技术总结
本发明提供了一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，包括光刻步骤和刻蚀步骤，光刻步骤包括光刻胶涂胶步骤、真空干燥步骤、软烘步骤、曝光显影步骤；在光刻胶涂胶步骤中，将光刻胶涂覆在膜层上，在真空干燥步骤中，延长抽真空时间20％至50％，光刻胶上部硬度大于下部硬度；在曝光显影步骤中，光刻胶经曝光显影形成上宽中窄下宽的光刻胶过孔，光刻胶形成凸出的中部；在刻蚀步骤中，光刻胶凸出的中部先被灰化，光刻胶过孔下方的整个膜层表面以接近一致的速度灰化，形成坡度角为60至90度的过孔层过孔。实施本发明提供了一种增大过孔层的过孔坡度角的方法，能够形成坡度角为60至90度的过孔层过孔，同时降低过孔层的关键尺寸失真，使电路能有更好的搭接效果。
技术研发人员：杨永光;曾艳新;王浩;刘伟;任思雨;苏君海;黄亚清;李建华
受保护的技术使用者：信利（惠州）智能显示有限公司
文档号码：201611208823
技术研发日：2016.12.23
技术公布日：2017.06.09