一种Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器及其制备方法与流程

文档序号:11136693阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了一种Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器及其制备方法,具体是指以c面蓝宝石单晶为衬底,采用磁控溅射生长沿着晶面择优生长的Zn掺杂β‑Ga2O3薄膜(Zn:Ga2O3)作为光吸收层,并在其上溅射Au/Ti叉指电极作为光生载流子的收集电极,制备获得的Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器。本发明通过Zn掺杂提高了Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器的光响应速度,采用在Ga2O3靶材起辉圈周围放置特定数量的Zn颗粒生长特定浓度Zn:Ga2O3薄膜,方法简单。本发明采用商业化的制备方法磁控溅射生长薄膜,工艺可控性强,易操作,所得薄膜表面致密、厚度稳定均一、可大面积制备、重复性好。该发明制备的Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器在日盲紫外探测领域具有潜在的应用前景。

技术研发人员:郭道友;秦新元;王顺利;时浩泽;李培刚;唐为华;沈静琴
受保护的技术使用者:浙江理工大学
文档号码:201610837110
技术研发日:2016.09.21
技术公布日:2017.02.15

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