一种表面修饰的纳米通道膜及其制备方法与应用与流程

文档序号:11232913阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种表面修饰的纳米通道膜,所述纳米通道膜的厚度为12μm~60μm,具有直径为10nm~600nm,平均密度为107/cm2~109/cm2的纳米通道,所述纳米通道表面修饰有粒径为5nm~100nm,密度为105/m2~109/m2的单分散性的纳米颗粒,所述纳米颗粒为金、银、钯、铂或钌中的一种或多种。本发明还公开了该纳米通道膜的制备方法及应用。通过本发明的纳米通道膜,具备修饰有纳米颗粒的纳米通道,其结构更接近于生物孔道结构,对于研究生命体物质和能量的转移过程十分必要。

技术研发人员:夏帆;高鹏程;程洪利
受保护的技术使用者:华中科技大学
技术研发日:2016.03.04
技术公布日:2017.09.12
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