系统而言，下面描述的这些特征也可以作为方法步骤来实施并且可以影响如此处理的容器。小杯是具有圆形或方形截面的、一端密封的、由塑料、玻璃、或熔融石英(用于UV 光)制成的、并且被设计用于容纳样品用于光谱实验的的一种小管。最好的小杯是尽可能透明的，没有可能影响光谱读数的杂质。如同一个试管，小管可以是顶部向大气开放的，或用一个帽将它密封关闭。术语“容器的内部”是指可以用于储存血液或根据另一个示例性实施方案的一种生物活性化合物或组合物的在容器内部的空心空间(hollow space)。术语处理可以包括一个涂覆步骤和/或一个检查步骤或一系列涂覆以及检查步骤，例如一个初始检查步骤，紧接着一个涂覆步骤，然后紧接着一个第二或甚至第三或第四检查。该第二、第三以及第四检查可以同时进行。根据本发明的一个示例性实施方案，该容器支架包括用于从该落座的容器的内部空间中抽出气体的一个真空管道，其中该容器支架被适配用于保持该落座的容器的内部的真空，这样使得不需要另外的真空室来处理该容器。换言之，该容器支架与该落座的容器一起形成了一个真空室，该真空室被适配用于在该容器的内部空间中提供一个真空。这个真空对于某些处理步骤(如等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)或其他化学气相沉积步骤)是重要的。此外，该容器内部的真空对于进行该容器的某一检查可能是重要的，具体地说例如通过测量该壁的放气速率或该壁的电导率来对该容器壁的内部表面进行涂覆。根据本发明的另一个示例性实施方案，在30秒或更少的时间期间进行该第一处理。并且在30秒或更少的时间期间进行该第二处理。因此，提供了用于容器涂覆的一种容器处理系统，该容器处理系统允许这些容器的快速制造。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一处理和/或第二处理包括对该容器的内部表面进行一个检查，然后对该内部表面进行涂覆。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器支架包括用于将气体递送到该容器的内部中的一个气体输入端口。根据本发明的另一个示例性实施方案，该系统被适配用于在检测出涂层缺陷的情况下，自动地对该容器进行再处理。例如，该容器处理系统并且具体地该容器支架可以包含不同检测器(例如光学检测器、压力探头、气体检测器、用于电测量的电极等)的一个布置。此外，根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器处理系统，例如一个或多个处理站，包括用于将容器运送至该容器支架和/或用于从该容器支架移开该容器的一个或多个夹钳。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器支架包括用于将气体输送到该容器的内部中的一个气体输入端口。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器处理系统被适配用于在检测出涂层缺陷的情况下自动地对容器进行再处理。可以使用被递送至该容器的内部空间中的气体来PECVD涂覆该容器的内部表面。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一处理和/或该第二处理包括对该容器的内部表面进行涂覆。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一处理站和/或第二处理站包括用于对该容器的内部表面进行涂覆的一个PECVD装置。根据本发明的另一个示例性实施方案，该系统进一步包括在该落座的容器的至少上部分周围的一个外部电极。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器支架包括用于在该容器中提供一个反电极的一个导电探头。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一处理和/或第二处理包括针对缺陷对该容器的内部表面进行检查根据本发明的另一个示例性实施方案，该系统进一步包括一个第一检测器，该第一检测器被适配为经由该第一处理站和/或该第二处理站的容器端口被插入到该容器中用于针对缺陷对该容器的内部表面进行检查根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器处理系统进一步包括位于该容器外面的一个第二检测器，该第二检测器用于针对缺陷对该容器的内部表面进行检查。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一检测器和/或该第二检测器被安装到该容器支架上。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器支架包括用于形成该容器的一个模具。根据本发明的另一个方面，陈述了以上以及以下描述的容器处理系统的用途，用于制造用于储存血液的一种采血管、用于储存一种生物活性化合物或组合物的一种注射器、用于储存一种生物活性化合物或组合物的一种小瓶、用于运送多种生物活性化合物或组合物的一种导管、或用于移取一种生物活性化合物或组合物的一种移液管。该容器处理系统还可以被适配用于对容器进行检查并且具体地可以被适配用于针对缺陷进行对该容器的一个第一检查，对该容器的内部表面施加一个第一涂层，然后针对缺陷对该涂覆容器的内部表面进行第二检查。此外，该系统可以被适配用于对在不同检查期间所获取的数据进行评估，其中该第二检查以及数据评估耗时小于30秒。根据本发明的另一个方面，提供了用于对容器进行涂覆以及检查的一种容器处理系统，该系统包括一个处理站布置，该处理站布置被配置用于进行针对缺陷对该容器进行一个第一检查，对该容器的内部表面施加一个第一涂层，针对缺陷对该涂覆的容器的内部表面进行一个第二检查并且对在检查过程中获取的数据进行评估，其中该第二检查以及数据评估耗时小于30秒。该第一涂层的施加还可以被称为第一或第二处理并且对该涂覆容器的内部表面进行第二检查可以被称为第二处理。根据本发明的另一个示例性实施方案，该处理站布置包括用于进行该第一检查、 对该落座的容器的内部表面施加该第一涂层以及进行第二检查的一个第一处理站此外，该处理站布置包括一个容器支架，该容器支架包括一个容器端口，该容器端口被配置用于接收该容器的一个开口并使其落座用于经由位于该第一处理站的容器端口对该落座的容器的内部表面进行检查并且施加第一涂层。根据本发明的另一个示例性实施方案，该处理站布置进一步包括一个第二处理站，该第二处理站与该第一处理站间隔开并且被配置用于进行第二检查、施加一个第二涂层以及在施加该第二涂层之后进行一个第三检查。此外，该容器处理系统包括一个输送机布置，该输送机布置用于在施加该第一涂层之后将该容器支架以及该落座的容器从该第一处理站运送至该第二处理站用于在该第二处理站将第二涂层施加到该落座的容器的内部表面上。该容器支架的容器端口被配置用于接收该容器的开口并且使其落座从而经由位于该第一处理站以及位于该第二处理站的容器端口对落座的容器的内部表面进行涂覆和检查。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器支架包括用于从该落座的容器的内部抽出气体的一个真空管道，其中该容器支架被适配用于维持该落座的容器的内部的真空，这样使得不需要另外的真空室来对该容器进行涂覆和检查。根据本发明的另一个示例性实施方案，每个检查都是在30秒或更少的时间期间内进行的。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器处理系统被适配用于在检测出涂层缺陷的情况下自动地对该容器进行再处理。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一处理站和/或该第二处理站包括用于对该容器的内部表面施加涂层的一个PECVD装置。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一涂层是一个阻挡涂层，其中该系统被适配用于证实一个阻挡层是存在还是缺乏。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第二涂层是一个润滑涂层，其中该系统被适配用于证实该润滑涂层(即该润滑层)是存在还是缺乏。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一涂层是一个阻挡涂层，其中该第二涂层是一个润滑涂层，并且其中该系统被适配用于证实该阻挡层或该润滑层是存在还是缺乏。根据本发明的另一个示例性实施方案，该系统被适配用于证实该阻挡层或该润滑层是存在还是缺乏(达到至少六σ水平的确定性)。根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一检查和/或该第二检查包括以下各项中的至少一项测量来自该涂覆容器的气体的放气速率，进行涂层施加的光学监测，测量该涂覆容器的内部表面的光学参数，以及测量该涂覆容器的电特性。然后可以通过处理器对相应的测量数据进行分析。根据本发明的另一个示例性实施方案，该处理系统进一步包括用于测量放气速率的一个第一检测器和/或用于测量扩散速率的一个第二检测器和/或用于测量光学参数的一个第三检测器和/或用于测量电参数的一个第四检测器。
