水分含量检测、控制和监控系统的制作方法

本发明涉及太赫兹检测技术领域，特别是涉及一种水分含量检测、控制和监控系统。

背景技术：

在工业生产中，水分含量是决定产品质量的关键因素，不仅会影响产品的物理化学性质，如重量、密度、粘度、折光率、水活度、电导率等，还关系着产品的加工性能、商业化要求、合法性等。水分含量检测系统既可以在工业生产中进行控制分析，又能够对产品质量进行测定，在质量检测日趋严格的发展下，水分含量的检测已成为衡量产品质量的重要指标，已经广泛应用于医药、粮食、烟草、造纸、塑胶、纺织等行业。

水分含量检测系统按测定原理可以分为物理测定法和化学测定法。物理测定法常用的是失重法、蒸馏分层法、气相色谱分析法等，化学测定方法主要有卡尔费休法、甲苯法等。其中，卡尔费休法已被列为许多物质中水分测定的国际标准方法，并发展除了容量法和库伦法的检测仪器。

然而，随着工业化的快速发展，几分钟的检测速度已经不能满足市场需求，在线实时的水分含量检测是市场的主要发展趋势。目前一些间接测量方法可提供在线水分检测，如微波共振法和近红外光谱法，但信噪比和稳定性较低。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种水分含量检测、控制和监控系统，能够实时、准确的进行水分含量检测，且信噪比和稳定性较高。

本发明的目的通过如下技术方案实现：

一种水分含量检测系统，包括水分仪系统组件、透镜组件和信号分析组件；所述水分仪系统组件包括光源组件、太赫兹辐射器、第一太赫兹探测器和第二太赫兹探测器，所述信号分析组件包括偏压信号发生器和信号处理装置；

所述光源组件用于产生激光拍频光束，产生的激光拍频光束被分束至太赫兹辐射器、第一太赫兹探测器和第二太赫兹探测器；

所述太赫兹辐射器在入射的激光拍频光束和所述偏压信号发生器的电场的作用下辐射太赫兹信号，辐射的太赫兹信号的一部分经透镜组件透射和/或反射返回至所述第一太赫兹探测器，辐射的太赫兹信号的另一部分经透镜组件透射和/或反射以及待测样品的反射返回至第二太赫兹探测器；

所述第一太赫兹探测器在入射的激光拍频光束和返回的太赫兹信号的作用下获得参考电信号，所述第二太赫兹探测器在入射的激光拍频光束和返回的太赫兹信号的作用下获得样品电信号，所述参考电信号和所述样品电信号输入所述信号处理装置进行待测样品的含水量检测。

根据上述本发明的水分含量检测系统的方案，其包括水分仪系统组件、透镜组件和信号分析组件，水分仪系统组件包括该光源组件、太赫兹辐射器、第一太赫兹探测器和第二太赫兹探测器，信号分析组件包括偏压信号发生器和信号处理装置，由于光源组件产生的激光拍频光束被分束至太赫兹辐射器、第一太赫兹探测器和第二太赫兹探测器，这样，太赫兹辐射器在入射的激光拍频光束和偏压信号发生器的电场的作用下辐射太赫兹信号，且由于辐射的太赫兹信号的一部分经透镜组件透射和/或反射返回第一太赫兹探测器，辐射的太赫兹信号的另一部分经透镜组件透射和/或反射以及待测样品的反射返回至第二太赫兹探测器，这样，第一太赫兹探测器在入射的激光拍频光束和返回的太赫兹信号的作用下获得参考电信号，第二太赫兹探测器在入射的激光拍频光束和返回的太赫兹信号的作用下获得样品电信号，参考电信号和样品电信号输入信号处理装置进行待测样品的含水量检测，如此，可以实时地获取待测样品内水分含量，此外，由于分束至太赫兹辐射器、第一太赫兹探测器和第二太赫兹探测器的激光拍频都来自同一光源组件，可以节约硬件成本，且使得分束至太赫兹辐射器、第一太赫兹探测器和第二太赫兹探测器的激光的频率都相同，可以提升检测的准确性，同时，由于是基于太赫兹辐射信号进行水分检测，信噪比与稳定性均较高。

