基板检测装置和基板检测方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种基板检测装置和一种基板检测方法。
【背景技术】
[0002]目前，一般通过全数检查机检查彩膜基板(CF)上的微观黑缺陷和白缺陷，并监控各型号产品的不良趋势。而黑矩阵是彩膜工序的首要工序，如图1所示，其线宽的主要作用为:
[0003]①作为光线不可通过领域，起到区分RGB (红绿蓝)区域的作用；
[0004]②产品设计时，需考虑黑矩阵区域宽幅(线宽)大小对色度的影响，线宽小可能出现RGB相互覆盖或漏光等不良现象，线宽大可能导致对比度及色度的改变。
[0005]所以黑矩阵的线宽在彩膜制程中的检测是一道十分重要的工序。而目前全数检查机对于黑矩阵的线宽的测量，只能通过Review镜头划线测量，而测量的条件需要传输彩膜基板的设备停下来进行量测，测量时间较长，无法实现对每张彩膜基板中的黑矩阵的线宽进行检测，而且停下设备进行检测会造成黑矩阵线别节拍时间延长，而影响整个彩膜基板生产线的产能。而如果通过全数抽检来检测黑矩阵的线宽，检测周期很长，难以实现实时监控，造成良率损失风险较大。
【发明内容】
[0006]本发明所要解决的技术问题是，如何对基板中的黑矩阵的线宽进行连续检测，无需停止传输黑矩阵的设备，并且能够提高检测的精度和反馈速度。
[0007]为此目的，本发明提出了一种基板检测装置，包括:计算单元以及对应设置的激光发射单元和激光接收单元，其中，
[0008]所述激光发射单元设置于传输设备的一侧，在所述传输设备上的每个待测基板运动至检测位置时，向所述待测基板发出激光；
[0009]所述激光接收单元设置于所述传输设备的另一侧，用于接收穿过所述待测基板的激光；
[0010]所述计算单元用于根据所述激光发射单元发出的激光的强度，和所述激光接收单元接收的激光的强度，计算激光对于所述待测基板的透过率，根据所述透过率判断所述待测基板中黑矩阵的线宽是否处于预设线宽范围内。
[0011 ] 优选地，所述计算单元还用于，判断所述透过率是否处于预设透过率范围内，若未处于所述预设透过率范围内，则判定所述待测基板中黑矩阵的线宽未处于预设线宽范围内，若处于所述预设透过率范围内，则判定所述待测基板中黑矩阵的线宽处于预设线宽范围内。
[0012]优选地，所述计算单元还用于，将所述透过率换算为所述待测基板中黑矩阵的线宽，并判断所述黑矩阵的线宽是否处于所述预设线宽范围内。
[0013]优选地，所述黑矩阵的线宽=A*(_log透过率)+B，其中，A和B为常数。
[0014]优选地，还包括:
[0015]设置单元，用于根据接收到的指令设置所述常数A、常数B和/或所述预设线宽范围。
[0016]优选地，还包括:
[0017]提示单元，在所述计算单元判断所述待测基板中黑矩阵的线宽未处于所述预设线宽范围内时，发出提示信息。
[0018]优选地，还包括:
[0019]控制单元，用于根据所述待测基板的曝光区域控制所述激光发射单元和激光接收单元运动，以及控制所述激光发射单元发出激光的位置。
[0020]优选地，在所述待测基板包括多个曝光区域时，所述控制单元控制所述激光发射单元和激光接收单元垂直于所述传输设备运动的方向往返运动，并控制所述激光发射单元在运动到所述待测基板每个曝光区域中的预设位置时发出激光，
[0021]所述计算单元计算所述每个曝光区域的透过率，并根据所述多个曝光区域的透过率计算所述待测基板的透过率。
[0022]优选地，在所述待测基板包括四个曝光区域时，所述控制单元控制所述激光发射单元和激光接收单元运动到所述待测基板中任意三个曝光区域，并控制所述激光发射单元在运动到所述任意三个曝光区域中每个曝光区域中的预设位置时发出激光，
[0023]所述计算单元计算所述每个曝光区域的透过率，并根据所述任意三个曝光区域的透过率计算所述待测基板的透过率。
[0024]本发明还提出了一种基板检测方法，包括:
[0025]在待测基板一侧向所述待测基板发出激光；
[0026]在所述待测基板的另一侧接收穿过所述待测基板的激光；
[0027]根据发出的激光和接收的激光计算所述待测基板的透过率，根据所述透过率判断所述待测基板中黑矩阵的线宽是否处于预设线宽范围内。
[0028]根据上述技术方案，在传输设备两侧设置激光发射单元和激光接收单元，可以通过激光照射基板来计算激光对基板的透过率，从而根据透过率计算基板中黑矩阵的线宽，进而判断黑矩阵的线宽是否满足要求，无需停止传输设备即可对检测传输设备上每个待测基板的黑矩阵的线宽进行检测，并且根据透过率可以准确且快速地计算黑矩阵的线宽。
