薄膜吸附设备的制作方法
【专利摘要】一种薄膜吸附设备包含支撑座、第一通道、第二通道与泵。支撑座具有吸附面。第一通道贯穿支撑座。第一通道具有第一开口与第二开口，且第一通道的第一开口位于吸附面。第二通道贯穿支撑座。第二通道具有第一开口与第二开口，且第二通道的第一开口位于吸附面。泵连通于第二通道的第二开口。当一薄膜放置于吸附面并覆盖第一通道的第一开口及第二通道的第一开口时，泵抽气以驱动一气流从第一通道的第二开口流入并通过吸附面与薄膜的间隙，以吸附薄膜。
【专利说明】薄膜吸附设备
【技术领域】
[0001]本发明是有关一种薄膜吸附设备。
【背景技术】
[0002]一般而言，量测发光二极管(Light Emitting D1de ；LED)晶片的发光特性时，可将贴附有多个LED晶片的蓝膜(blue tape)放到一吸附装置上后，再由量测设备量测LED晶片。吸附装置初步定位蓝膜后，蓝膜与吸附装置间可能因存在空气而使蓝膜凸起不平整，因此需对蓝膜与吸附装置间的空间抽真空，以降低LED晶片的量测误差。
[0003]已知吸附装置通常采用两段式抽真空的方式来达到定位与整平蓝膜的效果。举例来说，已知吸附装置可具有内侧抽气口与外侧抽气口。当蓝膜放置于吸附装置上后，可先使用泵先对外侧抽气口施以第一阶段抽气，让蓝膜达初步定位。接着使用泵再对内侧抽气口施以第二阶段抽气，待蓝膜与吸附装置间的空气被抽出后，蓝膜便可呈水平状态。
[0004]然而在实际使用上，若要等蓝膜达到水平状态后再量测LED晶片的发光特性，则需花费大量的时间(例如4分钟)，造成上料不便。此外，蓝膜具有弹性及粘性，在长时间对蓝膜与吸附装置间的空间抽真空后，会造成蓝膜粘贴在夹具上，且在拿取蓝膜时会造成拉扯的情形，造成下料不便。
【发明内容】
[0005]本发明的一技术方式为一种薄膜吸附设备。
[0006]根据本发明一实施方式，一种薄膜吸附设备包含支撑座、第一通道、第二通道与泵。支撑座具有吸附面。第一通道贯穿支撑座。第一通道具有第一开口与第二开口，且第一通道的第一开口位于吸附面。第二通道贯穿支撑座。第二通道具有第一开口与第二开口，且第二通道的第一开口位于吸附面。泵连通于第二通道的第二开口。当一薄膜放置于吸附面并覆盖第一通道的第一开口及第二通道的第一开口时，泵抽气以驱动一气流从第一通道的第二开口流入并通过吸附面与薄膜的间隙，以吸附薄膜。
[0007]在本发明一实施方式中，上述薄膜吸附设备还包含第三通道与第四通道。第三通道贯穿支撑座。第三通道具有第一开口与第二开口，且第三通道的第一开口位于吸附面。第四通道贯穿支撑座。第四通道具有第一开口与第二开口。第四通道的第一开口位于吸附面。
[0008]在本发明一实施方式中，上述薄膜吸附设备还包含第一阀门与第二阀门。第一阀门具有进气口与出气口。第一阀门的进气口连通于第三通道的第二开口与第四通道的第二开口。第一阀门的出气口连通于泵。第二阀门具有进气口与出气口。第二阀门的进气口连通于第二通道的第二开口。第二阀门的出气口连通于泵。当薄膜放置于吸附面并覆盖第一通道的第一开口、第二通道的第一开口、第三通道的第一开口以及第四通道的第一开口时，泵抽气，第一阀门先开启以真空吸附薄膜，再开启第二阀门，使气流从第一通道的第二开口流入并通过吸附面与薄膜的间隙，以吸附薄膜。
[0009]在本发明一实施方式中，上述薄膜吸附设备还包含流量控制器。流量控制器安装于第一通道的第二开口，用以控制气流的流量。
[0010]在本发明一实施方式中，上述薄膜吸附设备还包含温度控制器。温度控制器安装于第一通道的第二开口，用以控制气流的温度。
[0011]本发明的一技术方式为一种薄膜吸附设备。
[0012]根据本发明一实施方式，一种薄膜吸附设备包含支撑座、承载膜、第一通道、第二通道与泵。支撑座具有吸附面。承载膜设置于吸附面上。第一通道贯穿支撑座。第一通道具有第一开口与第二开口，且第一通道的第一开口位于吸附面。第二通道贯穿支撑座。第二通道具有第一开口与第二开口。第二通道的第一开口位于吸附面。泵连通于第一通道的第二开口与第二通道的第二开口，用以驱动使一流体从第一通道的第二开口流入，并通过吸附面与承载膜的间隙，由第二通道的第二开口回到泵。
[0013]在本发明一实施方式中，上述薄膜吸附设备还包含流量控制器。流量控制器连通于第一通道的第二开口与泵，用以控制流体的流量。
[0014]在本发明一实施方式中，上述薄膜吸附设备还包含温度控制器。温度控制器连通于第一通道的第二开口与泵，用以控制流体的温度。
