专利名称：具有门缝打开和关闭装置的处理室的制作方法
技术领域：
本发明公开了一种具有门缝打开和关闭装置的处理室。
背景技术：
处理室是已知的。然而，它们存在着各种缺点。
发明内容
本发明用于解决现有技术中的各种缺点。
为此，本发明提供一种具有门缝打开和关闭装置的处理室，其 包括室本体；形成于室本体的壁中的门缝，基片由此装载入室本 体和从室本体中卸载；至少一个内门，所述内门可旋转地安装在门 缝的相对开口中的内开口处以便打开和关闭内开口；以及旋转所述 至少 一 个内门以便打开和关闭内开口的门驱动机构。
优选地，还包括止动件，其限制所述至少一个内门在关闭方向 上的旋转并且确定所述至少一个内门的关闭位置。
优选地，所述至少一个内门安装为在内开口关闭时与室本体的 内壁处于相同的平面中。
优选地，还包括形成于室本体中的连接通路，其连接室本体外 面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室本体外面的动力源，以及 动力传递设备，所述动力传递设备通过连接通路将动力从动力源传
递到所述至少一个内门以便打开和关闭所述至少一个内门。
优选地，所述至少一个内门部分地或整体地包括网眼结构。
优选地，还包括形成于室本体中的连接通路，其连接室本体外 面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室本体外面的动力源，以及 动力传递设备，所述动力传递设备通过连接通路将动力源的动力传 递到所述至少一个内门以便打开和关闭所述至少一个内门。
优选地，还包括形成于室本体中的连接通路，其连接室本体外 面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室本体外面的动力源，以及 动力传递设备，所述动力传递设备通过连接通路将动力源的动力传 递到所述至少一个内门以便打开和关闭所述至少一个内门。
优选地，动力源包括马达。
优选地，动力传递设备包括螺杆，其通过马达在向前/倒转 方向上旋转并且具有位于其外周上的外螺纹；可动块，其拧紧至螺 杆以与螺杆形成螺旋副；以及操作线，其插入连接通路中并且在其 相反端部结合至所述至少一个内门和可动块。
优选地，还包括布置在连接通路内的密封元件。
优选地，动力传递设备包括螺杆，其通过马达在向前/倒转 方向上旋转并且具有位于其外周上的外螺纹；可动块，其拧紧至螺 杆以与螺杆形成螺旋副；以及操作线，其插入连接通路中并且在其 相反端部借助于连杆结合至所述至少一个内门和可动块，所述连杆 与所述至少一个内门和可动块中的至少一个相结合。
优选地，还包括布置在连接通路内的密封元件。
优选地，所述至少一个内门包括至少两个可旋转地安装在内开 口中的内门。优选地，所述至少两个内门在其相对端部处可旋转地安装在内 开口中。
优选地，门驱动装置包括至少两个马达。
优选地，所述至少两个马达嵌在室本体的壁中。
优选地，还包括安装在门缝的相对开口中的外开口处的门阀。
根据本发明的另一方面，提供一种具有门缝打开和关闭装置的 处理室，其包括室本体；形成于室本体的壁中的门缝，基片由此 装载和卸载；至少一个内门，其一端可旋转地安装在门缝的相对开 口中的内开口中以便打开和关闭内开口；以及旋转所述至少一个内 门以便打开和关闭内开口的门驱动机构，其中所述至少一个内门安 装为在内开口关闭时与室本体的内壁处于相同的平面中，并且其中 所述至少一个内门部分地或整体地包括网眼结构。