根据本发明的另一个示例性实施方案，该第一涂层和/或该第二涂层是小于 IOOnm 厚。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器处理系统进一步包括用于对检查期间所获取的数据进行评估的一个处理器。本发明的一个方面是一种容器处理系统，该容器处理系统包括一个第一处理站、 一个第二处理站、多个容器支架、以及一个输送机。该第一处理站被配置为用于处理具有一个开口以及限定一个内部表面的壁的容器。该第二处理站与该第一处理站隔开并且被配置为用于处理具有一个开口以及限定一个内部表面的壁的容器。至少一些、任选地所有的容器支架包括一个容器端口，该端口被配置为接收一个容器的开口并且使其落座用于经由在该第一处理站处的容器端口处理一个落座的容器的内部表面。该输送机被配置为用于将一系列的容器支架和落座的容器从该第一处理站运送到第二处理站用于经由在该第二处理站处的容器端口而处理一个落座的容器的内部表面。II容器支架II. A.非引证的特异性密封布置的容器支架该容器处理系统的便携式容器支架可以被适配用于容纳一个容器同时该容器的内部表面被涂覆并且针对缺陷进行检查并且同时将该容器被从一个第一处理站运送到该容器处理系统的一个第二处理站，该容器支架包括一个容器端口，该容器端口被配置用于使该容器的一个开口落座并且用于经由位于给第一处理站以及位于该第二处理站的容器端口对该落座的容器的内部表面进行处理。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括用于接收一个外部气体供应的一个第二端口或通气口以及用于使一种气体在一个落座在该容器端口上的容器开口与该第二端口之间通过的管道。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架重量小于2. 25kg。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括一个真空管道以及用于经由该容器端口从该落座的容器的内部抽出气体的一个外部真空端口，其中该容器支架被适配用于维持该落座的容器的内部的真空，这样使得不需要另外的真空室来对该容器进行处理。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括一个真空管道以及用于经由该容器端口从该落座的容器的内部抽出气体的一个外部真空端口，其中该容器支架被适配用于维持该落座的容器的内部的真空，这样使得不需要另外的真空室来对该容器进行处理根据本发明的另一个示例性实施方案，该外部真空端口还结合了一个气体输入端口，该气体输入端口被容纳在该真空端口内用于将气体输送至该落座的容器的内部中。根据本发明的另一个示例性实施方案，对该容器的处理包括对该落座的容器的内部表面进行涂覆。根据本发明的另一个示例性实施方案，该容器支架是实质上由热塑性材料制成的。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括用于接收该容器的一个圆柱形壁的一个圆柱形内表面、位于该圆柱形内表面中并且与之同轴的一个第一环形凹槽、以及被布置在该第一环形凹槽中用于在该落座的容器与该容器支架之间提供一个密封的一个第一 0形圈。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括一个邻近于该圆柱形内表面(该落座的容器的开口端可以对接在其上)的一个径向延伸支座 (radially extending abutment)。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括位于该圆柱形内表面中并且与之同轴的并且与该第一环形凹槽轴向间隔开的的一个第二环形凹槽。此夕卜，该容器支架包括一个第二 0型圈，该第二 0型圈被布置在该第二环形凹槽中用于提供该落座的容器与该容器支架之间的一个密封。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架进一步包括用于经由容器端口来探询该容器的内部空间的一个第一检测器从而针对缺陷对该落座的容器的内部表面进行检查。根据本发明的另一个示例性实施方案，该便携式容器支架包括用于形成该容器的一个模具。根据本发明的另一个示例性实施方案，用于容器涂覆的容器处理系统包括以上以及以下所述的容器支架。根据本发明的另一个方面，该便携式容器支架包括一个容器端口、一个第二端口、 一个管道、以及一个可输送壳体。该容器端口被配置为使一个容器开口落座于一个相互连通的关系中。该第二端口被配置为接收一个外部气体供应或通气口。该管道被配置为用于使一种或多种气体在一个落座在该容器端口上的容器开口与该第二端口之间通过。该容器端口、第二端口以及管道是以实质上刚性的关系附接到该可输送壳体上的。任选地，该便携式容器支架的重量小于五磅。本发明的另一个方面是一种便携式容器支架，该便携式容器支架包括一个容器端口、一个真空管道、一个真空端口、以及一个可输送壳体。该容器端口被配置为以一个密封的、相互连通的关系来接收一个容器开口。该真空管道被配置为用于从落座在容器端口上的容器经由该容器端口抽出气体。该真空端口被配置为用于在真空管道与外真空源之间进行连通。该真空源可以是具有比该真空管道更低压力的一个泵或储器或压载箱。该容器端口、真空管道以及真空端口是以实质上刚性的关系附接到该可输送壳体上的。任选地，该便携式容器支架的重量小于五磅。II. B.包括密封布置的容器支架本发明的又另一个方面是用于接收一种容器的开口端的一种容器支架，该容器在它的开放端附近具有一个基本上圆柱形的壁。该容器支架可以具有一个大致圆柱形内表面 (例如一个圆柱形内表面)、一个环形凹槽、以及一个0型圈。贯穿本说明书应当理解的是， 被指明为具有圆形或环形开口或截面的容器仅仅是示例性的，并且不限制本披露或权利要求书的范围。如果该容器具有非圆形开口或截面(例如常见的是当该容器是小杯时)，该容器支架的“圆形”圆柱体表面可以是非圆形的，并且可以使用非圆形密封件来密封，例如一种垫圈或被制成一定形状用于密封到该非圆形截面上的一种密封件(除了另外特别地要求之外)。此外，“圆柱形”不要求圆形截面的柱体，并且包括其他截面形状，例如具有圆角的方形。
大致圆柱形的内表面被制成一定大小用于接收该容器的圆柱形的壁。该环形凹槽被布置在该大致圆形内表面中并且与之同轴。该第一环形凹槽具有一个在该大致圆柱形内表面上的开口以及与该大致圆柱形内表面径向间隔开的一个底壁。该0型圈被布置在该第一环形凹槽中。相对于该第一环形凹槽，该0型圈被制成一定大小用于正常地延伸径向通过该开口并且被由该大致圆柱形的内表面所接收的容器径向地向外压。这种布置在该容器与该第一环形凹槽之间形成一个密封。根据本发明的另一个方面，提供了用于对容器进行涂覆以及检查的一种方法，其中针对缺陷对该容器的内部表面进行一个第一检查，之后对该容器的内部表面施加一个涂层。然后，针对缺陷对该涂覆的容器的内部表面进行一个第二检查，紧接着对该第一以及第二检查期间所获取的数据进行评估，其中该第二检查和该数据评估耗时小于30秒。根据本发明的另一个方面，提供了用于处理容器的方法，其中该容器的一个开口落座于一个容器支架的容器端口上，此后经由该容器端口来涂覆该容器的内部表面。然后， 经由该容器端口针对缺陷对该涂层进行检查。在此之后，将该容器从该第一处理站运送到一个第二处理站，其中该落座的容器在涂覆、检查以及运送期间是由该容器支架容纳的。III用于运送容器的方法-对落座于容器支架上的容器进行处理III. A.将容器支架运送到处理站本发明的另一个方面是用于处理容器的一种方法。提供了一个第一处理站以及与该第一处理站间隔开的一个第二处理站，用于处理容器。提供了一种具有一个开口以及限定了一个内部表面的一个壁的容器。提供了一种包括容器端口的容器支架。该容器的开口落座于该容器端口上。经由位于该第一处理站的容器端口对该落座的容器的内部表面进行处理。将该容器支架以及落座的容器从该第一处理站运送到该第二处理站。然后，经由位于该第二处理站的容器端口对该落座的容器的内部表面进行处理。III. B.将处理设备运送至容器支架或反之亦然本发明的另一个方面是用于对包括数个部件的容器进行处理的一种方法。提供了一个第一处理设备以及一个第二处理设备来，用于处理容器。提供了一种具有一个开口以及限定了一个内部表面的一个壁的一种容器。提供了一种包括容器端口的容器支架该容器的开口落座于该容器端口上。使该第一处理设备移动进入与该容器支架的操作性接合中，或反之亦然。经由该容器端口使用该第一处理设备对该落座的容器的内部表面进行处理然后使该第二处理设备移动进入与该容器支架的操作性接合中，或反之亦然。经由该容器端口使用该第二处理设备对该落座的容器的内部表面进行处理。III. C.使用夹钳将管运送进入以及离开处理站本发明的又另一个方面是对一个第一容器进行等离子体增强的化学气相沉积 (PECVD)处理的一种方法，包括以下几个步骤。提供了具有一个开口端、一个闭合端、以及一个内部表面的一个第一容器至少一个第一夹钳被配置用于选择性地保持以及释放该第一容器的闭合端。用该第一夹钳将该第一容器的闭合端夹住，并且使用该第一夹钳将其运送到一个容器支架的附近，该容器支架被配置为使该第一容器的开口端落座。然后使用该第一夹钳轴向地推进该第一容器并且使它的开口端落座于该容器支架上，在该容器支架与该第一容器的内部之间建立起密封的连通。