[0015]在本发明一实施方式中，当一薄膜放置于承载膜时，泵驱动流体循环，使承载膜与薄膜之间形成真空，以吸附薄膜。
[0016]在本发明一实施方式中，上述流体为气体或液体。
[0017]在本发明上述实施方式中，由于第一通道的第一开口与第二通道的第一开口位于支撑座的吸附面，因此当一薄膜放置于吸附面并覆盖第一通道的第一开口及第二通道的第一开口时，连通于第二通道的第二开口泵可抽气以驱动一气流从第一通道的第二开口流入。此气流会依序通过第一通道、吸附面与薄膜的间隙、第二通道，当气流通过吸附面与薄膜的间隙时，可形成层流稳定状态而产生负压(伯努力定律)，以吸附薄膜。
[0018]这样的吸附方式可让薄膜在不接触吸附面的情形下达水平状态，可节省已知等待第二阶段抽气的时间，方便上料。此外，薄膜吸附设备不需对薄膜与吸附面间的空间抽真空，不仅可避免薄膜粘贴在夹具上，且可避免移除薄膜时造成拉扯的情形，方便下料。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]图1示出根据本发明一实施方式的薄膜吸附设备的剖视图；
[0020]图2示出图1的支撑座的吸附面放置薄膜后的剖视图；
[0021]图3示出图2的第三通道与第四通道抽真空后的剖视图；
[0022]图4示出图3的第二通道抽气后的剖视图；
[0023]图5示出根据本发明一实施方式的薄膜吸附设备的剖视图；
[0024]图6示出图5的支撑座的吸附面放置薄膜后的剖视图；
[0025]图7示出图6的泵驱动流体循环后的剖视图。
【具体实施方式】
[0026]以下将以图式描述本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些已知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式示出。
[0027]图1示出根据本发明一实施方式的薄膜吸附设备100的剖视图。如图所示，薄膜吸附设备100包含支撑座110、第一通道120、第二通道130、第三通道140与第四通道150。其中，支撑座110具有吸附面112。第一通道120贯穿支撑座110。第一通道120具有第一开口 122与第二开口 124，且第一通道120的第一开口 122位于吸附面112。第二通道130贯穿支撑座110。第二通道130具有第一开口 132与第二开口 134，且第二通道130的第一开口 132位于吸附面112。第三通道140贯穿支撑座110。第三通道140具有第一开口 142与第二开口 144，且第三通道140的第一开口 142位于吸附面112。第四通道150贯穿支撑座110。第四通道150具有第一开口 152与第二开口 154。第四通道150的第一开口 152位于吸附面112。
[0028]此外，薄膜吸附设备100还包含泵165、第一阀门160与第二阀门170。其中，第一阀门160具有进气口 162与出气口 164。第一阀门160的进气口 162连通于第三通道140的第二开口 144与第四通道150的第二开口 154。第一阀门160的出气口 164连通于泵165。第二阀门170具有进气口 172与出气口 174。第二阀门170的进气口 172连通于第二通道130的第二开口 134，且第二阀门170的出气口 174连通于泵165。藉由以上的配置，泵165可透过第一阀门160与第二阀门170选择性地连通于第二通道130的第二开口 134、第三通道140的第二开口 144与第四通道150的第二开口 154。
[0029]在以下叙述中，将说明薄膜吸附设备100使用时的状态。
[0030]图2示出图1的支撑座110的吸附面112放置薄膜210后的剖视图。同时参阅图1与图2，薄膜210上贴附有多个发光二极管(Light Emitting D1de ；LED)晶片212。当夹持薄膜210边缘的夹具(chuck) 220放置于支撑座110时，薄膜210与支撑座110间的空气会使薄膜210呈凸状，而形成间隙dl。在本实施方式中，薄膜210可以为蓝膜(blue tape),但不以限制本发明。
