一种样品测量装置加热结构的制作方法
【技术领域】
[〇〇〇1] 本实用新型涉及一种加热结构，尤其是应用于样品测量装置加热结构。
【背景技术】
[0002]在工业过程气体在线分析过程中，样品成分非常复杂，在温度较低情况下，样品易凝固，导致气体分析仪样品测量池光学元件及池体内壁被污染，从而增加了维护频率和维护成本。另外，在温度较低情况下，样品中的水分更加容易腐蚀气体分析仪样品测量池，从而可能导致气体分析仪系统崩溃。为了保障气体分析仪的使用效果，通常情况下，气体分析仪的样品测量池往往会设置加热装置，一般是通过加热板辐射方式加热，同时将带加热板的样品测量池放置在保温箱中，从而使得样品测量池中的样品保持一定温度。在此情况下，加热板将对样品测量池和整个保温箱空间同时加热，热量的传递方式主要靠加热板热量的辐射及内部对流，加热效率低，保温箱体内温度分布不均匀，造成仪器各部件受热不均及热量的严重浪费。此类加热方式既不能选择性地加热样品测量池的不同部位，也不能满足较高温度的加热需求，存在一定局限性。
【发明内容】
[0003]为了解决上述问题，本实用新型提供一种加热效率高的样品测量装置加热结构，有针对性地加热不同区域。
[0004]如图1和图2所示，本实用新型提出一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。
[0005]在优选地实施例中，所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分、样品测量池和加热装置，所述加热装置用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。
[0006]在优选地实施例中，所述子热源以接触传导的方式作用于各目标加热区域。
[0007]在优选地实施例中，所述加热装置外设置有保温箱。
[0008]在优选地实施例中，所述子热源材质可以是陶瓷、云母、铸铜、铸铁、铸铝、不锈钢、石英中的一种及其组合。
[0009]通过上述改进的技术方案，该实用新型有益的技术效果为，子热源以接触传导方式作用于样品测量池，提高了加热效率。同时，由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。
【附图说明】
[〇〇1〇] 附图1是本实用新型一种样品测量装置加热结构主视图。
[〇〇11] 附图2是图1 一种样品测量装置加热结构沿箭头所示方向的剖视图。
[0012]附图3为本实用新型一种样品测量装置实施例。
[0013]附图4为本实用新型一种样品测量装置实施例。
[0014]附图5为本实用新型一种样品测量装置实施例。
【具体实施方式】
[0015]以下将结合附图所示的【具体实施方式】对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。
[0016]如图1和图2所示，图1为本实用新型一种样品测量装置加热结构主视图，图2为图1 一种样品测量装置加热结构沿箭头所示方向的剖视图，在本实用新型【具体实施方式】中，包括三个子热源1，所述三个子热源1分散布置于样品测量池3的各目标加热区域2,各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。
[0017] 根据具体实施需要，部分子热源之间也可以共享同一温度控制模块。
[0018] 在本实施例中，所述的温度控制模块用于接受温度传感器的温度数据，根据预设的控制策略控制加热目标的温度。
[0019]如附图3所示，其为样品测量装置加热结构的一种实施例，所述样品测量装置为入射光5依次经过第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8后，由第二光学元件及其安装部分8产生出射光6,所述子热源1加热于第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8。
[0020]如附图4所示，其为样品测量装置加热结构的一种实施例，所述样品测量装置为入射光5依次经过第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8后，被第二光学元件及其安装部分8回返，并由第一光学元件及其安装部分7产生出射光6,所述子热源1加热于第一光学元件及其安装部分7、样品测量池3和第二光学元件及其安装部分8。
[0021]如附图5所示，其为样品测量装置加热结构的一种实施例，通过对所述第一光学元件及其安装部分7、第二光学元件及其安装部分8的口径、曲率等参数及两者之间的距离，使得入射光5经过第一光学元件及其安装部分7后，在样品测量池3中完成预定次数的多次来回反射，由一光学元件及其安装部分7产生出射光6,出射光6与入射光5非平行，并具有大于零度的夹角。
[0022] 在本实施例中，所述子热源1以接触传导的方式作用于第一光学元件及其安装部分7、第二光学元件及其安装部分8和样品测量池3。
[0023]为了对样品测量池3各目标加热区域2进行有针对性地加热，子热源1数量根据需要加热的目标区域而定。
[0024] 在本实施例中，加热装置外设置有保温箱4,减少热量损失。
[0025] 在本实施例中，子热源1材质可以是陶瓷、云母、铸铜、铸铁、铸铝、不锈钢、石英中的一种及其组合。
[0026] 在本实施例中，子热源加热方式包括电加热、磁加热、微波加热。
[0027] 在具体实施过程中，各子热源分散设置于于第一光学元件及其安装部分7、第二光学元件及其安装部分8和样品测量池3,并由相互独立的温度控制模块驱动。
[0028]通过上述改进的技术方案，该实用新型有益的技术效果为，子热源以接触传导方式作用于不同目标区域，提高了加热效率。同时，由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。
【主权项】
1.一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，其特征在于，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动； 所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分和样品测量池； 所述子热源用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。2.根据权利要求1所述的一种样品测量装置加热结构，其特征在于，所述子热源以接触传导的方式作用于各目标加热区域。3.根据权利要求1所述的一种样品测量装置加热结构，其特征在于，加热结构外设置有保温箱。4.根据权利要求1-3任一所述的一种样品测量装置加热结构，其特征在于，所述子热源材质可以是陶瓷、云母、铸铜、铸铁、铸铝、不锈钢、石英中的一种及其组合。
【专利摘要】本实用新型提供的一种样品测量装置加热结构，包括至少一个子热源，其特征在于，所述子热源分散布置于各目标加热区域，各子热源由相互独立的温度控制模块驱动。所述样品测量装置为多次反射光谱测量装置，包括光学元件及其安装部分、样品测量池和加热装置，所述加热装置用于加热光学元件及其安装部分和样品测量池。由于子热源分别加热于样品测量池不同目标区域，且子热源由相互独立的温度控制模块驱动，使得可以选择性地加热样品测量池的不同区域，使加热装置加热均匀，可以有效达成温控目标，同时还具有加热效率高、功耗低、可靠性高的特点。
【IPC分类】G01N21/25
【公开号】CN205003073
【申请号】CN201520387741
【发明人】邓文平, 朱道龙
【申请人】苏州谱道光电科技有限公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年6月8日