一种水分含量控制系统，包括微机以及如上所述的水分含量检测系统，所述微机与所述水分含量检测系统的信号处理装置连接，所述微机还连接流水线控制设备；

所述信号处理装置用于将检测到的待测样品的含水量值反馈给所述微机；

所述微机用于将所述含水量值与预设的水分含量门限值进行比较，获得比较结果，根据所述比较结果判断所述待测样品是否需要进一步进行脱水操作，获得判断结果，根据所述判断结果生成指令并发送给流水线控制设备；

所述流水线控制设备用于根据所述指令控制对应的流水线的运行方向。

根据上述本发明的水分含量控制系统的方案，由于其具有上述水分含量检测系统，因此，也能够实时、准确的进行水分含量检测，且信噪比和稳定性较高，同时由于其将所述含水量值与预设的水分含量门限值进行比较，基于比较结果判断所述待测样品是否需要进一步进行脱水操作，并基于判断结果生成指令并发送给流水线控制设备以控制对应的流水线的运行方向，可以基于水分含量检测系统检测到的水分含量值实现对流水线自动化控制。

一种水分含量监控系统，包括数据存储服务器以及如上所述的水分含量检测系统，所述数据存储服务器与所述水分含量检测系统的信号处理装置连接；

所述信号处理装置用于将各个时刻监测到的含水量值实时地上传到所述数据存储服务器。

根据上述本发明的水分含量监控系统的方案，由于其具有上述水分含量检测系统，因此，也能够实时、准确的进行水分含量检测，且信噪比和稳定性较高，同时，由于还将各个时刻监测到的含水量值实时地上传到所述数据存储服务器，可以便于流水线的管理者可通过各种终端程序通过查看生产过程中的实时水分含量变化曲线，了解流水线设备的控制行为，以达到对流水线的监控的目的，也可以对数据存储服务器存储的数据(各个时刻的含水量值)进行数据分析，进行对生产制造工艺进行调整，以提高生产效益。

附图说明

图1为本发明实施例一的水分含量检测系统的组成结构示意图；

图2为图1中的水分仪系统组件在其中一个实施例中的细化组成结构示意图；

图3为图1中的透镜组件在其中一个实施例中的细化组成结构以及与水分仪系统组件中的部分器件的连接关系示意图；

图4本发明实施例一的水分含量检测系统的工作原理示意图一；

图5本发明实施例一的水分含量检测系统的工作原理以及信号分析组件的一种细化组成结构示意图二；

图6为本发明实施例二的水分含量控制系统的组成结构示意图；

图7为本发明实施例二的水分含量控制系统的一种应用示意图；

图8为本发明实施例三的水分含量监控系统的组成结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本使用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，并不用于限定本发明。

太赫兹辐射是指频率在0.1THz到10THz之间的电磁辐射，其对许多介电材料和非极性物质具有良好的穿透性，特别是它对水有较强的吸收特性。由于水是极性分子，水对太赫兹辐射的吸收远高于其他非极性分子成分组成。因此，本发明实施例中使用太赫兹辐射进行水分测定，信噪比与稳定性均优于微波检测方式和近红外检测方式。通过使用太赫兹辐射进行水分测定，可以在生产过程质量监控及成品分级等流水线阶段，实施无损、实时、准确的水分含量监控，确保产品质量及生产加工性能。以下对本发明方案的各个实施例进行详细阐述。

实施例一

参见图1所示，为本发明实施例一的水分含量检测系统的组成结构示意图。如图1所示，本发明实施例一的水分含量检测系统包括水分仪系统组件10、透镜组件11和信号分析组件12，水分仪系统组件10包括光源组件101以及分别与该光源组件101连接的太赫兹辐射器102、第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104，信号分析组件12包括偏压信号发生器121和信号处理装置122。