优选地，还包括形成于室本体中的连接通路，其连接室本体外 面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室本体外面的动力源，以及 动力传递设备，所述动力传递设备通过连接通路将动力源的动力传 递到所述至少一个内门以便打开和关闭所述至少一个内门。
根据本发明的又一方面，提供一种具有门缝打开和关闭装置的 处理室，其包括室本体；形成于室本体的壁中的门缝，基片由此 装载和卸载； 一对内门，其中一个内门具有可旋转地安装的一端以 便打开和关闭门缝的相对开口中的内开口的一侧，并且另一个内门 具有可旋转地安装的一端以便打开和关闭内开口的另一侧；以及旋 转该对内门以便打开和关闭内开口的门驱动机构。
优选地，该对内门安装为在内开口关闭时与室本体的内壁处于 相同的平面中。
优选地，该对内门中的每个部分地或整体地包括网眼结构。
优选地，门驱动机构包括至少两个马达。 优选地，所述至少两个马达嵌在室本体的壁中。
下面将参照附图详细描述实施例，其中同样的附图标记涉及相 同的元件，并且其中
图1是根据一个实施例的处理室的横截面视图2是根据一个实施例具有门缝打开和关闭装置的处理室的 视图3和4是图2所示门缝打开和关闭装置的详细剖视图，图3 示出了门缝打开的状态，图4示出了门缝关闭的状态；
图5是在从图4的箭头"P"方向看时的正视图6和7是图3和4所示动力传递设备的剖视图，图6示出了 门缝打开的状态，图7示出了门缝关闭的状态；
图8是根据另一个实施例具有门缝打开和关闭装置的处理室 的横截视图；和
图9是在从图8的箭头"Q"方向看时的正视图。
具体实施例方式
现在将详细参照实施例，其例子在附图中示出。只要可能，同 样的附图标记在全部附图和描述中用来涉及相同或类似的部件，并 且省略重复性的描述。
为了制造显示基片，比如液晶显示(LCD)基片，需要蚀刻基 片的装置。这种蚀刻装置设计来在两个其间已经形成有强电场的电 极之间喷射特定反应气体。这将反应气体转变为在中性状态下具有
良好反应性的等离子体，同时反应气体在电场之下释放电子。等离 子体与部分氧化膜反应，氧化膜已经沉积在基片上并且未被光阻材 料覆盖的部分暴露，从而蚀刻基片。蚀刻装置可包括在其中可利用 等离子体处理基片的基片处理室、其中可存储基片的负载锁闭室、
以及定位在处理室和负载锁闭室之间并且用作由此可装载和卸载 基片的转运区域的传递室。
图1示出了用于显示基片的蚀刻装置的处理室，比如LCD基 片。如图1所示，处理室1可包括室本体5、门缝2，其形成于室 本体5的壁中以便与传递室相通、以及打开和关闭门缝2的门阀4。 门缝2可用作基片3的通路并且可以在水平方向上很长。门阀4可 关闭以便在装载和卸载基片3时允许基片3穿过门缝2。 一旦装载 或卸载了基片3，门阀4可关闭以使得在处理室1的内部14形成 真空。
然而，如图1所示，上述处理室被采用为使得门阀4安装在处 理室1外面以便打开和关闭门缝2。为此，在关闭时，门阀4关闭 门缝2相对的开口 2a和2b中的外侧开口 2a。因此，在蚀刻基片时， 处理室1的内部14在空间上与门缝2相通。于是，其中形成等离 子体的空间除了处理室1的内部14的空间之外还包括门缝2的空 间。于是，等离子体有差异地分布(也就是，其朝着门缝2更集中)， 并且因而，基片3也被有差异地蚀刻。
换言之，当处理室1的内部14被分为两个部分门缝部分和 相对部分(即在图1中看相对于中心线的左右两侧)，门缝2部分 上的等离子体空间增宽门缝2的空间。因此，在总体上看时，等离 子体空间不可避免地左右不对称。于是，在蚀刻基片3时等离子体 可朝着门缝2集中。
图2是示出根据一个实施例具有门缝打开和关闭装置70的处
