技术总结
本实用新型涉及一种高温薄膜压力敏感元件，包括一个金属材料制的罩筒形耐高温弹性体，在耐高温弹性体的表面自下而上依次设置有介质薄膜、压敏薄膜和保护膜，其中，介质薄膜是由多层SiO2膜和多层Al2O3叠加构成的总厚度为1.0～1.2微米的薄膜，压敏薄膜为通过离子束溅射沉积及光刻工艺制成的厚度为100～200纳米的NiCr合金平面电阻膜，在压敏薄膜上复制有惠斯通电桥，保护膜为通过反应离子束溅射沉积工艺制成的厚度为100～200纳米的Si3N4材料膜。本实用新型的结构科学合理、精度高、长期稳定性好、动态频响高、可在极限500℃高温下进行长时间的准确的可靠的压力测量及监控。
技术研发人员：戚龙;高波;郑致远;潘婷
受保护的技术使用者：陕西电器研究所
文档号码：201621384108
技术研发日：2016.12.16
技术公布日：2017.07.28