技术总结
本发明涉及一种制造阵列基板的方法，其包括以下步骤：在透明基板的显示区制作薄膜晶体管，在显示区外制作栅极控制电路，沉积覆盖薄膜晶体管的下绝缘层；沉积第一金属层，对第一金属层进行图案化处理形成第二栅极线，在第一栅极线和第二栅极线上沉积上绝缘层，在上绝缘层上沉积第二金属层，对第二金属层进行图案化处理以形成第三栅极线，第三栅极线的两端分别设置有容纳于第一通孔且连接第一栅极线的第一引脚和容纳于第二通孔且连接第二栅极线的第二引脚。采用这种方法可以避免薄膜晶体管被击穿，提升了阵列基板的良品率。
技术研发人员：刘元甫
受保护的技术使用者：武汉华星光电技术有限公司
文档号码：201611261938
技术研发日：2016.12.30
技术公布日：2017.05.31