理室10的视图。如图2所示，具有门缝打开和关闭装置70的处理 室10,根据一个实施例可包括室本体50，其中限定了可利用等 离子体蚀刻基片30的空间54,并且在其一个壁中形成门缝52，基 片30可通过门缝52装载和卸载；以及门阀60。门缝打开和关闭 装置70在室本体50内打开和关闭室本体50的门缝52。门阀60 在室本体50外打开和关闭室本体50的门缝52。
图3和4是图2所示门缝打开和关闭装置70的详细剖视图。 图3示出了门缝52打开的状态，图4示出了门缝52关闭的状态。
如图3和4所示，门缝打开和关闭装置70可包括打开和关闭 门缝52的内门75、打开和关闭内门75的门驱动机构80、以及防 止内门75不必要地关闭的止动件90。内门75可以是安装在门缝 52的相对开口 52a和52b中的内开口 52b上的板，其与室本体50 的内部54相接触，以便打开和关闭内开口 52b。
内门75可通过铰链机构H结合至内开口 52b以便可绕着其下 端旋转。而且，在关闭时，内门75的尺寸适合于内开口 52b。因 而，当内门75朝着室本体50的内部54旋转时，可打开内开口 52b。 相反，当内门75朝着室本体50的外面旋转时，可关闭内开口 52b。
内门75在旋转以关闭内开口 52b时可安装至与室本体50的内 壁54a相同的平面中，从而与室本体50的内壁54a—起用作平的 壁。内门75在内开口 52b关闭时可安装为相对于室本体50的内壁 54a没有高度差。也就是，当内开口52b关闭时，内门75可安装为 使得其面对室本体50内部54的内表面75a与内壁54a—致。而且， 内门75可在其下端提供有凸起72,在关闭时其可朝着室本体50 外面突出预定的长度。
图5是在图4的箭头"P"的方向上看时的正视图。如图5所示，内门75可部分地或整体地由金属网74构成。在这个实施例中， 内门70具有网眼结构，以减少其重量。
门驱动机构80可使得内门75绕着铰链机构H旋转预定的角度 以打开和关闭门缝52的内开口 52b。门驱动机构80可包括产生动 力的动力源81、以及传递动力源81的动力以使内门75旋转的动 力传递设备82。动力源可以是安装在室本体50外面的马达81。
动力传递设备82可用来将马达81的动力通过线性连接通路53 传递到内门72，通路53可形成于室本体50中以在空间上将门缝 52与室本体50的外面相连接。动力传递设备82可包括螺杆83、 可动块84以及操作线85。
螺杆83可以是线性杆，其可安装在室本体50下以便正好布置 在内门75下面。螺杆83可竖直地安装在室本体50下面以便可旋 转。而且，螺杆83可沿着其长度在其外周上具有外螺纹，并且可 借助于马达81在向前/倒转方向上旋转。
可动块84可螺旋至螺杆83以便与螺杆83形成螺旋副。在螺 杆83向前/倒转地旋转(或者按照螺杆83的旋转方向)时，可动 块84沿着螺杆83上下运动。
操作线85可借助于可动块84沿着螺杆83上下运动的运动力 而使内门75旋转，从而打开和关闭内开口 52b。操作线85可在其 相反端部分别连接至内门75和可动块84。
而且，尤其，操作线85可连接至内门75的凸起72。操作线 85可具有刚性。可选地，操作线85还可包括包围其外表面的护套。 而且，操作线85可插入穿过室本体50的连接通路53，然后连接 至内门75和可动块84。如上所述，当可动块84向下运动时，操 作线85使内门75旋转以关闭内开口52b。尽管附图中未示出，不
过包围操作线85的波纹管可安装在室本体50和可动块84之间以 防止操作线85妨碍其周围物和改善其外观。
马达81能以下述方式致动，即，防止可动块84过度地向上运 动以致于负载过度(即，马达持续转动螺杆83而不管内开口 52a 完全打开或关闭的状态)。当然，这可以利用例如传感器或控制设 备来实现。