[0031]图3示出图2的第三通道140与第四通道150抽真空后的剖视图。同时参阅图1与图3，当薄膜210放置于吸附面112并覆盖第一通道120的第一开口 122、第二通道130的第一开口 132、第三通道140的第一开口 142及第四通道150的第一开口 152时，泵165抽气，第一阀门160开启，因此瞬间可产生气流F1、F2，使薄膜210被支撑座110外侧的第三通道140的第一开口 142及第四通道150的第一开口 152真空吸附，而达到初步定位的效果。此时，薄膜210与支撑座110间仍存在空气，但薄膜210外侧已被吸附，因此间隙d2会小于图2的间隙dl。
[0032]图4示出图3的第二通道130抽气后的剖视图。同时参阅图1与图4，在薄膜210被第三通道140的第一开口 142及第四通道150的第一开口 152真空吸附后，开启第二阀门170 (第一阀门160仍为开启状态)，使气流F3由泵165驱动从第一通道120的第二开口 124流入，气流F3会依序通过第一通道120、吸附面112与薄膜210的间隙d3、第二通道130，并从第二通道130的第二开口 134流出。当气流F3通过吸附面112与薄膜210的间隙d3时，可形成层流稳定状态而产生负压(伯努力定律)，使薄膜210由气流F3产生的负压吸附。因此，间隙d3会小于图3的间隙d2。薄膜210各位置点与吸附面112的垂直距离大致相同，薄膜210可呈水平状态。
[0033]如此一来，支撑座110上方的量测设备(未示出于图)便可准确量测发光二极管晶片212的发光特性，由于薄膜210已呈水平状态，因此可降低量测误差。在本实施方式中，支撑座HO具有透光件114 (例如玻璃片)，可供量测设备侦测发光二极管晶片212的位置。
[0034]薄膜吸附设备100吸附薄膜210的方式可让薄膜210在不接触吸附面112的情形下达水平状态，能节省已知等待第二阶段抽气的时间，方便上料(即贴附有发光二极管晶片212的薄膜210)。此外，薄膜吸附设备100不需对薄膜210与吸附面112间的空间抽真空，不仅可避免薄膜210粘贴在夹具220上，且可避免移除薄膜210时造成拉扯的情形，方便下料。
[0035]在本实施方式中，第二阀门170的进气口 172设有真空表176。薄膜吸附设备100还可包含流量控制器180。流量控制器180安装于第一通道120的第二开口 124。使用者可利用真空表176得知气流F3于间隙d3产生的负压，并利用流量控制器180控制气流F3的流量，使气流F3达层流稳定状态。
[0036]此外，薄膜吸附设备100还可包含温度控制器190。温度控制器190安装于第一通道120的第二开口 124，可用来控制气流F3的温度，使薄膜210上的发光二极管晶片212具有稳定的量测温度，避免环境温度造成发光特性有所差异。
[0037]图5示出根据本发明一实施方式的薄膜吸附设备300的剖视图。薄膜吸附设备300包含支撑座310、承载膜320、第一通道330、第二通道340与泵350。其中，支撑座310具有吸附面312。承载膜320设置于吸附面312上。第一通道330贯穿支撑座310。第一通道330具有第一开口 332与第二开口 334，且第一通道330的第一开口 332位于吸附面312。第二通道340贯穿支撑座310。第二通道340具有第一开口 342与第二开口 344。第二通道340的第一开口 342位于吸附面312。泵350连通于第一通道330的第二开口 334与第二通道340的第二开口 344，可驱动使流体430从第一通道330的第二开口 334流入，并通过吸附面312与承载膜320的间隙d，由第二通道340的第二开口 344回到泵350。在本实施方式中，流体430可以为气体或液体。
[0038]此外，薄膜吸附设备300还可包含流量控制器360与温度控制器370。其中，流量控制器360连通于第一通道330的第二开口 334与泵350，可控制流体430的流量。温度控制器370连通于第一通道330的第二开口 334与泵350，可控制流体430的温度。
[0039]图6示出图5的支撑座310的吸附面312放置薄膜410后的剖视图。同时参阅图5与图6，薄膜410上贴附有多个发光二极管晶片412。当夹持薄膜410边缘的夹具420放置于支撑座310时，薄膜410放置于承载膜320，且薄膜410与支撑座310间的空气会使薄膜410呈凸状。
