技术特征：
技术总结
一种反应性热处理设备，适于处理一薄膜装置，该反应性热处理设备包括一炉管。炉管沿着一方向延伸，具有一第一端与一第二端，该炉管还包括一高温部、一低温部及一阀门。高温部靠近该第二端，用以摆放薄膜装置。低温部靠近该第一端，具有一气密结构。阀门设置于该第一端。其特征在于，该低温部的一内侧壁具有一凹陷部，此凹陷部与该高温部的一内侧壁形成一段差。本发明的有益效果是，可避免冷凝的液态硒回流高温区，维持硒反应的稳定性，提高薄膜装置加工的良率。
技术研发人员：黄庭辉
受保护的技术使用者：上银光电股份有限公司
技术研发日：2016.09.14
技术公布日：2017.12.29