止动件90可限制上述可由门驱动机构80关闭的内门75的旋 转。止动件90可用来确定内门75的关闭位置，并且因而，允许门 缝52的内开口 52b由内门75准确地关闭。止动件卯可实施为至 少一个凹陷或凸起，其可形成于内开口 52处以便在内门75关闭内 开口 52b时与内门75的上端相接触。
止动件卯的位置和构造可以改变。例如，止动件卯可实施为 环，其可安装在螺杆83上以使得当内开口 82b完全关闭时可动块 84不再向下运动。止动件90的功能，如上所述，可通过控制马达 81的致动来实现。无论如何，止动件90可提供来对内门75的旋 转施加物理限制，从而防止故障，并且改进操作可靠性。
附图标记S表示密封元件，其可安装在连接通路53中以在门 缝52的内开口 52关闭时维持气密状态。密封元件S可通过堵塞连 接通路53来允许室本体50的内部54保持在真空环境下以使得操 作线85的操作不受阻碍。
下面将描述这里公开的根据本发明的处理室的操作。
为了关闭门缝52，当门缝52的内开口 52b打开时，内门75 降低，并且动力传递设备82的可动块84维持升高状态。在此状态 下，马达81可被致动。然后，螺杆83通过马达81的旋转而转动。 与螺杆83拧紧的可动块84沿着螺杆83向下运动。由于可动块84
的运动方向可由螺杆83的旋转方向决定，马达81可在一个方向上 旋转螺杆83以使得可动块84向下运动。在可动块84向下运动时， 操作线85被拉动。此时，内门75绕着铰链结构H旋转，并且竖直 地站立。当内门75变得与止动件卯相接触并且内开口 52b关闭时， 马达81的致动被停止。
这样，当内门52b由内门75关闭时，室本体50的内部54与 门缝52隔离。于是，室本体50的内部54两侧地对称(参见图2)。 而且，当内开口52b关闭时，内门75与室本体50的内壁54a处于 相同的平面中。因而，室本体50的内壁54a中没有高度差。于是， 在蚀刻基片30时，等离子体的分布是均匀的。
为了打开门缝52,和门缝52关闭时不同，马达81致动以使得 螺杆83在相反方向上旋转，并且从而可动块84向上运动。此时， 可以为刚性的操作线85被可动块84的升高力所推压，从而推压内 门75。于是，内门75被旋转，并且因而门缝52的内开口 52b被 打开。
图6和7是示出图3和4所示动力传递设备的另一实施例的剖 视图。更具体地，图6示出了门缝52打开的状态，图7示出了门 缝52关闭的状态。
图6和7所示动力传递设备82a与图3和4所示动力传递设备 82的不同之处仅在于，线性操作杆86和连杆87替代了操作线85。 类似于操作线85，操作杆86插入穿过室本体50的连接通路53， 并且其下端结合至可动块84。
连杆87将操作杆86的上端与内门75相结合。连杆87将操作 杆86 (可被可动块84沿着连接通路54升高)的运动力传递至内 门75以使得内门75被旋转。孔87s (通过该孔，连杆87可由铰链
与操作杆86相结合)可具有槽形状。当然，连杆87可以改变；也 就是，连杆87可具有任何构造，只要内门75可通过操作杆86的 旋转而转动。而且，动力传递设备82a的结构可以改变；例如，螺 杆83可安装在水平方向而非在竖直方向以使得操作杆86和可动块 84可结合。
图8是根据另一第二实施例具有门缝打开和关闭装置120的处 理室100的横截视图。图9是在图8的箭头"Q"方向上看时的正 视图。
如图8和9所示，根据本实施例具有门缝打开和关闭装置170 的处理室IOO与前述实施例相同，除了内门175和门驱动机构180 的构造之外。
