本发明涉及半导体技术领域,尤其是一种防碰撞硅片及其制备方法。
背景技术:
地壳中含量达25.8%的硅元素,为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉,由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一,对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言,储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一。现有硅片结构固定,功能单一,厚度较薄,在运输过程中难免会碰上边角,影响使用,降低使用寿命,再加上制备过程比较繁琐,满足不了日益增长的使用需求。
技术实现要素:
为了克服现有的硅片边缘易碰伤和制备麻烦的不足,本发明提供了一种防碰撞硅片及其制备方法,通过在硅片主体外沿增设防护圈来解决问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种防碰撞硅片,包括硅片主体,硅片主体为圆盘状,硅片主体外沿粘结有加强边,加强边材料为尼龙,加强边宽度为0.2cm。
进一步的,包括以下制备步骤:
第一步:将硅料加入高温熔炉中进行加热制取多晶硅;
第二步:将多晶硅放置在掺杂铂的溶液中制取掺杂铂的多晶硅;
第三步:对掺杂铂的多晶硅进行切割并利用双氧水进行清洗;
第四步:将清洗干净的多晶硅添加固化剂和还原剂完成制备。
本发明的有益效果是,结构简单,操作方便,工作稳定可靠,通过尼龙加强边增加硅片边缘强度,且通过上述制备方法可以提高多晶硅片的转换效率,保证产品合格率,同时降低生产成本。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图;
图中1.硅片主体,2.加强边。
具体实施方式
如图1是本发明的结构示意图,一种防碰撞硅片及其制备方法,包括硅片主体1,硅片主体1为圆盘状,硅片主体1外沿粘结有加强边2,加强边2材料为尼龙,加强边2宽度为0.2cm。
制备时,将硅料加入高温熔炉中,在无尘环境下加热至1300℃,保持炉底的硅料不熔化,使留在炉底的硅料晶体能更好的的引导长晶和控制晶粒要求,从而减少位错和缺陷,提高了产品纯度,进行加热制取多晶硅;将多晶硅放置在掺杂铂的溶液中制取掺杂铂的多晶硅;对掺杂铂的多晶硅进行切割并利用双氧水进行清洗;将清洗干净的多晶硅添加固化剂和还原剂完成制备,向清洗后的多晶硅中添加高还原性的添加剂和固化剂,并在700℃的温度下处理15分钟。
以上说明对本发明而言只是说明性的,而非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离所附权利要求所限定的精神和范围的情况下,可做出许多修改、变化或等效,但都将落入本发明的保护范围内。