用于二次电池的密封设备的制作方法

文档序号:14959781发布日期:2018-07-18 00:17阅读:241来源:国知局

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年12月11日提交的韩国专利申请第10-2015-0177259号的权益,通过引用将上述专利申请作为整体结合在此。

本发明涉及一种用于二次电池的密封设备,所述密封设备将电极组件和电解液容纳于其中的壳体的密封部进行密封。



背景技术:

一般而言,不同于不可充电的原电池,二次电池(secondarybatteries)是指可充电和可放电的电池。这种二次电池正广泛地应用于诸如手机、笔记本电脑和摄像机之类的高科技电子领域中。



技术实现要素:

技术问题

参照图1,根据现有技术的二次电池包括电极组件30、电解液以及容纳电极组件30和电解液的壳体20。壳体20包括容纳电解液的容纳部21和密封容纳部21的密封部22。

在此,将密封部22进行热熔以密封。在此,使用密封设备10。也就是说,密封设备10向密封部22的顶表面和底表面同时地施加热量和压力,以密封所述密封部22。

然而,在根据现有技术的密封设备中,当向密封部22施加热量和压力以密封所述密封部22时,设置在密封部22内侧的密封剂层22a可被熔化,且同时泄漏到密封部22的外部。因而,密封部22的厚度可能会减小,使得密封性变差。具体地,当熔融的密封剂层22a泄漏到容纳部21时,可能会形成如图1中所示的“突出区域”。结果,当“突出区域”与电极组件30接触时,可能会由于短路而引起着火和爆炸。(其中突出区域被称为突出以伸出到外部的区域)

做出本发明来解决上述问题,本发明的一个目的是提供一种用于二次电池的密封设备,所述密封设备防止密封部22的厚度减小以提高密封强度,具体地,所述密封设备防止密封部22的密封剂层22a泄漏到容纳部21,从而防止形成突出区域。

技术方案

为了实现上述目的,根据本发明的一种用于二次电池的密封设备包括:密封构件,所述密封构件包括将密封部的表面进行热熔以密封所述密封部的第一密封片和第二密封片,其中所述第一密封片和所述第二密封片包括多个热熔部和多个非热熔部,所述多个热熔部从密封部的表面的外端朝向与外端相对的内端设置以将密封部的表面进行热熔,所述多个非热熔部设置在多个热熔部之间并且不密封所述密封部的表面;所述用于二次电池的密封设备将电极组件和电解液容纳于其中的壳体的密封部进行密封。

非热熔部的每一个可设置为在密封部的表面的方向上敞开的开口凹槽。

第一密封片的非热熔部和第二密封片的非热熔部可被设置成彼此对应。

设置在密封部的内端上的热熔部可具有朝向密封部的内端倾斜的向上倾斜表面,并且所述向上倾斜表面可朝向密封部的内端逐渐地减小压紧力以使密封部的内端的宽度变形,从而使宽度逐渐地增加。

设置在密封部的外端上的热熔部可具有朝向密封部的外端倾斜的向下倾斜表面,并且所述向下倾斜表面可朝向密封部的外端逐渐地增大压紧力以使密封部的外端的形状变形为尖锐形状。

所述密封设备可进一步包括将密封部的外端焊接以密封所述密封部的焊接构件。

所述焊接构件可使用超声波焊接或激光焊接。

有益效果

本发明具有以下效果。

首先:根据本发明的二次电池的密封设备可包括非热熔部,所述非热熔部使设置在壳体的密封部中的密封剂层中断,使得密封剂层不会移动到壳体的内部,以防止形成突出区域,从而事先防止发生由于短路而导致的事故。

其次:在根据本发明的二次电池的密封设备中,非热熔部可设置为开口凹槽以实现制造的简易性。

第三:在根据本发明的二次电池的密封设备中,向下倾斜的倾斜表面可形成在设置在密封部的外端上的热熔部上,以使密封部的外端的形状变形为尖锐形状,从而改善了密封性。

第四:在根据本发明的二次电池的密封设备中,向上倾斜的倾斜表面可形成在设置在密封部的内端上的热熔部上,以使密封部的内端的宽度逐渐地减小,从而有效地防止产生向壳体的内部突出的突出区域。

附图说明

图1是根据现有技术的用于二次电池的密封设备的视图。

图2是根据本发明的用于二次电池的密封设备的视图。

图3和图4是图解根据本发明的密封设备中的密封状态的视图,其中图3是图解密封构件的密封状态的视图,图4是图解焊接构件的焊接状态的视图。

具体实施方式

下文中,将以本发明所属领域的普通技术人员可以容易地实施本发明的技术构思的方式参照附图详细地描述本发明的各实施方式。然而,本发明可以不同的形式实施,而不应被解释为限于在此阐述的实施方式。在附图中,为了清楚起见,将省略任何对描述本发明不必要的内容,此外,附图中相同的参考标记表示相同的元件。

参照图2,二次电池100包括电极组件110、电解液(未示出)以及容纳电极组件110和电解液于其中的壳体120。壳体120包括容纳电解液于其中的容纳部121和沿着容纳部121的边缘设置以密封容纳部121的密封部122。

