用于分析涂料添加剂性能的设备和方法_5

文档序号:9457725阅读:来源:国知局
趣对象的所述量化进行指示的信号。2.根据权利要求1所述的产品测试装置,还包括: 被配置为对要成像的所述样本进行照射的光源。3.根据权利要求2所述的产品测试装置,其中,所述光源被放置为提供要成像的所述样本的背光照明或者提供要成像的所述样本的侧光照明。4.根据权利要求1到3中任一项所述的产品测试装置,其中,对所述一个或多个图像进行处理还包括:将所述一个或多个图像转换成一个或多个二值图像。5.根据权利要求1到4中任一项所述的产品测试装置,其中,所述一个或多个感兴趣对象是包括泡沫的气泡。6.根据权利要求5所述的产品测试装置,其中,所述一个或多个感兴趣对象还包括:在所述基底涂层中包括沙粒、灰尘和缺陷的一个或多个其它对象。7.根据权利要求1到6中任一项所述的产品测试装置,其中,当所述处理器可执行指令由所述处理器执行时,使得所述处理器通过对像素组与来自包括以下各项的组中的特征进行比较,来识别所述基底涂层中的所述一个或多个感兴趣对象:圆、圆弧、气泡群形成、半径、椭圆和圆形元素。8.根据权利要求1到7中任一项所述的产品测试装置,其中,对所述一个或多个感兴趣对象进行量化被进一步规定成对以下各项中的至少一项进行量化:每一预定区域的对象的数量、所述对象的尺寸分布、累积频率曲线的群体、以及对象直径和计数的减少的动力学。9.一个或多个非暂时性处理器可读介质,所述一个或多个非暂时性处理器可读介质存储处理器可执行指令,当所述处理器可执行指令由一个或多个处理器执行时,使得所述一个或多个处理器执行以下各项操作: 接收一个或多个图像,所述一个或多个图像指示应用于基底的基底涂层的样本;在所述基底涂层中的一个或多个感兴趣对象与所述一个或多个图像中的其它对象之间进行区分; 对所述一个或多个图像中的所述一个或多个感兴趣对象进行量化;以及 生成对所述一个或多个图像中的所述一个或多个感兴趣对象的量化进行指示的信号。10.根据权利要求9所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,所述一个或多个处理器可执行指令还使得所述处理器对所述一个或多个图像进行滤波以校正不均匀照明,并生成一个或多个经滤波的图像。11.根据权利要求10所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,所述处理器可执行指令还使得所述一个或多个处理器将所述一个或多个经滤波的图像变换成一个或多个二值图像。12.根据权利要求9到11中任一项所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,所述一个或多个感兴趣对象是一个或多个气泡,并且其中,对所述一个或多个图像进行滤波包括:改变所述一个或多个图像中的像素的一个或多个颜色值,以增加对包括泡沫的所述一个或多个气泡进行指示的对比度。13.根据权利要求12所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,对所述一个或多个图像进行滤波包括:向所述一个或多个图像的像素应用带通滤波器。14.根据权利要求9到13中任一项所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,在一个或多个感兴趣对象和其它对象之间进行区分包括:分析所述一个或多个图像以便在包括泡沫的所述一个或多个气泡和所述其它对象之间进行区分,并且其中,所述一个或多个气泡是所述一个或多个感兴趣对象。15.根据权利要求14所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,当所述处理器可执行指令由所述一个或多个处理器执行时,使得所述一个或多个处理器通过对像素组与来自包括以下各项的组中的特征进行比较,来识别所述基底涂层中的所述一个或多个感兴趣对象:圆、圆弧、气泡群形成、半径、椭圆、圆形元素、以及描述非圆形对象的形状描述符。16.根据权利要求9到15中任一项所述的一个或多个非暂时性处理器可读介质,其中,对所述一个或多个感兴趣对象进行量化被进一步规定成对以下各项中的至少一项进行量化:每一预定区域的对象的数量、所述对象的尺寸分布、累积频率曲线的群体、以及对象直径和计数的减少的动力学。17.