透镜组件11设置在太赫兹辐射器102、第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104之间，太赫兹辐射器102连接偏压信号发生器121；第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104分别连接信号处理装置122。

这里，透镜组件可以包括抛物面镜、分光镜、平面镜和透镜中的一种或者多种，抛物面镜、分光镜、平面镜和透镜中的每一种镜片的数量分别可以为一个，也可以为多个。

其中，光源组件101用于产生的激光拍频光束，产生的激光拍频光束被分束至太赫兹辐射器102、第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104；

太赫兹辐射器102在入射的激光拍频和偏压信号发生器121所提供的电场的作用下向透镜组件11中辐射太赫兹信号；辐射的太赫兹信号的一部分经透镜组件11透射和/或反射返回至第一太赫兹探测器103；辐射的太赫兹信号的另一部分经透镜组件11透射和/或反射以及待测样品(图1中未示出)的反射返回至第二太赫兹探测器104。

第一太赫兹探测器103在入射的激光拍频光束和返回的太赫兹信号的作用下获得参考电信号，第二太赫兹探测器104在入射的激光拍频光束和返回的太赫兹信号的作用下获得样品电信号，所述参考电信号和所述样品电信号输入信号处理装置122进行待测样品的含水量检测。

采用上述本实施例的方案，可以实时地获取待测样品内水分含量，此外，由于分束至太赫兹辐射器102、第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104都来自光源组件101，可以节约硬件成本，且使得分束至太赫兹辐射器102、第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104的激光的频率都相同，可以提升检测的准确性，同时，由于是基于太赫兹辐射信号进行水分检测，信噪比与稳定性均较高。

参见图2所示，为水分仪系统组件10在其中一个实施例中的细化结构示意图，图2中示出了水分仪系统组件10的一个较佳示例的组成结构示意图依据不同的考虑因素，在具体实现本发明的水分含量检测系统时，可以包含图2中所示的全部，也可以只包含图2中所示的其中一部分，以下就针对其中的几个水分含量检测系统的具体实施例进行详细说明。

在其中一个实施例中，光源组件101包括图2中第一激光源G1、第二激光源G2、光学混频器X1；光学混频器X1的输入端分别连接第一激光源G1的输出端和第二激光源G2的输出端，光学混频器X1的输出端分别连接太赫兹辐射器102的输入端、第一太赫兹探测器103的输入端和第二太赫兹探测器104的输入端。

其中，第一激光源G1和第二激光源G2用于产生频率之差在设定范围内的红外激光光束。一般地，该频率之差比较(例如小于一个较小的设定值)接近且不相等最为适宜，第一激光源G1和第二激光源G2均可以是二极管激光源。

在其中一个实施例中，为了使得入射激光的频率(f₁和f₂)可控，在上述一个实施例的基础上，光源组件101还可以包括图2中的第一耦合器FC1、第二耦合器FC1、第一稳频器W1和第二稳频器W2；

如图2所示，第一耦合器FC1的输入端连接第一激光源G1的输出端，第一耦合器FC1的输出端分别连接第一稳频器W1的输入端和光学混频器X1的输入端，第二耦合器FC2的输入端连接第二激光源G2的输出端，第二耦合器FC2的输出端分别连接第二稳频器W2的输入端和光学混频器X2的输入端；

第一稳频器W1通过第一激光源G1的一部分输出光对第一激光源G1进行稳频，第二稳频器W2通过第二激光源G2的一部分输出光对第二激光源G2进行稳频。

在本实施例中，添加了第一稳频器W1和第二稳频器W2，可以使得入射激光的频率(f₁和f₂)可控，可以易于获得太赫兹频段的辐射。

其中，第一耦合器FC1和第二耦合器FC2的各个输出端的分光比可以根据实际需要设定，一般地，大部分分入射功率(例如99％)的激光光束分路至光学混频器X1，极少入射功率(1％左右)的激光光束被分路至第一稳频器W1和第二稳频器W2。通过第一稳频器W1和第二稳频器W2可以调控激光拍频的外部频率。