【附图说明】
[0029]通过参考附图会更加清楚的理解本发明的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本发明进行任何限制，在附图中:
[0030]图1示出了现有技术中彩膜基板中黑矩阵的示意图；
[0031]图2示出了根据本发明一个实施例的基板检测装置的示意框图；
[0032]图3示出了根据本发明一个实施例的基板检测装置的侧视结构示意图；
[0033]图4示出了根据本发明一个实施例的基板检测装置的俯视结构示意图；
[0034]图5示出了根据本发明一个实施例的激光照射在黑矩阵上的示意图；
[0035]图6示出了根据本发明一个实施例的检测多个曝光区域的示意图；
[0036]图7示出了根据本发明一个实施例的检测四个曝光区域的示意图；
[0037]图8示出了根据本发明一个实施例的基板检测方法的示意流程图。
[0038]附图标号说明:
[0039]1-激光发射单元；2_激光接收单元；3_计算单元；10_发出的激光；11_接收的激光；20传输设备；21_待测基板；30_黑矩阵；31_黑矩阵的线宽。
【具体实施方式】
[0040]了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0041]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
[0042]如图2所示，根据本发明一个实施例的基板检测装置100，包括:计算单元3以及对应设置的激光发射单元I和激光接收单元2，其中，
[0043]激光发射单元I设置于传输设备20 (传输设备20可以是透明的)的一侧，在传输设备20上的每个待测基板21运动至检测位置(例如待测基板21上的特定位置运动至激光发射单元I的正下方)时，向待测基板21发出激光；
[0044]激光接收单元2设置于传输设备20的另一侧，用于接收穿过待测基板21的激光；
[0045]如图3和图4所示，激光发射单元I可以设置于传输设备20的上方，激光接收单元2可以设置于传输设备下方，其中的计算单元3可以分别连接至激光发射单元I和激光接收单元2，
[0046]计算单元3用于根据激光发射单元I发出的激光10的强度，和激光接收单元2接收的激光12的强度，计算激光对于待测基板的透过率，根据透过率判断待测基板21中黑矩阵的线宽31是否处于预设线宽范围内。
[0047]如图5所示，一块待测基板21 (例如彩膜基板)中，黑矩阵的线宽大体相等，发出的激光10照射在待测基板21上时，黑矩阵30会对发出的激光10造成遮挡。在传输设备20上不同的待测基板21，每个待测基板21上特定位置的黑矩阵30结构一般相同，仅在黑矩阵的线宽31上存在差异，黑矩阵的线宽31越大，则黑矩阵30越宽，对发出的激光10遮挡越多，待测基板21的透过率就越低，也即待测基板21的透过率与其透过率存在关联关系，因此根据待测基板21的透过率即可计算得到其黑矩阵的线宽31。
[0048]传输设备20带动待测基板21运动，每运动到激光发射单元I的下方时，都可以通过激光照射来计算待测基板21的透过率，进而根据透过率计算每个待测基板21的黑矩阵的线宽31，然后将计算得到的黑矩阵的线宽31与预设线宽范围内进行比较，即可判定待测基板21的黑矩阵的线宽31是否满足要求。其中，预设线宽范围可以是用户通过对标准基板的特定位置(即与待测基板21相同的检测位置)进行检测得到的。
[0049]测量过程无需停止传输设备20，提高了传输设备20的传输效率；并且可以随着传输设备20的运动对其上的每个待测基板21都进行检测，保证了待测基板21的良率；而且透过率与黑矩阵的线宽31存在严格的对应关系，可以根据透过率准确地计算得到黑矩阵的线宽31，从而准确地判断待测基板21是否满足要求。
[0050]优选地，计算单元3还用于，判断透过率是否处于预设透过率范围内，若未处于预设透过率范围内，则判定待测基板21中黑矩阵的线宽31未处于预设线宽范围内，若处于预设透过率范围内，则判定待测基板21中黑矩阵的线宽31处于预设线宽范围内。
[0051]计算单元3可以直接通过判断待测基板21的透过率是否处于预设透过率范围内来判断待测基板21中黑矩阵的线宽31是否