在此,壳体120包括上壳体和下壳体。上壳体和下壳体耦接至彼此以容纳电极组件110和电解液。

也就是说,上壳体的容纳凹槽和下壳体的容纳凹槽耦接至彼此以提供容纳电极组件110和电解液的容纳部121。将上壳体的密封表面和下壳体的密封表面进行密封以提供用于密封容纳部121的密封部122。

此外,壳体120包括由绝缘材料制成的且设置在壳体120的外表面上的外护套层、由铝或sus制成的中间层、和由热粘合材料制成的且设置在壳体120的内表面上的密封层122a。

将壳体120的密封部122进行热熔以密封。在此,使用根据本发明的密封设备200。由此,密封设备200提高了密封部122的密封强度,具体地,防止了密封部122的密封剂层122a泄漏到容纳部121以防止产生突出区域(参见图1)。

也就是说。当壳体120的密封部122过度地密封时,设置在密封部122的内部的密封剂层122a过度地熔融而泄漏到密封部122的外部。因而,密封部122的厚度减小,使得密封强度变差。具体地,当密封剂层122a泄漏到容纳部121时,可产生突出区域。

为了解决上述问题,即使密封部122被密封,尤其被过度密封,根据本发明的用于二次电池的密封设备200也可以防止密封剂层122a泄漏到密封部122的外部,从而防止产生突出区域。

下文中,在密封部122中,连接至容纳部121的端部被称为内端(从图2中看时,连接至容纳部的右端),与内端相对的端部被称为外端(从图2中看时,密封部的左端)。

例如,如图2中所示,根据本发明的用于二次电池的密封设备200包括:密封构件210,所述密封构件210将壳体120的密封部122的表面进行热熔以密封所述密封部122;和焊接构件220,所述焊接构件220将壳体120的密封部122的外端进行焊接以密封所述密封部122。

密封构件210包括第一密封片211和第二密封片212,第一密封片211和第二密封片212将密封部的顶表面和底表面同时进行热熔以密封密封部122。

第一密封片211和第二密封片212被设置成彼此对称。也就是说,第一密封片211和第二密封片212可包括多个热熔部211a、212a和非热熔部211b、212b,多个热熔部211a、212a从密封部122的内端朝向密封部122的外端设置以将密封部122进行多级热熔而密封,非热熔部211b、212b设置在多个热熔部211a、212a之间并且不密封所述密封部122。

也就是说,在第一密封片211和第二密封片212中,其上设置有多个热熔部211a和212a的密封部122的表面上的密封剂层122a可在藉由热量和压力熔融的同时被密封,其上设置有非热熔部211b和212b的密封部122的表面上的密封剂层122a可不被密封同时保持原状,因为没有施加热量和压力。在此,未被密封的密封剂层122a可防止熔融的密封剂层122a彼此连接并凝聚,从而有效地防止密封剂层122a泄漏到密封部122的外部。

也就是说,藉由多个热熔部211a和212a熔融的多个密封剂层122a可提高密封强度,并且藉由未被非热熔部211b和212b熔融的密封剂层122a可防止熔融的密封剂层122a泄漏到密封部122的外部。因此,可提高密封强度,并且也不会产生突出区域。

在此,第一密封片211的非热熔部211b和第二密封片212的非热熔部212b可被设置成彼此对称,从而有效地防止熔融的密封剂层122a移动。

如图3中所示,非热熔部211b和非热熔部212b的每一个被设置为在密封部122的方向上敞开的开口凹槽。也就是说,未被作为开口凹槽的非热熔部211b和212b挤压的密封部122可隆起,以有效地防止密封剂层122a泄漏到外部。

此外,朝向密封部122的内部向上地倾斜的向上倾斜表面211a-1和212a-1设置在位于密封部122的内端上的热熔部211a和212a上。向上倾斜表面211a-1和212a-1可逐渐地减小朝向密封部122的内端的压紧力以使密封部122的内端的宽度变形,从而使宽度逐渐地增加,因此有效地防止设置在密封部122的内端上的密封剂层122a泄漏到外部。

此外,朝向密封部122的外部向下地倾斜的向下倾斜表面211a-2和212a-2设置在位于密封部122的外端上的热熔部211a和212a上。向下倾斜表面211a-2和212a-2可逐渐地增大朝向密封部122的外端的压紧力以使密封部122的外端的形状变形为尖锐形状,从而提高密封部122的端部的密封性。

如图4中所示,焊接构件220可将密封部122的外端进行焊接以密封所述密封部122,从而提高密封部122连同密封构件210的密封强度。焊接构件220可使用超声波焊接或激光焊接。

在根据本发明的用于二次电池的密封设备200中,密封部122的密封强度可得到提高,从而防止产生突出区域。

因此,本发明的范围由所附权利要求书限定,而不是由前面的描述和其中描述的示例性实施方式限定。在本发明的权利要求范围内和在权利要求的等同意义范围内做出的各种修改均被认为是在本发明的范围内。

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