[0040]图7示出图6的泵350驱动流体430循环后的剖视图。同时参阅图6与图7，当薄膜410放置于承载膜320时，泵350可驱动流体430以方向Dl循环，当流体430通过吸附面312与承载膜320的间隙d时，可形成层流稳定状态而产生负压(伯努力定律)，使承载膜320由流体430产生的负压吸附，因此间隙d’会小于间隙d。如此一来，承载膜320与薄膜410之间形成真空，使薄膜410被承载膜320吸附而往方向D2移动，进而呈水平状态。如此一来，支撑座310上方的量测设备(未示出于图)便可准确量测发光二极管晶片412的发光特性，由于薄膜410已呈水平状态，因此可降低量测误差。
[0041]薄膜吸附设备300吸附薄膜410的方式可让薄膜410在不接触吸附面312的情形下达水平状态，能节省抽真空的时间，方便上料，不仅可避免薄膜410粘贴在夹具420上，且可避免移除薄膜410时造成拉扯的情形，方便下料。使用者可利用流量控制器360控制流体430的流量，使流体430达层流稳定状态。温度控制器370控制流体430的温度，使薄膜410上的发光二极管晶片412具有稳定的量测温度，避免环境温度造成发光特性有所差异。
[0042]虽然本发明已以实施方式描述如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视后附的权利要求书所界定者为准。
【权利要求】
1.一种薄膜吸附设备，其特征在于包含: 一支撑座，具有一吸附面； 一第一通道，贯穿该支撑座，该第一通道具有一第一开口与一第二开口，且该第一通道的第一开口位于该吸附面； 一第二通道，贯穿该支撑座，该第二通道具有一第一开口与一第二开口，且该第二通道的第一开口位于该吸附面；以及 一泵，连通于该第二通道的第二开口； 其中当一薄膜放置于该吸附面并覆盖该第一通道的第一开口及该第二通道的第一开口时，该泵抽气以驱动一气流从该第一通道的第二开口流入并通过该吸附面与该薄膜的间隙，以吸附该薄膜。
2.如权利要求1所述的薄膜吸附设备，其特征在于还包含: 一第三通道，贯穿该支撑座，该第三通道具有一第一开口与一第二开口，且该第三通道的第一开口位于该吸附面；以及 一第四通道，贯穿该支撑座，该第四通道具有一第一开口与一第二开口，其中该第四通道的第一开口位于该吸附面。
3.如权利要求2所述的薄膜吸附设备，其特征在于还包含: 一第一阀门，具有一进气口，连通于该第三通道的第二开口与该第四通道的第二开口，以及一出气口，连通于该泵；以及 一第二阀门，具有一进气口，连通于该第二通道的第二开口，以及一出气口，连通于该栗; 其中当该薄膜放置于该吸附面并覆盖该第一通道的第一开口、该第二通道的第一开口、该第三通道的第一开口以及该第四通道的第一开口时，该泵抽气，该第一阀门先开启以真空吸附该薄膜，再开启该第二阀门，使该气流从该第一通道的第二开口流入并通过该吸附面与该薄膜的间隙，以吸附该薄膜。
4.如权利要求1所述的薄膜吸附设备，其特征在于还包含: 一流量控制器，安装于该第一通道的第二开口，用以控制该气流的流量。
5.如权利要求1所述的薄膜吸附设备，其特征在于还包含: 一温度控制器，安装于该第一通道的第二开口，用以控制该气流的温度。
6.一种薄膜吸附设备，其特征在于包含: 一支撑座，具有一吸附面； 一承载膜，设置于该吸附面上； 一第一通道，贯穿该支撑座，该第一通道具有一第一开口与一第二开口，且该第一通道的第一开口位于该吸附面； 一第二通道，贯穿该支撑座，该第二通道具有一第一开口与一第二开口，其中该第二通道的第一开口位于该吸附面；以及 一泵，连通于该第一通道的第二开口与该第二通道的第二开口，用以驱动使一流体从该第一通道的第二开口流入，并通过该吸附面与该承载膜的间隙，由该第二通道的第二开口回到该泵。
7.如权利要求6所述的薄膜吸附设备，其特征在于还包含: 一流量控制器，连通于该第一通道的第二开口与该泵，用以控制该流体的流量。
8.如权利要求6所述的薄膜吸附设备，其特征在于还包含: 一温度控制器，连通于该第一通道的第二开口与该泵，用以控制该流体的温度。
9.如权利要求6所述的薄膜吸附设备，其特征在于当一薄膜放置于该承载膜时，该泵驱动该流体循环，使该承载膜与该薄膜之间形成真空，以吸附该薄膜。
10.如权利要求6所述的薄膜吸附设备，其特征在于该流体为气体或液体。
【文档编号】H01L21/673GK104425326SQ201310364415
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2013年8月20日 优先权日:2013年8月20日
【发明者】翁思渊, 蔡馥禧 申请人:致茂电子股份有限公司