技术总结
本发明公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法，该装置包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机，参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块，多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列；参考点编码带包括多组参考点组，每组参考点组包括两个参考点编码区，每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块，多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列，两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列，多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列，第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本发明避免了光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰，提高了参考点绝对位置判断的可靠性。
技术研发人员：李星辉;周倩;肖翔;倪凯;王欢欢;冒新宇;曾理江;苏晓;王晓浩
受保护的技术使用者：清华大学深圳研究生院
技术研发日：2018.01.24
技术公布日：2018.06.12