类似于前述实施例的内门75，本实施例的内门175打开和关闭 门缝52的内开口 52b。然而，与前述实施例中设计为具有一单个 打开和关闭门的内门75不同，本实施例的内门175可包括上门 175a，其可打开和关闭门缝52的内开口 52b的上部；下门175b， 其可安装在上门175a的下面并且打开和关闭门缝52的内开口 52b 其余的下部。
上门175a可由铰链机构Hl结合至内开口 52b以便可绕着其上 端旋转。下门175b可由铰链机构H2结合至内开口 52b以便可绕着 其下端旋转。而且，上门175a和下门175b可装备有金属网174以 便部分地或整体地具有网眼结构。
同时，本实施例的内门175可在朝着室本体50的内部54旋转 时可打开内开口 52b。相反，内门175可在朝着室本体50的外面 旋转时可关闭内开口 52b。内门175在关闭时可安装成与室本体50 的内壁54a在相同的平面中。
本实施例的门驱动机构180可用来旋转上门175a和下门175b 以打开和关闭内开口 52b,并且可包括两个马达。马达可埋在室本 体50的壁中以使得其轴可借助于例如结合件分别直接结合至上门 175a和下门175b的铰链机构HI和H2。
尽管已经为了示例性的目的描述了示例性实施例，但是本领域 的熟练人员将理解到，在不偏离本发明如所附权利要求所公开的范 围和精神之下，各种变型、增加和替换都是可能的。
作为一个例子，在这里公开实施例的描述中，内门可安装为朝 着室本体的内部向下旋转。然而，内门可设计为以相反方向旋转以 打开和关闭。在此情况下，可进行适合的结构变化以避免可通过门 缝装载和卸载的基片和内门之间的干扰。
而且，在这里公开实施例的门驱动机构的描述中，作为动力源 的马达可安装在室本体外面，并且马达的动力可由动力传递设备传 递至位于室本体内的内门。然而，马达也可设计为嵌在室本体的壁 中，或者可安装在室本体的外面以使得其轴可直接与铰链机构相结 合。另外，在一个实施例的门驱动机构的描述中，马达可嵌在室本 体的壁中。然而，马达可安装在室本体外面。
这里公开的实施例提供了具有门缝打开和关闭装置的处理室， 该门缝打开和关闭装置利用至少一个旋转门来打开和关闭室本体 内侧的室本体门缝，从而防止在蚀刻基片时室本体内部在空间上与 门缝相连接，以及防止等离子体由于朝着门缝集中而不均匀地分 布。
这里公开的实施例还提供了具有门缝打开和关闭装置的处理 室，其中在门缝被门缝打开和关闭装置所关闭时至少一个门与室本 体的内壁一致而没有高度差，从而维持在蚀刻基片时等离子体更均
匀的分布。
根据一个实施例，具有门缝打开和关闭装置的处理室提供为包 括室本体，其一个壁中形成有由此装载和卸载基片的门缝；内门， 其一端可旋转地安装在门缝的相对开口中的内开口中以便打开和 关闭内开口 ；以及旋转内门以便打开和关闭内开口的门驱动机构。 处理室还可包括止动件，其限制内门在关闭方向上的旋转，并且因 而确定内门的关闭位置。
内门可安装为在内开口关闭时处于与室本体的内壁相同的平 面中。而且，内门可部分地或整体地具有网眼结构。
室本体可包括连接室本体外面和门缝的连接通路，并且门驱动 机构可包括安装在室本体外面的动力源，以及将动力源的动力通过 连接通路传递到内门以便打开和关闭内门的动力传递单元或设备。 动力源可包括马达。
动力传递设备可包括螺杆，其可通过马达和其外周上的外螺 纹在向前/倒转方向上旋转、可动块，其可拧紧至螺杆以与螺杆形 成螺旋副、以及操作线，其可插入连接通路并且可在其相反端部结 合至内门和可动块。
可选地，动力传递单元可包括螺杆，其可通过马达在向前/ 倒转方向上旋转并且其可具有位于其外周上的外螺纹、可动块，其 可拧紧至螺杆以与螺杆形成螺旋副、以及操作线，其可插入连接通 路并且可在其相反端部借助于连杆结合至内门和可动块，所述连杆 与内门和可动块中的至少一个相结合。