至少一种气态反应物通过该容器支架被弓丨入到该第一容器之内。在有效形成该反应物的反应产物的条件下在该第一容器的内部表面上形成等离子体。然后使该第一容器从该容器支架离座，并且使用该第一夹钳或另一个夹钳，将该第一容器轴向地运送离开该容器支架。然后将该第一容器从所使用的夹钳中释放从而轴向地将它运送离开该容器支架。IV用于制造容器的PECVD装置IV. A.包括容器支架、内部电极、作为反应室的容器的PECVD装置根据本发明的另一个方面，提供了用于对容器的内部表面进行涂覆的一种等离子体增强化学气相沉积(PECVD)装置。该PECVD装置可以是该容器处理系统的一部分并且包括一个容器支架，如在以上以及以下所述的支架，该支架包括一个容器端口，该容器端口被配置用于接收该容器的一个第一开口并且使其落座，用于经由该容器端口对该落座的容器的内部表面进行处理。此外，该PECVD装置包括用于被布置在该落座的容器的内部空间之内的一个内部电极以及具有用于接收该落座的容器的一个外部部分的一个外部电极。此夕卜，提供了一个电源用于在该容器内产生等离子体，其中该落座的容器以及该容器支架被适配用于限定一个等离子体反应室。根据本发明的另一个示例性实施方案，该PECVD装置进一步包括用于将该落座的容器的内部空间抽空的一个真空源，其中该容器端口以及该落座的容器被适配用于限定一
个真空室。根据本发明的另一个示例性实施方案，该PECVD装置进一步包括用于将反应物气体从一个反应物气体源喂入该容器的内部空间中的一个气体进料装置。根据本发明的另一个示例性实施方案，该气体进料装置被定位在该内部电极的远端部分。根据本发明的另一个示例性实施方案，该内部电极是一个探头，该探头具有被定位以同心地延伸进入该落座的容器中的一个远端部分。根据本发明的另一个示例性实施方案，该外部电极具有一个圆柱形截面并且围绕该落座的容器同心地延伸。根据本发明的另一个示例性实施方案，该PECVD装置进一步包括一个夹钳，该夹钳用于选择性保持以及释放该容器的一个闭合端，并且同时夹住该容器的闭合端，用于将该容器运送到该容器支架的附近。根据本发明的另一个示例性实施方案，该PECVD装置被适配用于在该容器的内部空间中形成一种等离子体，基本上不含有空心阴极等离子体。根据本发明的另一个示例性实施方案，该PECVD装置进一步包括用于经由该容器端口探询该容器的内部空间的一个检测器用于针对缺陷对该固定容器的内部表面进行检查。根据本发明的另一个示例性实施方案，该PECVD装置进一步包括具有一个处理容器开口的处理容器，该处理容器开口用于与该容器的一个第二限制的开口相连接以允许反应物气体从该容器的内部空间流动进入该处理容器中。根据本发明的另一个示例性实施方案，该内部电极的一个远端以小于一半的从该落座的容器的第一较大开口到该第二限制的开口的距离而定位。
根据本发明的另一个示例性实施方案，该内部电极的远端被定位在该落座的容器的第一较大开口的外面。此外，提供了用于对容器的内部表面进行涂覆的一种方法，其中该容器的一个开口被接收并且落座于容器支架的一个容器端口上用于对该落座的容器的内部表面进行处理。然后，将一个内部电极布置在该落座的容器的内部空间中，在此之后将一个气体进料装置定位在该内部电极的远端部分处。此外，该落座的容器被接收在外部电极的一个内部部分中。在该容器支架中的落座的容器被适配用于限定一个等离子体反应室。具体地说，可以通过该容器端口以及该落座的容器来限定一个真空室并且将气体从该落座的容器的内部空间中抽出，这样使得不需要外部真空室用于涂覆。在一个进一步的步骤中，在该容器的内部空间中形成一种等离子体并且一种涂覆材料被沉积在该落座的容器的内部表面上。根据本发明的另一个示例性实施方案，将一个处理容器开口与该容器的一个限制的开口连接以允许反应物气体从该容器的内部空间流动进入该处理容器中。根据本发明的另一个方面，以上以及以下描述的PECVD装置的用途是，用于制造用于储存血液的一种采血管、用于储存一种生物活性化合物或组合物的一种注射器、用于储存一种生物活性化合物或组合物的一种小瓶、用于运送多种生物活性化合物或组合物的一种导管、或用于容纳一种生物活性化合物或组合物的一种小杯。本发明的另一个方面是包括一个容器支架、一个内部电极、一个外部电极、以及一个电源的一种PECVD装置。该容器支架具有将一个容器接收在落座的位置中以进行处理的一个端口。该内部电极被定位以被接收在落座于一个容器支架上的容器之内该外部电极具有一个内部部分， 该内部部分被定位以接收被落座于该容器支架上的一个容器该电源将交流电输入到内部和/或外部电极上从而在落座于该容器支架上的容器之内形成等离子体该容器限定了一个等离子体反应室。本发明的甚至另一个方面是如前面段落中所述的一种PECVD装置，其中提供了一个并不必需包括真空源的放气管，用于将气体传递至落座在该端口上的容器的内部或者传递来自该容器的内部的气体，以限定一个闭合室。IV. B.使用将管运送进入以及离开涂覆站的夹钳的PECVD装置本发明的另一个方面是用于对一个第一容器进行PECVD处理的装置，该第一容器具有一个开口端、一个闭合端、以及一个内部空间。该装置包括一个容器支架、一个第一夹钳、在该容器支架上的一个座、一个反应物供应装置、一个等离子体发生器、以及一个容器释放装置。该容器支架被配置用于使一个容器的开口端落座。该第一夹钳被配置用于选择性地保持以及释放容器的闭合端并且同时夹住该容器的闭合端，将该容器运送到该容器支架的附近该容器支架具有一个座，该座被配置为用于在该容器支架与该第一容器的内部空间之间建立密封的连通。该反应物供应装置被可操作地连接用于通过该容器支架将至少一种气态反应物弓丨入到该第一容器之内。该等离子体发生器被配置为用于在该第一容器的内部表面上有效形成反应物的反应产物的条件下在该第一容器内形成等离子体。
该容器释放装置被提供为用于使该第一容器从该容器支架离座。一个夹钳(该夹钳是第一夹钳或另一个夹钳)被配置用于轴向地运送该第一容器离开该容器支架并且然后释放该第一容器。V. PECVD 方法根据本发明的另一个方面提供了用于对容器的内部表面进行涂覆(和/或检查) 的一种方法，其中该容器的一个开口被接收并且落座于一个容器支架上用于对该落座的容器的内部表面进行处理应当注意的是，术语处理可以是指一个涂覆步骤或数个涂覆步骤或甚至是指一系列的涂覆和检查步骤。此外，对该落座的容器的内部表面进行一个第一处理是经由位于一个第一处理站的容器支架的一个容器端口来进行的。然后，在该第一处理站处进行第一处理之后，该容器支架以及该落座的容器被运送至一个第二处理站然后，在该第二处理站处，经由该容器支架的容器端口对该落座的容器的内部表面进行一个第二处理。V. A.使用等离子体施加SiOx阻挡涂层的PECVD，该等离子体基本上不含空心阴极等离子体本发明的另一个方面是将一种SiOx阻挡涂层施加到一个表面上(优选地一个容器的内部上)的一种方法，其中在这个式中χ是从大约1. 5至大约2. 9，可替代地从大约1. 5 至大约2. 6，可替代地大约2。该方法包括几个步骤。提供了一个表面(如一个容器壁)，如同是一种反应混合物，该混合物包括一种有机硅化合物气体，任选地一种氧化气体，以及任选地一种烃气体。等离子体在反应混合物中形成，基本上不含空心阴极等离子体。使该容器壁与该反应混合物接触，并且将SiOx涂层沉积到该容器壁的至少一个部分上。V. B. PECVD涂覆限制的容器开口(毛细管注射器)本发明的另一个方面是用于对有待用PECVD进行处理的大致管状的容器的限制的开口的内表面进行涂覆的一种方法。该方法包括这些步骤。提供有待处理的一个大致管状的容器。该容器包括一个外表面、限定了一个内腔的一个内表面、具有内径的一个较大的开口、以及一个限制的开口，该限制的开口由一个内表面限定并且具有的内径小于该较大的开口的内径。提供了一种处理容器，该处理容器具有一个内腔以及一个处理容器开口。该处理容器开口与该容器的限制的开口相连，以建立该有待处理的容器的内腔与该处理容器内腔之间经由该限制的开口的连通。将该有待处理的容器的内腔与该处理容器的内腔内抽成至少部分真空。使一种 PECVD反应物流动通过该第一开口，然后通过有待处理的容器的内腔，然后通过该限制的开口，然后进入该处理容器的内腔。在有效地将PECVD反应产物沉积到该限制的开口的内表面上的条件下在该限制的开口附近产生等离子体。