μ子检测器阵列站的制作方法_3

文档序号:9635047阅读:来源:国知局
至少包括μ子检测器150的阵列,譬如针对站100的那些描述那样。
[0037]仓库检测站300被配置为使得上部检测单元110被布置在下部检测单元120上方且相对于下部检测单元120在固定位置中,其中在上部和下部检测单元110和120的相对布置之间的区域形成检测区域。检测区域可以配置为空间尺寸设置为容纳可包括20英尺、40英尺、45英尺、48英尺和53英尺长和8英尺宽的货柜(例如被卡车牵引的那些)。在一些实施方式中,站300可包括一个或多个轨,以引导货柜在检测区域中的定位。例如,一个或多个轨可以配置为沿着仓库检测站300的地板的油漆线。
[0038]在一些示例性实施例中,仓库检测站300可以结合到现有的或新型的仓库中。在一些实施例中,下部检测单元120可以安装在与地面对齐的平面下方的水平处(例如仓库地板的下方),使得目标货柜可以直接运动到检测区域中下部检测单元120的上方(以及上部检测单元110的下方),而不需要知道这一点。例如,站300可以配置在仓库或其它存储设施中,使得它相对于要被检测的空中交通工具或其它目标的操作者是隐藏的。
[0039]图3Β显示了用于仓库或其它存储设施的μ子断层摄影术材料检测站300的另一实施例,其使用较小的检测单元110、120,其与图3Α中所示的覆盖仓库区域的全部或较大区段的示例性检测单元相比,不那么昂贵。例如,如图3Β中所示,为了扫描所有货柜,上部和下部检测单元110和120为可运动检测单元,其可以机动化以在分别沿着上部轨道115和下部轨道125之间的协作路径运动,以成功地定位不同货柜在检测单元之间。在该实例中,上部和下部检测单元110和120可以使用动作机构136来运动,该动作机构136接合到安装在站300Β的仓库结构上的电机135。动作机构136可以,例如为由电机135操作的缆线或链条,以沿轨道115、125在不同位置处一起运动检测单元110和120。上部和下部检测单元110和120被动作机构136经由电机135运动,使得在下部检测单元110和上部检测单元120之间的相对位置是基本固定和对齐的,且在运动中保持不变。例如,动作机构136和/或电机135可以配置在站300Β的房屋结构的顶棚区和地板区域中,且由信号处理单元来控制,例如通过有线或无线通讯装置。
[0040]在图3Β中所示的示例性实施例中,上部和下部检测单元110和120可以横跨站300Β的房屋结构的一个尺度。由此,上部和下部检测单元110和120可以被动作机构136跨站300Β的垂直尺度运动,使得上部和下部检测单元110和120可以分别运动到顶棚区域和地板区域的区域中的任何位置。上部和下部检测单元110和120的这样的运动使得μ子检测器(在上部和下部检测单元110和120的μ子检测器150的阵列中)能够执行在站300Β中的整个空间上的相继扫描。例如,一旦检测器已经抵达轨道的端部,它们可以沿相反方向运动,以重复扫描或停止直到新的货柜被带入仓库。
[0041]在一个示例性实施例中,譬如如图3C所示,用于仓库或其他存储设施的μ子断层摄影材料检测站300C可以包括多个位置对齐的上部和下部检测单元110和120,其可以配置在相应的上部和下部轨道115和125上,且能够由相应的动作机构136运动。在该实例中,对齐的上部和下部检测单元110和120每个可沿由站300C中的相应动作机构136和相应轨道115和125的配置确定的方向运动。例如,站300C中的相应轨道115和125和动作机构136中的每个可促动相应的位置对齐上部和下部检测单元110和120分别到顶棚和地板的自身局部区域内的任何位置的运动,独立于另一个可运动上部和下部检测单元。例如,可运动上部和下部检测单元的局部区域可以配置为覆盖站300C的全部体积,使得上部和下部检测单元110和120可以执行站300C内存储的货柜或其他材料的相继扫描。