根据另一实施例，具有门缝打开和关闭装置的处理室提供为包 括室本体，其一个壁中形成有由此装载和卸载基片的门缝； 一对 内门，其中之一具有可旋转地安装的一端以便打开和关闭门缝的相
对开口中的内开口的一侧，并且其另一个具有可旋转地安装的一端
以便打开和关闭内开口的另一侧；以及旋转内门以便打开和关闭内 开口的门驱动机构。内门可安装为在内开口关闭时与室本体的内壁 处于相同的平面中。而且，每个内门可部分地或整体地具有网眼结 构。
根据具有根据这里公开实施例的门缝打开和关闭装置的这种 处理室，至少一个内门可安装在门缝的相对开口中的内开口中(门 缝可用作基片的通路)，并且因而内开口可由内门打开和关闭。因 此，当内开口关闭时，室本体的内部可在空间上与门缝隔开。从而， 在蚀刻基片时，可防止等离子体朝着门缝集中。而且，等离子体可 均匀地分布。
另外，内门可安装为在关闭时与室本体的内壁一致，以使得形 成等离子体的空间可准确地对称，并且因而，等离子体可均匀地分 布。而且，这种对称结构使得电极和地面之间的距离恒定。这就动 力而言是有利的。
本说明书中涉及的"一个实施例"、"实施例"、"示例性实施 例"等意味着，结合实施例描述的具体特点、结构或特征包括在本 发明的至少一个实施例中。说明书不同位置中这种句子的出现不是 必须都涉及相同实施例。而且，在结合任何实施例描述一个具体特 点、结构或特征时，结合其它实施例来实现这种特点、结构或特征 是在本领域熟练技术人员的范围之内。
尽管已经参照多个示例性实施例描述了本发明，但是应当理解 到，本领域熟练技术人员能想到很多其它变型和实施例，这些都将 落入本公开物原理的精神和范围内。更具体地，在说明书、附图和 所附权利要求的范围内，组成部件和/或组合布置的各种变化和变 型都是可能的。除了组成部件和/或布置的变化和变型之外，替换
使用对于本领域熟练技术人员而言也是很明显的。
权利要求
1.一种具有门缝打开和关闭装置的处理室，其包括室本体；形成于室本体的壁中的门缝，基片由此装载入室本体和从室本体中卸载；至少一个内门，所述内门可旋转地安装在门缝的相对开口中的内开口处以便打开和关闭内开口；以及旋转所述至少一个内门以便打开和关闭内开口的门驱动机构。
2. 根据权利要求1的处理室，还包括止动件，其限制所述至 少一个内门在关闭方向上的旋转并且确定所述至少一个内门的关 闭位置。
3. 根据权利要求1的处理室，其中所述至少一个内门安装为 在内开口关闭时与室本体的内壁处于相同的平面中。
4. 根据权利要求3的处理室，还包括形成于室本体中的连接 通路，其连接室本体外面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室 本体外面的动力源，以及动力传递设备，所述动力传递设备通过 连接通路将动力从动力源传递到所述至少一个内门以便打开和关 闭所述至少一个内门。
5. 根据权利要求1的处理室，其中所述至少一个内门部分地 或整体地包括网眼结构。
6. 根据权利要求5的处理室，还包括形成于室本体中的连接 通路，其连接室本体外面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室 本体外面的动力源，以及动力传递设备，所述动力传递设备通过 连接通路将动力源的动力传递到所述至少一个内门以便打开和关 闭所述至少一个内门。
7. 根据权利要求1的处理室，还包括形成于室本体中的连接 通路，其连接室本体外面和门缝，其中门驱动机构包括安装在室 本体外面的动力源，以及动力传递设备，所述动力传递设备通过 连接通路将动力源的动力传递到所述至少一个内门以便打开和关 闭所述至少一个内门。
