本实用新型涉及磨抛设备，尤其涉及一种用于样品磨抛的试验装置。
背景技术：
机械研磨抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，采用磨具，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。常用的样品磨抛试验装置其样品在干磨工艺中产生大量粉尘，会对试验环境造成污染，并且对磨抛质量造成不利影响，因此，有必要对这种样品磨抛试验装置进行结构优化，以克服上述缺陷。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种用于样品磨抛的试验装置，以将磨抛形成的粉尘隔离，改善试验环境。
本实用新型为解决其技术问题所采用的技术方案是，
一种用于样品磨抛的试验装置，包括磨抛机构、样品定位机构以及遮挡机构，样品定位机构及遮挡机构位于磨抛机构上方，其中：
遮挡机构包括固定盖板与移动盖板，固定盖板中具有滑孔，磨抛机构中部具有定位轴，定位轴伸入滑孔中，定位轴与滑孔为间隙配合，使定位轴可在滑孔中转动，定位轴侧壁具有限位环，使固定盖板与磨抛机构之间保持一定间距，移动盖板边缘具有悬杆，悬杆与磨抛机构表面相互平行，使移动盖板与磨抛机构之间保持一定间距，悬杆向外侧伸出，其末端与支杆相接，固定盖板与移动盖板之间具有可限制样品位置的卡口；支杆中具有连接孔，悬杆具有连接端头，连接端头伸入连接孔内，连接端头与连接孔之间具有相互配合的螺纹，使悬杆可在支杆上调节位置；
磨抛机构包括磨盘，磨盘中部具有转动轴，转动轴向下方伸出，并与驱动电机的动力输出轴相连，由驱动电机带动磨盘转动；
样品定位机构包括立柱，立柱向上方伸出，其顶端设有横杆，横杆伸向磨抛机构上方，并与立柱相互垂直，横杆末端设有顶压杆，顶压杆向下方伸出，并与横杆相互垂直，顶压杆末端与磨抛机构之间具有可放置样品的间隙，由顶压杆将样品紧贴于磨抛机构表面；横杆中具有定位螺孔，顶压杆顶端具有螺纹段，螺纹段伸入定位螺孔内，使顶压杆可在横杆上调节位置。
本实用新型的优点在于，该装置形成了相对封闭的样品磨抛系统，样品干磨过程中形成的粉尘被隔离至盖板下方，有效地改善实验室环境，同时通过更换不同的样品夹具，可满足不同类型样品的夹持需求，并可通过螺杆调节样品与磨盘之间的压力大小，提高样品磨抛效率，更加高效的完成样品制备。
附图说明
图1是本实用新型提出的用于样品磨抛的试验装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合图示与具体实施例，进一步阐述本实用新型。
如图1所示，本实用新型提出的用于样品磨抛的试验装置包括磨抛机构、样品定位机构以及遮挡机构，样品定位机构及遮挡机构位于磨抛机构上方，遮挡机构包括固定盖板1与移动盖板2，固定盖板中具有滑孔，磨抛机构中部具有定位轴3，定位轴伸入滑孔中，定位轴与滑孔为间隙配合，使定位轴可在滑孔中转动，定位轴侧壁具有限位环，使固定盖板与磨抛机构之间保持一定间距，移动盖板边缘具有悬杆4，悬杆与磨抛机构表面相互平行，使移动盖板与磨抛机构之间保持一定间距，悬杆向外侧伸出，其末端与支杆5相接，固定盖板与移动盖板之间具有可限制样品位置的卡口；支杆中具有连接孔，悬杆具有连接端头，连接端头伸入连接孔内，连接端头与连接孔之间具有相互配合的螺纹，使悬杆可在支杆上调节位置；磨抛机构包括磨盘6，磨盘中部具有转动轴，转动轴向下方伸出，并与驱动电机的动力输出轴相连，由驱动电机带动磨盘转动；样品定位机构包括立柱7，立柱向上方伸出，其顶端设有横杆8，横杆伸向磨抛机构上方，并与立柱相互垂直，横杆末端设有顶压杆9，顶压杆向下方伸出，并与横杆相互垂直，顶压杆末端与磨抛机构之间具有可放置样品的间隙，由顶压杆将样品紧贴于磨抛机构表面；横杆中具有定位螺孔，顶压杆顶端具有螺纹段，螺纹段伸入定位螺孔内，使顶压杆可在横杆上调节位置。样品干磨过程中形成的粉尘被隔离至盖板下方，有效地改善实验室环境，同时通过更换不同的样品夹具，可满足不同类型样品的夹持需求，并可通过螺杆调节样品与磨盘之间的压力大小，提高样品磨抛效率，更加高效的完成样品制备。
以上实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让本领域的技术人员了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。