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面阵电荷耦合器件封装用陶瓷外壳及其制作方法与流程
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来源:国知局
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面阵电荷耦合器件封装用陶瓷外壳及其制作方法与流程
技术特征:
技术总结
本发明公开了一种面阵电荷耦合器件封装用陶瓷外壳及其制作方法,涉及陶瓷封装外壳技术领域。本发明包括陶瓷件和针引线,所述陶瓷件正面的芯片安装区、封口面均采用磨抛方式进行加工,磨抛后陶瓷件的封口面、芯片安装区的平面度均≤1μm/mm或50μm。采用该方法制作的陶瓷外壳,平面度高、气密性高,能够解决平面度低的问题。
技术研发人员:
张倩;彭博
受保护的技术使用者:
中国电子科技集团公司第十三研究所
技术研发日:
2017.05.27
技术公布日:
2017.09.29
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