8. 根据权利要求7的处理室，其中动力源包括马达。
9. 根据权利要求8的处理室，其中动力传递设备包括螺杆，其通过马达在向前/倒转方向上旋转并且具有位于其外 周上的外螺纹；可动块，其拧紧至螺杆以与螺杆形成螺旋副；以及操作线，其插入连接通路中并且在其相反端部结合至所述至 少一个内门和可动块。
10. 根据权利要求9的处理室，还包括布置在连接通路内的 密封元件。
11. 根据权利要求8的处理室，其中动力传递设备包括螺杆，其通过马达在向前/倒转方向上旋转并且具有位于其外 周上的外螺纹；可动块，其拧紧至螺杆以与螺杆形成螺旋副；以及操作线，其插入连接通路中并且在其相反端部借助于连杆结 合至所述至少一个内门和可动块，所述连杆与所述至少一个内门 和可动块中的至少一个相结合。
12. 根据权利要求11的处理室，还包括布置在连接通路内的 密封元件。
13. 根据权利要求1的处理室，其中所述至少一个内门包括 至少两个可旋转地安装在内开口中的内门。
14. 根据权利要求13的处理室，其中所述至少两个内门在其 相对端部处可旋转地安装在内开口中。
15. 根据权利要求14的处理室，其中门驱动装置包括至少两 个马达。
16. 根据权利要求15的处理室，其中所述至少两个马达嵌在 室本体的壁中。
17. 根据权利要求1的处理室，还包括安装在门缝的相对开 口中的外开口处的门阀。
18. —种具有门缝打开和关闭装置的处理室，其包括 室本体；形成于室本体的壁中的门缝，基片由此装载和卸载；至少一个内门，其一端可旋转地安装在门缝的相对开口中的 内开口中以便打开和关闭内开口；以及旋转所述至少一个内门以便打开和关闭内开口的门驱动机 构，其中所述至少一个内门安装为在内开口关闭时与室本体的内 壁处于相同的平面中，并且其中所述至少一个内门部分地或整体 地包括网眼结构。
19. 根据权利要求18的处理室，还包括形成于室本体中的连 接通路，其连接室本体外面和门缝，其中门驱动机构包括安装在 室本体外面的动力源，以及动力传递设备，所述动力传递设备通过连接通路将动力源的动力传递到所述至少一个内门以便打开和 关闭所述至少一个内门。
20. —种具有门缝打开和关闭装置的处理室，其包括 室本体；形成于室本体的壁中的门缝，基片由此装载和卸载；一对内门，其中一个内门具有可旋转地安装的一端以便打开 和关闭门缝的相对开口中的内开口的一侧，并且另一个内门具有 可旋转地安装的一端以便打开和关闭内开口的另一侧；以及旋转该对内门以便打开和关闭内开口的门驱动机构。
21. 根据权利要求20的处理室，其中该对内门安装为在内开 口关闭时与室本体的内壁处于相同的平面中。
22. 根据权利要求20的处理室，其中该对内门中的每个部分 地或整体地包括网眼结构。
23. 根据权利要求20的处理室，其中门驱动机构包括至少两 个马达。
24. 根据权利要求23的处理室，其中所述至少两个马达嵌在 室本体的壁中。
全文摘要
提供了一种使用等离子体的用于蚀刻基片的蚀刻装置的处理室，比如液晶显示(LCD)基片。该处理室可包括室本体，其一个壁中形成有门缝；打开和关闭门缝内开口的旋转内门；以及旋转内门的门驱动机构。在蚀刻基片时，内门关闭以防止室本体内部与门缝相通。从而，其中形成等离子体的空间可维持对称，因此等离子体可均匀地分布在室本体内部。
文档编号H01L21/00GK101179010SQ200710181228
公开日2008年5月14日 申请日期2007年10月25日 优先权日2006年11月10日
发明者孙亨圭 申请人:爱德牌工程有限公司