在具体实现时，光学混频器X1可以通过图2中的第三耦合器FC3连接第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104。具体地，如图2所示，光源组件还包括第三耦合器FC3，第三耦合器FC3的输入端连接光学混频器X1的输出端，第三耦合器FC3的输出端分别连接第一太赫兹探测器103的输入端和第二太赫兹探测器104的输入端。

其中，第三耦合器FC3的分光比可以根据实际需要设定，第三耦合器FC3的两个输出端分光比均是50％为佳。

在其中一个实施例中，如图3所示，透镜组件11包括第一抛物面镜PM1第二抛物面镜PM2、第一分光镜BS1、第二分光镜BS2、平面镜M1和透镜L1，太赫兹辐射器102辐射的太赫兹信号经第一抛物面镜PM1反射到第一分光镜BS1后，被第一分光镜BS1分束成两部分，一部分经平面镜M1反射、第二抛物面镜PM2聚焦至第一太赫兹探测器103；另一部分经透镜L1聚焦、待测样品13反射、透镜L1聚焦、第二分光镜BS2反射至第二太赫兹探测器104。

采用本实施例中的方案，进入第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104的光束都经过聚焦过程，可以增加信号强度，提升检测的准确性。需要说明的是，透镜组件11的结构组成不限于此。

为了便于理解本发明的方案，以下结合图4和图5对本发明的工作原理进行说明。

图4中，第一激光源G1和第二激光源G2用于产生频率接近的红外激光光束，分别与第一耦合器FC1和第二耦合器FC2光纤连接和分束，大部分入射功率的激光光束被分路至光学混频器X1形成激光拍频，极少入射功率(1％左右)的激光光束被分路至第一稳频器W1和第二稳频器W2，第一稳频器W1和第二稳频器W2对入射激光的频率(f₁和f₂)进行调控，从而调控激光拍频的外部频率。

光学混频器X1用于将第一激光源G1和第二激光源G2产生的两路激光光束混频或叠加，使两路频率稍微不同的激光成分(例如频率分别为f₁和f₂)之间相互发生差频振荡效应，以产生激光拍频，此激光拍频的外部频率是入射激光频率之差(即f₁-f₂)，此外部频率直接决定后续产生的太赫兹辐射的频率。

一路激光拍频照射太赫兹辐射器102内的光电导体(如GaAs)，产生了电子-空穴对，载流子在偏压信号发生器121的电场作用下发生定向移动，形成调制光电流，用天线结构将这种受拍频调制的光电流进行输出，从而产生太赫兹辐射信号，即上述太赫兹信号，发射至自由空间内设置的调光透镜组件11中。值得注意的是，非线性晶体也可替代光学混频器X1和太赫兹辐射器102提取激光拍频并产生太赫兹辐射。

另一路激光拍频通过第三耦合器FC3分别分束至第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器103中；激光拍频进入第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器103后，照射第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器103中的光电导体，形成电子-空穴对，返回的太赫兹辐射形成了外加在此光电导体上的电场，促使载流子的定向移动，形成光电流，该光电流可在随后的信号分析组件12内进行信号的采集和处理。

这里，第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器10的结构及探测原理完全相同，但用途不同，第一太赫兹探测器103用于接收直接从太赫兹辐射器102发射的太赫兹信号，得到一个参考电信号；第二太赫兹探测器103用于接收从待测样品反射回来的太赫兹辐射，将其转化为电信号，并与参考电信号进行比较，从而实时地分析待测样品内的水分含量。

太赫兹辐射器102辐射的太赫兹信号，由第一抛物面镜PM1收集并获得一平行光，经第一分光镜BS1分束，一路经平面镜M1反射、第二抛物面镜PM2聚焦至第一太赫兹探测器103，获得一个参考光电流；另一路经透镜L1聚焦、待测样品13反射、透镜L1汇聚、第二分光镜BS2反射至第二太赫兹探测器104，获得一路样品光电流；这两个光电流经过后端的信号分析组件12的放大和采集，得到的两个电信号将进行比较，以分析样品内水分含量。