—种产品测试装置,包括: 一个或多个成像器,所述一个或多个成像器被配置为捕捉样本的一个或多个图像,其中所述样本具有应用于基底的基底涂层; 与所述一个或多个成像器通信的处理器;以及 与所述处理器通信的非暂时性处理器可读介质,所述非暂时性处理器可读介质存储处理器可执行指令,当所述处理器可执行指令被执行时,使得所述处理器执行以下各项操作: 从所述一个或多个成像器接收所述基底涂层的所述一个或多个图像; 通过对所述一个或多个图像的像素中的照明变化进行滤波来对所述一个或多个图像进行处理,以识别所述基底涂层的所述一个或多个图像中的一个或多个感兴趣对象; 对所述一个或多个感兴趣对象进行量化;以及 生成对所述一个或多个感兴趣对象的所述量化进行指示的一个或多个信号。18.根据权利要求17所述的产品测试装置,还包括: 被配置为对要成像的所述样本进行照射的光源。19.根据权利要求18所述的产品测试装置,其中,所述光源被放置为提供要成像的所述样本的背光照明或者提供要成像的所述样本的侧光照明。20.根据权利要求17到19中任一项所述的产品测试装置,其中,对所述一个或多个图像进行处理还包括:将所述一个或多个图像转换成一个或多个二值图像。21.根据权利要求17到20中任一项所述的产品测试装置,其中,所述一个或多个感兴趣对象是包括泡沫的气泡。22.根据权利要求17到21中任一项所述的产品测试装置,其中,当所述处理器可执行指令由所述处理器执行时,使得所述处理器通过对像素组与来自包括以下各项的组中的特征进行比较,来识别所述基底涂层中的一个或多个感兴趣对象:圆、圆弧、气泡群形成、半径、椭圆和圆形元素。23.根据权利要求17到22中任一项所述的产品测试装置,其中,对所述一个或多个感兴趣对象进行量化被进一步规定成对以下各项中的至少一项进行量化:每一预定区域的对象的数量、所述对象的尺寸分布、累积频率曲线的群体、以及对象直径和计数的减少的动力学。24.—种方法,包括: 由数据处理系统对样本的图像进行分析,其中所述样本具有应用于基底的基底涂层,所述数据处理系统具有处理器、一个或多个非暂时性处理器可读介质和处理器可执行指令,所述处理器可执行指令被配置为对所述图像进行处理,并对所述基底涂层中的一个或多个感兴趣对象进行量化: 通过对所述图像的像素中的照明变化进行滤波来对所述图像进行处理,以识别所述基底涂层的所述图像中的所述一个或多个感兴趣对象; 对所述一个或多个感兴趣对象进行量化;以及 生成对所述一个或多个感兴趣对象的所述量化进行指示的一个或多个信号。25.根据权利要求24所述的方法,其中,所述基底涂层是固化/未固化的基底涂层。26.根据权利要求24到25中任一项所述的方法,其中,对所述图像进行处理还包括:将所述图像转换成二值图像。27.根据权利要求24到26中任一项所述的方法,其中,所述一个或多个感兴趣对象是包括泡沫的气泡。28.根据权利要求24到27中任一项所述的方法,其中,通过对像素组与来自包括以下各项的组中的特征进行比较,来识别所述基底涂层中的所述一个或多个感兴趣对象:圆、圆弧、气泡群形成、半径、椭圆和圆形元素。29.根据权利要求24到28中任一项所述的方法,其中,对所述一个或多个感兴趣对象进行量化被进一步规定成对以下各项中的至少一项进行量化:每一预定区域的对象的数量、所述对象的尺寸分布、累积频率曲线的群体、以及对象直径和计数的减少的动力学。
【专利摘要】一种产品测试装置被描述成具有被配置为捕捉样本的一个或多个图像的一个或多个成像器、与该一个或多个成像器通信的处理器以及与该处理器通信的非暂时性处理器可读介质,其中该样本具有应用于基底的基底涂层。该非暂时性处理器可读介质存储有处理器可执行指令,当这些指令被执行时,使得处理器从该一个或多个成像器接收该一个或多个图像。随后,处理器通过对图像的像素中的照明变化进行滤波来对该一个或多个图像进行处理,以识别固化/未固化的基底涂层的一个或多个图像中的一个或多个感兴趣对象。处理器对该一个或多个感兴趣对象的一个或多个属性进行量化。随后,处理器可执行指令使处理器生成对该一个或多个感兴趣对象的量化进行指示的一个或多个信号。
【IPC分类】G06T7/00
【公开号】CN105210114
【申请号】CN201480025421
【发明人】B·K·菲利普, S·塔里马拉
【申请人】赫尔克里士公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2014年5月2日
【公告号】EP2994883A1, US20140328533, WO2014182551A1
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