[0042]在一些实施例中,μ子检测器(在上部和下部检测单元110和120的μ子检测器150的阵列中)对于每次测量是静止的。例如,位置对齐的可运动上部和下部检测单元可以沿轨道115和125运动到多个检测位置且停止在检测位置处以执行测量,例如测量μ子轨迹的位移和角度变化,其中μ子可以基于货柜或其它目标物体中的材料而被不同地散射。在一些实施方式中,在货柜或其他目标物体的测量被执行之前、同时和/或之后,校准测量可以被执行。例如,一个或多个基准标记可以放置在沿位置对齐的可运动上部和下部检测单元的行进路径的已知位置处,以提供校准数据,其可以被用于识别在货柜或其他目标物体的分析数据中的假阳性或假阴性。在一些实例中,基准标记可以被配置为定位在仓库或其它存储设施的地板上或下方或顶棚上或上方的钢块。此外,例如,一个或多个位置传感器可以安置在上部和下部检测单元110和120上,以监控检测器的对齐和它们的相对位置。在一些实例中,位置传感器可以包括光学传感器,加速度计或速率传感器,其可以检测上部和下部检测单元110和120之间的对齐中的改变。
[0043]在其它示例性实施例中,测量可以在检测器继续运动期间进行。例如,检测单元110和120相对于仓库或目标物体的相对运动可以被确定且由信号处理单元在将测量数据处理为分析数据时考虑。
[0044]使用动作机构136和电机135的组合的上述实例可以被使用可运动电机更换,该可运动电机将检测单元接合到轨道115和125,而没有缆线或链条136,使得可运动电机与检测单元一起上轨道115和125上运动。
[0045]在一些实施方式中,示例性运动机构136和/或电机135与轨道115和125也可以被包括在用于车辆的示例性μ子断层摄影材料检测站loo和用于飞行器的站200中。
[0046]上述实例示出了 μ子检测器阵列站的具体实例。通常,定位在检测区域空间的相对侧上的一对检测单元可以被使用来测量空间中的物体,例如在目标物体上方和下方,或沿着物体与重力基本平行的相对侧部上。此外,作为实例,尽管在上述例子中被测量的物体被示出为静止的,目标物体的测量也可以使用本公开技术在目标物体在检测器单元之间的空间内运动的同时被执行。
[0047]实例
[0048]下列实例示出了本技术的几个实施例。本技术的一个示例性实施例可在下列实例之前或之后被呈现。
[0049]在本技术的一个实例中(实例1),一种用于μ子断层摄影检测的系统,具有可运动μ子检测传感器,所述系统包括:第一壳体结构,包括一个或多个μ子检测传感器的第一阵列,第一壳体结构沿与检测区域相邻的第一侧定位,所述检测区域具有容纳目标物体的空间,其中第一阵列的一个或多个μ子检测传感器测量穿过第一阵列到检测区域的μ子的位置和方向;第二壳体结构,包括一个或多个μ子检测传感器的第二阵列,第二壳体结构沿与检测区域相邻且与第一侧相对的第二侧定位,且在相对第一壳体结构的固定高度处,其中第二阵列的一个或多个μ子检测传感器测量从检测区域行进穿过第二阵列的μ子的位置和方向;一个或多个支撑结构,以定位第一壳体结构在固定高度处;动作机构,接合到一个或多个μ子检测传感器的第一和第二阵列,以将一个或多个μ子检测传感器的第一和第二阵列在保持相对彼此的相对位置的同时运动在不同位置处;以及处理单元,从一个或多个μ子检测传感器的第一和第二阵列接收测得的位置和方向,且处理单元配置为分析由在检测区域中μ子在目标物体的材料中的散射导致的μ子的散射行为,以获得在检测区域中的散射中心的断层摄影图像或空间分布。
[0050]包括实例1的系统的实例2,其中目标物体包括机动车、火车、空中交通工具、海上交通工具、或能够被机动车、火车、空中交通工具、海上交通工具输送的货柜中的一种。
[0051]包括实例1的系统的实例3,还包括配置在检测区域中的一个或多个引导结构,以使得目标物体在检测区域中沿特定取向对齐或与特定位置对齐。
[0052]包括实例1的系统的实例4,其中所述系统在飞行器机库中实施。
[0053]包括实例4的系统的实例5,其中第一壳体结构被配置在飞行器机库的顶棚或天花板上方。
[0054]包括实例4的系统的实例6,其中第二壳体结构被配置在飞行器机库的地板下方。
[0055]包括实例4的系统的实例7,其中第一壳体结构和第二壳体结构被配置在飞行器机库的壁中。
[0056]包括实例1的系统的实例8,其中所述系统在仓库中实施。
[0057]包括实例8的系统的实例9,其中第一壳体结构被配置在仓库的顶棚或天花板上方。
[0058]包括实例8的系统的实例10,其中第二壳体结构被配置在仓库的地板下方。
[0059]包括实例8的系统的实例11,其中第一壳体结构和第二壳体结构被配置在仓库的壁中。
[0060]包括实例8的系统的实例12,其中第一和第二阵列的μ子检测传感器分别定为在第一壳体结构和第二壳体结构中,以检测穿过存储在仓库中的货柜的μ子
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