在其中一个实施例中，如图5所示，信号分析组件12还可以包括电流电压放大器123和锁相放大器124，电流电压放大器123分别连接第一太赫兹探测器103和第二太赫兹探测器104，电流电压放大器123还连接锁相放大器124，锁相放大器124分别连接偏压信号发生器121和信号处理装置122。

其中，电流电压放大器123用于将微弱的光电流(如上的参考光电流的样品光电流)转换成电信号(参考电信号和样品电信号)并将电信号进行一定强度低噪声放大；锁相放大器124抑制无用噪声，改善检测信噪比，同时对信号进行一定程度的放大；偏压信号发生器121为锁相放大器124提供参考信号；信号处理装置122能够对参考电信号和样品电信号进行采集、预处理，获取参考光谱和样品光谱，根据光谱数据内水吸收峰的强度变化，获得所测样品的水分含量。

在具体实现时上述的水分仪系统组件10中的各器件之间一般是通过光纤连接，信号分析组件12中的各器件之间一般是电连接。本发明的水分含量检测系统可以应用于工业生产中皮带流水线上，具有较高的应用价值。

实施例二

根据上述实施例一的水分含量检测系统，本发明还提供一种水分含量控制系统。如图6所示，本实施例二的水分含量监控系统包括微机21以及上述任意一个实施例的水分含量检测系统20，微机21与水分含量检测系统20的信号处理装置201连接，微机21还可以连接流水线控制设备22。

信号处理装置201用于将检测到的待测样品的含水量值反馈给所述微机；

微机21用于将所述含水量值与预设的水分含量门限值进行比较，获得比较结果，根据所述比较结果判断所述待测样品是否需要进一步进行脱水操作，获得判断结果，根据所述判断结果生成指令并发送给流水线控制设备；

流水线控制设备22用于根据所述指令控制对应的流水线的运行方向。

以下结合附图7以将本发明的水分含量控制系统应用于工业生产中的皮带流水线上为例进行说明。该皮带流水线常用于工农产品的工业生产，包括流水线控制设备22(例如，传送带控制系统)、传送带23及传送带23上的未知水分含量的待测半成品25(相当于上述的待测样品)。水分含量检测系统20对待测半成品25进行水分含量的检测，并将获得的半成品的含水量值反馈到微机21中，由微机21对接收到的含水量值与预设的水分含量门限值进行比较，获得比较结果，根据所述比较结果判断待测半成品25是否需要进一步进行脱水操作，获得判断结果，根据所述判断结果生成指令并发送给流水线控制设备22以控制传送带的运行方向。

这里，水分含量门限值可以根据符合产品要求的水分含量进行设定。

其中，水分含量检测系统20可固定于扫描轴上，沿某一条线或在某一个面积内对待测半成品25的水分含量进行评估，以更好的评测产品的平均水分含量是否符合产品要求的水分含量。

实施例三

根据上述实施例一的水分含量检测系统，本发明还提供一种水分含量监控系统。如图8所示，本实施例三的水分含量监控系统包括数据存储服务器31以及如上任意一个实施例中所述的水分含量检测系统，数据存储服务器31与水分含量检测系统30的信号处理装置301连接。这里，数据存储服务器31可以是云储存器。信号处理装置301将各个时刻监测到的含水量值实时地上传到数据存储服务器31，存储服务器31可以基于接收到的各含水量值生成实时水分含量变化曲线。

采用本实施例的方案，流水线的管理者可通过各种终端程序，如电脑软件、手机应用等，通过查看生产过程中的实时水分含量变化曲线，了解流水线设备的控制行为，以达到对流水线的监控的目的，数据存储服务器31也可以线下储存数据，并进行数据分析，从而方便流水线的管理者根据数据分析结果对生产制造工艺进行调整，实现生产效益最大化。

需要说明的是，当一个元件被称为“连接”另一个元件，根据需要，它可以是直接连接到另一个元件或者间接连接至该另一个元件上。术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或者暗示相对重要性。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。