V. C.施加润滑涂层的方法本发明的又另一个方面是将一种润滑涂层施加到一种基底上的方法。该方法是如下实现的。提供了一种前体。该前体优选地是一种有机硅化合物，更优选线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、或这些前体之中的任何两种或更多种的一种组合。还考虑了其他前体，例如含有周期系的第III族以及第IV族的金属的有机金属前体。在有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。将该涂层聚合或交联(或两者)，从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的如本说明书中所定义的 “柱塞滑动力”或“起动力”。VI容器检查VI. A.包括预涂覆和后涂覆检查的容器处理甚至本发明的另一个方面是一种用于处理一个塑料容器的容器处理方法，该塑料容器具有一个开口和一个限定内部表面的壁。该方法是通过以下步骤来进行的针对缺陷对如所提供的该容器的内部表面进行检查；在对如所提供的该容器进行检查之后对该容器的内部表面施加一个涂层；并且针对缺陷对该涂层进行检查。本发明的另一个方面是一种容器处理方法，其中对如所成型的容器进行检查之后将一个阻挡涂层施加到该容器上，并且在施加该阻挡涂层之后针对缺陷该容器的内部表面进行检查。VI. B.依据检测例如通过阻挡层的容器壁的放气的容器检查本发明的另一个方面是通过测量由涂覆物品放出的挥发性物种用于对涂层进行检查的一种方法(“放气法”)。可以使用所述方法来对涂覆工艺的产品进行检查，其中一种涂层已经施加到基底的表面以形成一种涂覆表面。具体地说，该方法被用作对于一个涂覆工艺的在线过程控制以便鉴定和排除不满足一个预定标准的涂覆产品或损坏的涂覆产品。通常，“挥发性物种”在试验条件下是一种气体或蒸气，并且优选地选自下组，该组由以下各项组成空气、氮气、氧气、水蒸气、挥发性涂层组分、挥发性基底组分、以及它们的一种组合，更优选地是空气、氮气、氧气、水蒸气、或它们的一种组合。该方法可以用来测量仅仅一种或几种挥发性物种，但是优选地在步骤(C)中测量了多种不同的挥发性物种，并且优选地在步骤(c)中基本上测量了所有的从检查对象释放的挥发性物种。这种放气方法包括以下步骤(a)提供该产品作为检查对象；(c)测量至少一种挥发性物种从该检查对象到与该涂覆表面邻近的气体空间内的释放；以及(d)将步骤(C)的结果与对于在相同试验条件下测量的至少一个参考对象的步骤 (C)的结果进行比较，从而确定该涂层的存在或缺乏、和/或该涂层的物理和/或化学特性。在所述放气方法中，有待确定的涂层的物理和/或化学特性可以选自下组，该组由以下各项组成它的阻挡作用、它的湿润张力、以及它的构成、以及优选地是它的阻挡作用。有利的是，步骤(C)是通过测量与该涂覆表面邻近的气体空间中的至少一种挥发性物种的质量流率或体积流率来进行的。优选地，参考对象是一种(i)未涂覆的基底；或者(ii)是一种用参考涂层涂覆的基底。这取决于，例如，该放气方法是否被用来确定一个涂层的存在或缺乏(那么该参考对象可以是一种未涂覆的基底)或被用来确定该涂层的特性(例如与一种具有已知特性的涂层进行比较)。为了确定该涂层与一种特定涂层的一致性，一种参考涂层也将是典型的选择。
该放气方法还可以包括步骤(b)作为在步骤(a)与(C)之间的一个另外的步骤， 该步骤(b)改变与涂覆表面邻近的气体空间内的气压，这样提供了一个穿过涂覆表面的压差并且可以实现该挥发性物种的相比于在没有压差的情况下的更高的质量流率或体积流率。在这种情况下，该挥发性物种将在较低压差侧的方向上迁移。如果该涂覆对象是一个容器，则确定在该容器内腔与其外部之间的压差以便测量来自该涂覆容器壁的该挥发性物种的放气。该压差可以例如通过至少部分抽空在容器中的气体空间而提供。在这种情况下， 可以测量被放出进入该容器内腔的挥发性物种。如果施用真空来产生一个压差，可以通过使用一个插入在基底的涂覆表面与一个真空源之间的测量池来进行该测量。一方面，优选地为了允许所述挥发性物种吸收到该检查对象的材料上或吸收进入该检查对象的材料，在步骤(a)中可以使该检查对象与一种挥发性物种接触，优选地该挥发性物种是选自下组，该组由以下各项组成空气、氮气、氧气、水蒸气、以及一种它们的组合。然后，在步骤(c)中测量了挥发性物种从该检查对象的后续释放。因为不同的材料(像， 例如，该涂层和该基底)具有不同的吸附和吸附特性，这可以简化一个涂层的存在和特性的确定。该基底可以是一种聚合化合物，任选地是一种聚酯、一种聚烯烃、一种环烯烃共聚物、一种聚碳酸酯、或这些化合物的一种组合。在本发明的背景下，由该放气方法表征的涂层典型地是一种从例如如在此所述的一种有机硅前体通过PECVD制备的一种涂层。在本发明的具体的方面，(i)该涂层是一种阻挡涂层，优选地是一种SiOx层，其中χ是从大约1. 5至大约2. 9 ；和/或(ii)该涂层是改变该涂覆基底的润滑性和/或表面张力的一种涂层，优选地是一种SiwOxCyHz的层，其中w 是1，χ是从大约0. 5至2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从2至大约9。当通过该放气方法检查其产品的涂覆工艺是一种在真空条件下进行的PECVD涂覆时，其随后的放气测量甚至可以在没有破坏用于PECVD的真空的情况下进行。测量的挥发性物种可以是一种从该涂层释放的挥发性物种、一种从该基底释放的挥发性物种、或者一种两者的组合。一方面，该挥发性物种是一种从该涂层释放的挥发性物种、优选地是一种挥发性涂层组分，并且进行该检查以确定该涂层的存在、特性和/或构成。另一方面，该挥发性物种是从该基底释放的一种挥发性物种并且进行该检查以确定该涂层的存在和/或该涂层的阻挡作用。本发明的放气方法特别适合于确定在容器壁上的一个涂层的存在和特性。因此， 该涂覆基底可以是一种容器，该容器具有一个在涂覆工艺期间在其内表面或外表面上的至少部分被涂覆的壁。例如，该涂层被置于该容器壁的内表面上。有效区分该涂层的存在或缺乏、和/或确定该涂层的物理和/或化学特性的条件包括小于一小时、或小于一分钟、或小于50秒、或小于40秒、或小于30秒、或小于20秒、或小于15秒、或小于10秒、或小于8秒、或小于6秒、或小于4秒、或小于3秒、或小于2秒、 或小于1秒的测试持续时间(test duration)。为了增加在一个参考对象与该检查对象之间的关于释放速率和/或所测量的挥发性物种的种类的差异，可以通过改变环境压力和/或温度、和/或湿度来改变该挥发性物种的释放速率。
在一个具体的方面，使用一种微悬壁梁测量技术测量了放气。例如，该测量可以通过以下步骤来进行(i) (a)提供至少一个微悬壁梁，当一种放出的材料存在时该微悬壁梁具有移动或改变到一个不同形状的特性；(b)在有效引起该微悬壁梁移动或改变到一个不同形状的条件下将该微悬壁梁暴露于该放出的材料；并且(C)检测该移动或不同的形状，优选地通过反射一种来自在将该微悬臂梁暴露于放气之前和之后改变形状的该微悬壁梁的一部分的高能入射束例如一种激光束，并且测量在与该悬臂梁间隔的一个点处产生的反射束的偏转；或者通过(ii) (a)提供至少一个微悬臂梁，当一种放出的材料存在时该微悬臂梁以一个不同的频率共振；(b)在有效引起该微悬臂梁以一个不同的频率共振的条件下将该微悬臂梁暴露于该放出的材料中；并且(C)检测该不同的共振频率，例如使用一个谐振传感器。还考虑了用于进行该放气方法的一种装置，例如一种包括如上述的微悬臂梁的装置。使用本发明的放气方法，例如可以检查在一种放出蒸气的材料上的一个阻挡层， 其中该检查方法具有几个步骤。提供了放出一种气体的并且具有至少部分阻挡层的材料的样品。在本发明的一个具体的方面，提供了一个跨越该阻挡层的压差，这样至少一些放气的材料是在该阻挡层的高压侧。测量了穿过该阻挡层的放出的气体。如果存在一个压差，则该测量任选地是在该阻挡层的低压侧上进行的。VII PECVD处理的容器VII.A. l.a. i.从有机硅前体沉积的疏水涂层本发明的另一个方面是从一种有机硅前体沉积的一种疏水涂层，例如在内侧壁上具有疏水性涂层的容器中。该涂层是通过以下步骤制造的类型。提供了一种前体，该前体是一种有机金属化合物，优选地一种有机硅化合物，更优选地选自下组的一种化合物，该组由以下各项组成线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、 聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、 或这些前体之中的任何两种或更多种的一种组合。可替代地，可以将含有第III族或第IV 族金属的有机金属化合物考虑为前体。在有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。该涂层被聚合或交联 (或两者)，从而形成具有比未处理基底更高的接触角的一个疏水表面。生成的涂层可以具有总式=SiwOxCyHz，其中w是l，x是从大约0. 5至大约2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从大约2至大约9，优选地其中w是l，x是从大约0. 5至1， y是从大约2至大约3，并且ζ是从大约6至大约9。贯穿本说明书所使用的W、X、y和ζ的这些值应当理解为在一个经验式中的比率(例如，对于一个涂层)，而不是对一个分子中的原子的数目的限制。例如，具有分子式 Si4O4Qft4的八甲基环四硅氧烷可以通过以下经验式(用语被我们改变)进行说明，通过将该分子式中的《、X、y、以及ζ各自除以4 (最大公因数)而得到Si1O1C2H6.并且W、χ、y以及ζ的值也不限于整数。例如，(非环状)八甲基三硅氧烷，分子式Si3O2C8H24，被约简为
