技术特征：
技术总结
本发明涉及使用等离子体和蒸气处理的组合对AL2O3进行原子层蚀刻。一种用于在衬底上执行原子层蚀刻(ALE)的方法，其包括以下方法操作：在衬底的表面上执行表面改性操作，所述表面改性操作配置为将所述衬底表面的至少一个单层转化为改性层；在衬底表面上执行去除操作，所述去除操作被配置为从所述衬底表面去除所述改性层，其中去除所述改性层通过被配置为使所述改性层挥发的配体交换反应来进行；在所述去除操作之后，在所述衬底表面上执行等离子体处理，所述等离子体处理被配置为从所述衬底表面去除通过所述去除操作产生的残留物，其中所述残留物通过所述等离子体处理而挥发；重复前述操作，直到已经从所述衬底表面蚀刻掉预定厚度。
技术研发人员：安德列亚斯·费希尔;索斯藤·利尔;理查德·雅内克;约翰·博尼法斯
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2017.03.01
技术公布日：2017.09.08