一种OLED器件及其制备方法、显示器与流程

技术特征：
1.一种OLED器件，包括白光OLED和彩色滤光膜，以形成R亚像素、G亚像素、B亚像素和W亚像素，其特征在于，在白光OLED对应W亚像素的区域与彩色滤光膜之间、以及R亚像素、G亚像素、B亚像素中与W亚像素相邻的一个亚像素对应的区域与彩色滤光膜之间设置有相同的光学谐振层，所述光学谐振层由至少两层介质构成，其中，靠近彩色滤光膜的第一介质层的折射率高于靠近白光OLED的第二介质层的折射率。2.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，在R亚像素、G亚像素、B亚像素中的不与W亚像素相邻的其它亚像素中至少一个对应的区域与彩色滤光膜之间也设有光学谐振层。3.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，与所述W亚像素相邻的亚像素的颜色为W亚像素所发出的白光中相对较少的颜色。4.根据权利要求3所述的OLED器件，其特征在于，与所述W亚像素相邻的亚像素为B亚像素。5.根据权利要求2所述的OLED器件，其特征在于，所述光学谐振层设置于白光OLED的透明电极与所述彩色滤光膜之间。6.根据权利要求5所述的OLED器件，其特征在于，所述光学谐振层与所述彩色滤光膜之间设有平坦层。7.一种包含有权利要求1-6中任意一项所述的OLED器件的显示器。8.一种OLED器件的制备方法，其特征在于，包括：清洁基板，在基板上制备TFT阵列；制备彩色滤光膜；在W亚像素对应的区域和与W亚像素相邻的亚像素对应的区域制备光学谐振层，所述光学谐振层由至少两层介质构成，其中，靠近彩色滤光膜的第一介质层的折射率高于靠近白光OLED的第二介质层的折射率；在光学谐振层上制备透明电极；在透明电极上制备白光OLED器件；封装，完成显示装置制备。9.根据权利要求8所述的OLED器件的制备方法，其特征在于，在制备彩色滤光膜后，在彩色滤光膜上制备平坦层。10.根据权利要求8或9所述的OLED器件的制备方法，其特征在于，所述制备光学谐振层的步骤中：在所有区域制备光学谐振层的第一介质层，厚度为W亚像素区域的第一介质层厚度；刻蚀W亚像素和与之相邻的亚像素之外的其它亚像素对应的区域的第一介质层，使该区域的第一介质层厚度达到最佳值或者没有第一介质层；在所有区域制备光学谐振层的第二介质层。