SilO0. 67^2.67 0
VII. Α. 1. b具有涂覆有从有机硅前体沉积的疏水涂层的壁的柠檬酸盐采血管本发明的另一个方面是一种细胞制备管，该管具有配备有一个疏水涂层的一个壁并且容纳有一种含水柠檬酸钠试剂。该壁是由热塑性材料制成的，具有限定了一个内腔的一个内表面。该疏水涂层被提供在该管的内表面上。该疏水涂层是通过提供一种有机金属化合物来制造的，该有机金属化合物优选地是一种有机硅化合物，更优选地是选自下组的一种化合物，该组由以下各项组成线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或这些前体之中的任何两种或更多种的一种组合。使用PECVD以在内表面上形成一个涂层。生成的涂层可以具有以下结构=SiwOxCyHz，其中w是l，x是从大约0. 5至大约2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从大约2至大约9，优选地其中w是1，χ是从大约0. 5至1，y是从大约2至大约3， 并且ζ是从6至大约9。将含水柠檬酸钠试剂以有效抑制被引入到该管内的血液的凝固的一个量置于该管的内腔中。VII. A. 1. c. SiOx阻挡层涂覆的双壁塑料容器_C0C、PET、SiOx层本发明的另一个方面是具有至少部分围绕一个内腔的壁的一种容器。该壁具有被一个外部聚合物层围绕的一个内部聚合物层。这些聚合物层之一是限定了一个水蒸气阻挡层的至少0. Imm厚的环烯烃共聚物(COC)树脂的一个层。这些聚合物层中的另一种是至少 0. Imm厚的聚酯树脂的一个层。该壁包括一个SiOx的氧气阻挡层，其中在这个式中χ是从大约1. 5至大约2. 9，可替代地从大约1. 5至大约2. 6，可替代地大约2，该阻挡层具有从大约10至大约500埃的厚度。VII. A. Ld.制造双壁塑料容器的方法_C0C、PET、SiOx层本发明的另一个方面是制造具有使一个内部聚合物侧被一个外部聚合物层围绕的一个壁、由COC制造的一个层以及由聚酯制造的其他部分的容器的一种方法。该容器是通过包括下面各项的一种工艺来制造的将COC以及聚酯树脂层通过同心注射喷嘴引入到一个注塑模具中。一个任选的另外的步骤是通过PECVD将一种无定形碳涂层施加于该容器，作为一个内部涂层、一个外部涂层、或作为位于这些层之间的一个夹层或夹层涂层。一个任选的另外的步骤是将一个SiOJ且挡层施加于该容器壁的内部，其中510!￡是如前定义的。另一个任选的另外的步骤是用一种工艺气体(主要包括氧气并且基本上不含挥发性硅化合物)对该SiOx层进行后处理。任选地，可以至少部分地由硅氮烷进料气体来形成该SiOx涂层。VII.A. I.e.由玻璃制成的阻挡涂层本发明的另一个方面是包括一个容器壁、一个阻挡涂层、以及一个闭合件的容器。 该容器大致是管状的并且由热塑性材料制成。该容器具有一个开口和至少部分被一个壁限定的一个内腔，该壁具有与该内腔分界的一个内表面。在该壁的内表面上存在由玻璃制成的一个至少基本上连续的阻挡涂层。一个闭合件覆盖该开口并且将该容器的内腔从环境空气隔离。
本发明的一个相关方面是如前面段落中所述的一种容器，其中该阻挡涂层是由钠钙玻璃、硼硅玻璃、或另一种类型的玻璃制成的。VII. A. 2 塞子VII. A. 2. a.在真空室中将润滑涂层施加到塞子上的方法本发明的另一个方面是将一种涂层例如如以上定义的一种润滑涂层施加到一种弹性体塞子上的一种方法例如，将一个塞子定位在一个基本上抽空的室中。提供了一种反应混合物，该反应物包括等离子体形成气体，即一种有机硅化合物气体，任选地一种氧化气体，以及任选地一种烃气体。等离子体在该反应混合物中形成，该反应混合物与该塞子相接触。将一种润滑涂层(例如SiwOxCyHz的一个涂层，优选地其中w是1，在这个式中χ是从大约0. 5至2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从2至大约9，优选地其中w是1，χ是从大约0. 5至1，y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9)沉积在该塞子的至少一部分上。VII. A. 2. b.通过PECVD将第III族或第IV族元素和碳的一个涂层施加到一个塞子上本发明的另一个方面是将包括碳以及第III族或IV族的一种或多种元素的组合物的一种涂层施加到一个弹性体塞子上的一种方法为了实现这种方法，将一个塞子定位在一个沉积室中。在沉积室中提供了一种反应混合物，该反应混合物包括一种等离子体形成气体以及一种第III族元素(例如Al)、一种第IV族元素(例如，Si、Sn)的气体源、或这些之中的两种或更多种的一种组合。该反应混合物任选地包含一种氧化气体以及任选地包含具有一个或多个C-H键的一种气态化合物。等离子体在该反应混合物中形成，并且该塞子与该反应混合物相接触。将第III族元素或化合物、一种第IV元素或化合物、或这些之中的两种或更多种的一种组合的一个涂层沉积在该塞子的至少一部分上。VII.A. 3.塞子塞住的具有阻挡涂层的塑料容器，该阻挡涂层有效提供95 %的真空保持持续M个月本发明的另一个方面是包括一个容器壁、一个阻挡涂层、以及一个闭合件的容器。 该容器是大致管状的并且是由热塑性材料制成的。该容器具有一个开口和至少部分被一个壁限定的一个内腔。该壁具有与该内腔分界的一个内表面。将一个至少基本上连续的阻挡涂层施加到该壁的内表面上。该阻挡涂层有效保持该容器内至少90%的它的初始真空水平，任选地95%的它的初始真空水平，持续至少M个月的保质期。提供了一个闭合件，该闭合件覆盖该开口并且将该容器的内腔从环境空气隔离。VII. B. 1. a.具有涂覆有从有机金属前体沉积的润滑涂层的筒的注射器本发明的又另一个方面是一种容器，该容器具有由一种有机硅前体制成的一个润滑涂层。还可以考虑如在此定义的一种不同的有机金属前体。 该涂层可以是通过以下方法制造的类型。提供了一种前体，该前体是一种有机金属前体，优选地一种有机硅前体，更优选地是线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或这些前体之中的任何两种或更多种的一种组合。在有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。将该涂层聚合或交联(或两者)，从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的柱塞滑动力或起动力。本发明的另一个方面是一种包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个润滑层的注射器。该注射器筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。该润滑层被布置在该注射器筒的内部表面上并且包括从如本说明书中所定义的有机硅前体制造的SiwOxCyHz润滑层的一个涂层。该润滑层具有小于IOOOnm的厚度并且有效地减少了在筒内移动柱塞所必需的起动力或柱塞滑动力。本发明的另一个方面是在注射器筒的内壁上的一个润滑涂层。该涂层是使用以下材料以及条件根据PECVD过程产生的。采用了一种环状前体，该环状前体选自单环硅氧烷、 多环硅氧烷、或这些之中的两种或更多种的一种组合。至少基本上没有氧气加入到该过程中。提供了足够的等离子体产生功率输入以诱导涂层形成。相对于未涂覆的注射器筒，所采用的材料和条件将移动通过该注射器筒的注射器柱塞滑动力或起动力有效降低至少25%。生成的涂层可以具有下式=SiwOxCyHz，其中w是l，x是从大约0. 5至大约2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从大约2至大约9，优选地其中w是l，x是从大约0. 5至1， y是从大约2至大约3，，并且ζ是从6至大约9。VII. B. 1. a. i.润滑涂层=SiOx阻挡层、润滑层、表面处理。本发明的另一个方面是包含一个筒的注射器，该筒限定了一个内腔并且具有一个可滑动地接收一个柱塞的内部表面。该注射器筒是由热塑性基础材料制成的。通过 PECVD将一个润滑涂层施加到例如该筒内部表面、该柱塞或两者上。该润滑涂层是从一种有机硅前体制成的并且是小于IOOOnm厚。以有效减少该润滑层、该热塑性基础材料(或两者)的浸出的一个量在该润滑涂层上进行表面处理。该润滑涂层与溶质阻挡物(solute retainer)被构成并且以有效提供起动力、柱塞滑动力、或两者(该力小于在缺乏润滑涂层与溶质阻挡物所需要的相应的力)的相对量而存在。VII. B. l.b具有用SiOx涂覆的内部以及阻挡层涂覆的外部的筒的注射器本发明的又另一个方面是一种包括一个柱塞、一个筒、以及内部和外部阻挡涂层的注射器筒。该阻挡层是由限定了一个内腔的热塑性基础材料制造的。该筒具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面以及一个外部表面。一个SiOx阻挡涂层被提供在该筒的内部表面上，其中在这个式中X是从大约1. 5至大约2. 9，可替代地从大约1. 5至大约2. 6，任选地约2。一种树脂阻挡涂层被提供在该筒的外部表面上。VII. B. 1. c制造具有用SiOx涂覆的内部以及阻挡层涂覆的外部的筒的注射器的方法本发明的甚至另一个方面是制造一种注射器的方法，该注射器包括一个柱塞、一个筒、以及内部以及外部阻挡涂层。提供了具有可滑动地接收该柱塞的一个内部表面以及一个外部表面的一种筒。将一个SiOx阻挡涂层通过PECVD提供在该筒的内部表面上，其中在这个式中χ是从大约1. 5至大约2. 9，可替代地从大约1. 5至大约2. 6，可替代地约2。将一种树脂的阻挡涂层提供到该筒的外部表面上。将该柱塞以及筒进行组装从而提供了一种注射器。VII. B. 2 柱塞VII. B. 2. a.具有阻挡层涂覆的活塞前面
本发明的另一个方面是用于注射器的一种柱塞，该柱塞包括一个活塞以及一个推杆。该活塞具有一个前面、一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分，该侧面被配置为可移动地落座于注射器筒之内。该前面具有一个阻挡涂层。该推杆接合该后部分并且被配置为使该活塞在注射器筒中前进。VII. B. 2. b.具有与侧面交界的润滑涂层本发明的又另一个方面是用于注射器的一种柱塞，该柱塞包括一个活塞、一个润滑涂层以及一个推杆。该活塞具有一个前面，一个大致圆柱形的侧面、以及一个后部分。该侧面被配置为可移动地落座于注射器筒之内。该润滑层与该侧面接界。该推杆接合该活塞的后部分并且被配置为使该活塞在注射器筒中前进。VII. B. 3两件式注射器和鲁尔接头本发明的另一个方面是包括一个柱塞、一个注射器筒、以及一个鲁尔接头的注射器。该注射器筒包括可滑动地接收该柱塞的一个内部表面。该鲁尔接头包括一个鲁尔锥， 该鲁尔锥具有由一个内表面限定的一个内部通道。该鲁尔接头以与该注射器筒分离的一个分离件的形式而形成并且通过一个连接器连接到该注射器筒上。该鲁尔锥的内部通道具有一种SiOx阻挡涂层，其中在这个式中X是从大约1. 5至大约2. 9，可替代地从大约1. 5至大约2. 6，可替代地约2。VII. B. 4通过原位聚合有机硅前体而制造的润滑涂层VII. B. 4. a.通过处理以及润滑的产物本发明的又另一个方面是从有机硅前体制成的一种润滑涂层。这种涂层是由以下方法制成的类型。提供了一种前体，该前体选自一种有机金属前体，优选地一种有机硅前体，优选线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、 聚倍半硅氮烷、或这些前体之中的任何两种或更多种的一种组合。在有效形成一种涂层的条件下将该前体施加到一种基底上。将该涂层聚合或交联(或两者)，从而形成一种润滑的表面，相比于未处理的基底该润滑的表面具有较低的柱塞滑动力或起动力。生成的涂层可以具有以下结构=SiwOxCyHz，其中w是l，x是从大约0. 5至大约2. 4， y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从大约2至大约9，优选地其中w是1，χ是从大约0. 5至 1，y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9。VII. B. 4.b.工艺与分析特性的产物本发明的甚至另一个方面是来自有机金属前体的通过PECVD沉积的一个润滑涂层，优选地来自一种有机硅前体，更优选地来自线性硅氧烷、单环硅氧烷、多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的一种组合。如通过X射线反射率(XRR)所确定的该涂层具有在1. 25与1. 65g/cm3之间的密度。还可以考虑使用含有第III族(即，硼、铝、镓、铟、铊、钪、钇、或镧)，或第IV族 (即，硅、锗、锡、铅、钛、锆、铪、钍)的一种金属、或这些之中的任何两种或更多种的组合的一种有机金属前体。还可以考虑其他挥发性有机化合物。然而，优选有机硅化合物来进行本发明。本发明的又另一个方面是通过来自进料气体的PECVD沉积的一个润滑涂层，该进料气体包括一种有机金属前体、优选地一种有机硅前体，更优选线性硅氧烷、单环硅氧烷、 多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的一种组合。还可以考虑使用含有第III族或第IV族的一种金属的前体。如通过气相色谱法/质谱法所确定的，该涂层具有作为一种放气组分的含重复的-(Me)2SiO-部分的一种或多种低聚物。任选地，该涂层符合任何实施方案VII. B. 4. a.或 VII. B. 4的限定。本发明的又另一个方面是通过来自进料气体的PECVD沉积的一个润滑涂层，该进料气体包括一种有机金属前体、优选地一种有机硅前体，更优选线性硅氧烷、单环硅氧烷、 多环硅氧烷、聚倍半硅氧烷、线性硅氮烷、单环硅氮烷、多环硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的一种组合。如通过X射线光电子光谱法(XPQ所确定的，该涂层可以具有被归一化为100%的碳、氧、以及硅的原子浓度，具有小于50%的碳以及大于25%的硅。任选地，该涂层符合任何实施方案VII. B. 4. a或VII. B. 4. b.的限定。还可以考虑使用含有第III族或第IV族的金属的一种有机金属前体。本发明的另一个方面是通过PECVD从一种进料气体沉积的一种润滑涂层，该进料气体含有一种有机硅前体，优选地单环硅氧烷、单环硅氮烷、多环硅氧烷、多环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合。该涂层具有如通过χ射线光电子光谱法(XPQ所确定的，被归一化为100%的碳、氧、以及硅的一个碳的原子浓度，该浓度大于进料气体的原子式中碳的原子浓度。任选地，该涂层符合实施方案VII. B. 4. a或VII. B. 4. b中的限定。本发明的另一个方面是通过PECVD从一种进料气体沉积的一种润滑涂层，该进料气体包含一种有机硅前体，优选单环硅氧烷、单环硅氮烷、多环硅氧烷、多环硅氮烷、或这些之中的两种或更多种的任何组合。该涂层具有如通过χ射线光电子光谱法(XPQ所确定的，被归一化为100%的碳、氧、以及硅的一个硅的原子浓度，该浓度小于进料气体的原子式中硅的原子浓度。任选地，该涂层符合实施方案VII. B. 4. a或VII. B. 4. b中的限定。VII. C. 1.容纳有能活的血液的具有由有机硅前体沉积的一个涂层的容器本发明的甚至另一个方面是一种容纳血液的容器。该容器具有一个壁；该壁具有限定了一个内腔的一个内表面。该壁的内表面具有如上定义的一个至少部分疏水涂层，优选地一个SiwOxCyHz的疏水涂层，优选地其中w是1，在这个式中χ是从大约0. 5至2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从2至大约9，更优选地其中w是1，χ是从大约0. 5至1， y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9。该涂层可以是薄如单分子厚度，或厚如约 lOOOnm。该容器容纳用于返回病人的血管系统的能活的血液，该血液被布置在该内腔内与该SiwOxCyHz涂层接触。VII. C. 2.从有机硅前体沉积的涂层减少了在容器壁上的凝固或血小板激活本发明的另一个方面是具有一个壁的容器。该壁具有限定了一个内腔的一个内表面并且具有通过PECVD从一种有机硅前体制造的一个至少部分钝化的例如疏水的涂层，优选地一种SiwOxCyHz的涂层，优选地其中w是1，在这个式中χ是从大约0. 5至2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从2至大约9，更优选地其中w是1，χ是从大约0. 5至1，y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9。在该内部表面上该涂层的厚度是从单原子厚度至约IOOOnm厚。与同一类型的未涂覆的壁相比较，该涂层有效减少用柠檬酸钠添加剂处理过的并且暴露于该内表面的血浆的血小板激活。与同一类型的未涂覆的壁相比较，该涂层有效减少暴露于该内表面的血液的凝固。VII. C. 3.容纳能活的血液、具有第III族或第IV族金属元素的涂层的容器本发明的另一个方面是一种容纳血液的容器，该容器具有一个壁，该壁具有限定了一个内腔的一个内表面。该内表面具有一种构成的一个至少部分涂层，该构成包括碳、第 III族的一种或多种金属、第IV族的一种或多种金属、或这些之中的两种或更多种的一种组合。在该内表面上的该涂层的厚度是在单分子厚度与大约IOOOnm厚度之间，包括端值。 该容器容纳用于返回病人的血管系统的能活的血液，该血液被布置在与该涂层相接触的该内腔内。VII. C. 4.第III族或第IV族元素的涂层减少了该容器中血液的凝固或血小板激活任选地，在以上段落中所述的容器中，该第III族或第IV族元素的涂层有效减少暴露于该容器壁的内表面的血液的凝固或血小板激活。VII. D. 1.容纳胰岛素的具有由有机硅前体沉积的涂层的容器本发明的另一个方面是一种容纳胰岛素的容器，该容器具有一个壁，该壁具有限定了一个内腔的一个内表面。该内壁具有通过PECVD从一种有机硅前体制成的一个至少部分钝化的涂层，优选地一种SiwOxCyHz的涂层，优选地其中w是1，在这个式中χ是从大约0. 5 至2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从2至大约9，更优选地其中w是1，χ是从大约 0. 5至l，y是从大约2至大约3，并且ζ是从6至大约9。在该内表面上该涂层可以是从单分子厚度至约IOOOnm厚。胰岛素被布置在与SiwOxCyHz涂层接触的内腔内。VII. D. 2.由有机硅前体沉积的涂层减少了容器中胰岛素的沉淀任选地，在以上段落的容器中，与缺乏SiwOxCyHz的涂层的相同表面相比较，该 SiwOxCyHz的涂层有效减少由于胰岛素接触该内表面的沉淀形成。VII. D. 3.容纳胰岛素的具有第III族或第IV族元素的涂层的容器本发明的另一个方面是一种容纳胰岛素的容器，该容器包括一个壁，该壁具有限定了一个内腔的一个内表面。该内表面具有一种构成的一个至少部分涂层，该构成包括碳、 第III族的一种或多种金属、第IV族的一种或多种金属、或这些之中的两种或更多种的一种组合。在该内表面上该涂层可以是从单分子厚度至大约IOOOnm厚度。胰岛素被布置在与该涂层相接触的该内腔内。VII. D. 4.第III族或第IV族元素的涂层减少了容器中胰岛素的沉淀任选地，在以上段落中所述的容器中，与缺乏涂层的相同表面相比较，包括包括碳、第III族的一种或多种金属、第IV族的一种或多种金属、或这些之中的两种或更多种的一种组合的构成的涂层有效减少由于胰岛素接触内表面的沉淀形成。VILE.小杯在本说明书中所述的PECVD涂覆方法等等对于涂覆小杯以形成一个阻挡涂层、一个疏水涂层、一个润滑涂层、或这些之中的一种以上也是有用的。小杯是具有圆形或方形截面、一端密封的、由塑料、玻璃、或熔融石英(用于UV光)制成的并且被设计用于容纳样品用于光谱实验的一种小管。最好的小杯是尽可能透明的，没有可能影响光谱读数的杂质。如同试管或采样管，小杯可以是向大气开放的或使用一个帽来将它密封关闭。本发明的PECVD施加的涂层可以是非常薄的、透明的、并且光学平坦的、因此不干扰该小杯或它的内容物的光学测试。VII. F.小瓶本说明书中所述的PECVD涂覆方法等等，对于涂覆小瓶以形成一个涂层、例如一个阻挡涂层或一个疏水涂层、或这些涂层的一个组合也是有用的。小瓶是一种小容器或瓶， 尤其是用于存储液体、粉末或冻干的粉末形式的药物。它们还可以是样品容器，例如用于分析型层析中的自动进样器设备中。小瓶可以具有管状形状或具有一个颈的瓶样形状。与试管或采样管不同(它们通常具有圆形底部)该底部通常是平的。这些小管可以是例如由塑料(例如聚丙烯、coc、COP)制成的。计算机可读介质以及程序元件此外，提供了一种计算机可读介质，在其中存储用于涂覆和/或检查容器的计算机程序，当该计算机程序被一个容器处理系统的处理器执行时，引起该处理器进行以上或以下提及的方法步骤。此外，提供了用于对容器进行涂覆和/或检查的一种程序元件，当该程序元件被一个容器处理系统的处理器执行时，引起该处理器进行以上或以下提及的方法步骤。根据本披露以及附图，本发明的其他方面将是清楚的。附图简要说明

图1是一个示意图，该图显示了根据本披露的一个实施方案的一种容器处理系统。图2是根据本披露的一个实施方案的一个涂覆站中的一个容器支架的一个示意性截面视图。图3是本披露的一个可替代的实施方案的类似于图2的一个视图。图4是该容器支架的一个可替代的实施方案的一个图解的平面图。图5是该容器支架的另一个可替代的实施方案的一个图解的平面视图。图6是容器检查装置的类似于图2的一个视图。图7是可替代的容器检查装置的类似于图2的一个视图。图8是沿着图2的截面线A-A截取的一个截面。图9是图8中所示结构的一个替代的实施方案。图10是在根据本披露的另一个实施方案的一个涂覆站中一个容器支架的类似于图2的一个视图(采用了一个CXD检测器)。图11是光源以及检测器的类似于图10的一个详细视图(与图6的相应部分相比较它们是相反的)。图12是根据本披露的又另一个实施方案的一个涂覆站中的一个容器支架的类似于图2的一个视图(采用微波能量来产生等离子体)。图13是根据本披露的又一个实施方案的一个涂覆站中的一个容器支架的类似于图2的一个视图，其中可以将该容器落座于位于该处理站的容器支架上。图14是根据本披露的甚至另一个实施方案的一个涂覆站中的一个容器支架的类似于图2的一个视图，其中该电极可以被配置为一种线圈。图15是根据本披露的另一个实施方案的一个涂覆站中的一个容器支架的类似于图2的一个视图(采用管运送装置以将容器移动进入以及离开该涂覆站)。图16是中操作一种容器运输系统(如图15中所示的一个系统)以在处理站放置并且保持容器的一个图解视图。图17是根据本披露的一个方面用于形成容器的一个模具以及模具空腔的一个图解视图。图18是根据本披露的一个方面配备有一种容器涂覆设备的图17的模具空腔的一个图解视图。图19是根据本披露的一个方面的配备有一个替代的容器涂覆设备的类似于图17 的一个视图。图20是一个适配用作一个预充式注射器的注射器和的帽的一个分解纵向截面视图。图21是显示根据本披露的一个实施方案的一个涂覆站中的一个加帽的注射器筒以及容器支架的大致类似于图2的一个视图。图22是图显示根据本披露的又一个实施方案的一个涂覆站中的一个未加帽的注射器筒以及容器支架的大致类似于图21的一个视图。图23是根据本发明的又另一个实施方案的具有一个闭合件的采血管组件的一个透视图。图M是图23的采血管以及闭合组件的一个断裂剖面。图25是图23以及M的闭合件的一个弹性体插入件的一个分离的剖面图。图沈是本发明的另一个实施方案用于处理注射器筒以及其他容器的类似于22的一个视图。图27是图沈的处理容器的一个放大的局部视图。图观是一个可替代的处理容器的一个示意图。图四是显示穿过涂层的的材料放气的一个示意图。图30是用于引起一个容器壁放气到该容器的内部的一个测试装置以及使用一个插入在该容器与一个真空源之间的测量池的放气测量的一个示意性截面视图。图31是一个对于多个容器的在图30的测试装置上测量的一个放气质量流率的曲线图。图32是一个显示在图31中所示出的端点数据的统计分析的条形图。图33是根据本发明的另一个实施方案的一种组合的注射器筒以及气体接收体积的一个纵截面。图34是本发明的另一个实施方案的类似于图34的一个视图(包括一个电极伸出部)。图35是从图34的截面线35-35截取的一个视图，显示了远端气体供应开口以及图34的延伸电极。图36是根据本发明的又另一个实施方案的双壁采血管组件的的一个透视图。图37是显示另一个实施方案的类似于图22的一个视图。图38是显示又另一个实施方案的类似于图22的一个视图。图39是显示又另一个实施方案的类似于图22的一个视图。
图40是显示甚至另一个实施方案的类似于图22的一个视图。图41是图40的实施方案的一个平面图。图42是可以与图1、2、3、6-10、12-16、18、19、33、以及37-41的实施方案一起使用的用于将容器落座于容器支架上的一个可替代的密封布置的断裂的局部纵截面。图42还显示了可以与例如图2、3、6-10、12-22、洸-28、33-34、以及37-41的实施方案一起使用的一种可替代的注射器筒构造。图43是图42中所示的密封布置的一个另外的放大的局部视图。图 44 是可以与例如图 1、2、3、8、9、12-16、18-19、21-22、33、37-43、46-49、以及 52-54的实施方案一起使用的一个可替代的气体递送管/内电极的类似于图2的一个视图。图 45 是可以与例如图 1、2、3、6-10、12-16、18、19、21、22、26、28、33-35、以及 37-44 的实施方案一起使用的容器支架的一种可替代的构造。图46是气体递送管的一个阵列以及用于将气体递送管插入一个容器支架中以及从其移开的一个机构的一个示意性截面视图，显示了处于其完全推进的位置的气体递送管。图47是显示处于中间位置的一个气体递送管的类似于图46的一个视图。图48是显示处于完全缩回位置的一个气体递送管的类似于图46的一个视图。图 46-48的气体递送管的阵列可以与例如图1、2、3、8、9、12-16、18-19、21-22、26-28、33-35、 37-45、49、以及52巧4的实施方案一起使用。图46-48的机构可以与例如图2、3、8、9、12-16、 18-19,21-22,26-28,33-35,37-45,49,以及52-54的气体递送管实施方案以及与图6和7 的容器检查装置的探头一起使用。图49是显示用于将有待处理的容器以及一个清洗反应器递送至一个PECVD涂覆装置的一个机构的类似于图16的一个视图。图49的机构可以与例如图1、9、15、以及16的
容器检查装置一起使用。图50是两件式注射器筒与鲁尔锁定接头的一个分解视图。该注射器筒是可以与图1-22、26-沘、33-；35、37-39、44、以及53-54的容器处理与检查装置一起使用。图51是图50的两件式注射器筒以及鲁尔锁定接头的一个组装视图。图52是显示被处理的不具有凸缘或指挡的一个注射器筒的类似于图42的一个视图。该注射器筒可以与图1_19、27、33、35、44-51、以及53巧4的容器处理与检查装置一起使用。图53是用于处理容器的组件的一个示意图。该组件可以与图1-3、8-9、12_16、 18-22、洸-28、33-35、以及37-49的装置一起使用。图M是图53的实施方案的一个图解视图。图55是本发明的一个实施方案的类似于图2的一个图解视图，包括一个等离子体网。图56是气体递送管的一个阵列的示意性截面视图，具有独立的气体供应以及用于将气体递送管插入容器支架中以及从其移开的一个机构。图57是实例19中所测量的放气质量流率的一个曲线图。图58显示了一个线性齿条，其他类似于图4。图59显示了根据本发明的一个示例性实施方案的一个容器处理系统的一个示意性图示。图60显示了根据本发明的另一个示例性实施方案的一个容器处理系统的一个示意性图示。图61显示了根据本发明的一个示例性实施方案的一个容器处理系统的一个处理站。图62显示了根据本发明的一个示例性实施方案的一个便携式容器支架。以下参考符号被用于这些附形中
权利要求
1.一种用于检查涂覆工艺的产品的方法，其中一种涂层已经被施加到基底的表面上以形成涂覆的表面，该方法包括以下步骤(a)提供该产品作为检查对象；(c)测量至少一种挥发性物种从该检查对象到与该涂覆的表面相邻的气体空间中的释放；以及(d)将步骤(c)的结果与对于在相同测试条件下测量的至少一个参考对象的步骤(C) 的结果进行比较，从而确定该涂层的存在或不存在、和/或该涂层的物理和/或化学性能。
2.权利要求1所述的方法，其中被确定的涂层的物理和/或化学性能选自下组它的阻隔作用、它的润湿张力和它们的组合，并且优选是它的阻隔作用。
3.权利要求1或权利要求2所述的方法，其中步骤(c)是通过测量与该涂覆的表面相邻的气体空间中所述至少一种挥发性物种的质量流率或体积流率来进行的。
4.以上权利要求中任一项所述的方法，其中(i)所述参考对象是未涂覆的基底；或( )所述参考对象是用参考涂层涂覆的基底。
5.以上权利要求中任一项所述的方法，其包括作为在步骤(a)与(c)之间的另外一个步骤的以下步骤(b)改变与所述涂覆的表面相邻的气体空间内的气压，这样提供了穿过所述涂覆的表面的压差并且与没有所述压差的情况相比可以实现所述挥发性物种更高的质量流率或体积流率。
6.权利要求5所述的方法，其中所述测量是使用介于基底的所述涂覆的表面和真空源之间的测量池来进行的。
7.以上权利要求中任一项所述的方法，其中所述挥发性物种在测试条件下是气体或蒸气，优选选自由以下各项组成的组空气、氮气、氧气、水蒸气、挥发性涂层组分、挥发性基底组分以及它们的组合，更优选是空气、氮气、氧气、水蒸气或它们的组合。
8.以上权利要求中任一项所述的方法，其中在步骤(a)中使所述检查对象与挥发性物种接触，优选与选自下组的挥发性物种接触空气、氮气、氧气、水蒸气和它们的组合，该接触优选是为了允许所述挥发性物种吸收或吸附到该检查对象的材料上或吸收或吸附入该检查对象的材料内；并且其中在步骤(c)中测量所述挥发性物种从该检查对象的随后释放。
9.以上权利要求中任一项所述的方法，其中在步骤(c)中测量多种不同的挥发性物种，并且其中优选地，在步骤(c)测量中基本上所有的从检查对象释放的挥发性物种。
10.以上权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底是聚合物，优选是聚酯、聚烯烃、 环烯烃共聚物、聚碳酸酯或这些聚合物的组合。
11.以上权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂层是从有机硅前体通过PECVD制备的涂层。
12.以上权利要求中任一项所述的方法，其中(i)所述涂层是阻隔性涂层，优选是SiOx层，其中χ是从大约1. 5至大约2. 9 ；和/或( )所述涂层是改变所述涂覆的基底的润滑性和/或表面张力的涂层，优选是 SiwOxCyHz层，其中w是1，χ是从大约0. 5至2. 4，y是从大约0. 6至大约3，并且ζ是从2至大约9。
13.以上权利要求中任一项所述的方法，其中所述挥发性物种是从所述涂层释放的挥发性物种，优选是挥发性涂层组分，并且其中进行所述检查以确定所述涂层的存在、性能和 /或组成。
14.以上权利要求中任一项所述的测量，其中所述挥发性物种是从所述基底释放的挥发性物种，并且其中进行所述检查以确定所述涂层的存在和/或所述涂层的阻隔作用。
15.以上权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底是容器，该容器具有在涂覆工艺期间在其内表面或外表面上被至少部分涂覆的壁，并且其中优选地，所述涂层被置于该容器壁的内表面上。
16.权利要求15所述的方法，其中在所述容器的内腔和其外部之间建立压差，以便测量来自所述涂覆的容器壁的所述挥发性物种的放气。
17.权利要求15或16所述的方法，其中所述压差是通过至少部分抽空在所述容器中的气体空间而提供的。
18.以上权利要求中任一项所述的方法，其中有效区分所述涂层的存在或不存在和/ 或确定所述涂层的物理和/或化学性能的条件包括小于一小时、或小于一分钟、或小于50 秒、或小于40秒、或小于30秒、或小于20秒、或小于15秒、或小于10秒、或小于8秒、或小于6秒、或小于4秒、或小于3秒、或小于2秒、或小于1秒的测试持续时间。
19.以上权利要求中任一项所述的方法，其中通过改变环境压力和/或温度和/或湿度来改变所述挥发性物种的释放速率，因此增加所述参考对象与所述检查对象之间关于所测量的挥发性物种的释放速率和/或种类的差异。
20.以上权利要求中任一项所述的方法，其被用作用于涂覆工艺的在线过程控制，以便鉴定和消除不满足预定标准的涂覆产品或损坏的涂覆产品。
21.以上权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂覆是在真空条件下进行的PECVD 涂覆，并且其中随后的放气测量是在没有破坏用于PECVD的真空的情况下进行的。
22.以上权利要求中任一项所述的方法，其中测量是使用微悬壁梁测量技术进行的。
23.权利要求22所述的方法，其中测量是通过以下方法进行的(i)(a)提供至少一个微悬壁梁，其具有当被脱气的材料存在时移动或改变到不同形状的性能；(b)在有效引起该微悬壁梁移动或改变到不同形状的条件下将该微悬壁梁暴露于所述被脱气的材料；并且(c)检测该移动或不同的形状，优选地通过从在将该微悬臂梁暴露于脱气之前和之后改变形状的该微悬壁梁的一部分反射高能入射束，例如激光束，并且在与该悬臂梁间隔开的一个点处测量产生的反射束的偏转；或者(ii)(a)提供至少一个微悬臂梁，当被脱气的材料存在时该微悬臂梁在不同的频率共振；(b)在有效引起该微悬臂梁在不同的频率共振的条件下将该微悬臂梁暴露于所述被脱气的材料；并且(c)检测该不同的共振频率，例如使用谐振传感器。
24.一种用于进行权利要求20至23中任一项所述的方法的装置。
全文摘要
在此提供了用于检查涂覆工艺的产品的一种方法。其中，测量了至少一种挥发性物种从该涂覆表面到与该涂覆表面邻近的气体空间中的释放并且将该结果与对于在相同试验条件下测量的至少一个参考对象的结果进行比较。从而可以确定该涂层的存在或缺乏、和/或该涂层的物理和/或化学特性。该方法对于检查任何涂覆的物品(例如容器)是有用的。还披露了它的在由有机硅前体制成的PECVD涂层尤其是阻挡涂层的检查方面的应用。
文档编号G01N21/952GK102460131SQ201080029201
公开日2012年5月16日 申请日期2010年5月12日 优先权日2009年5月13日
发明者J·R·弗里德曼, J·弗古森, T·E·费斯克 申请人:Cv控股有限责任公司