等离子体系统以及使用其制造半导体器件的方法与流程

技术特征：

技术总结
一种等离子体系统包括电极和向电极提供射频(RF)功率以在电极上产生等离子体的射频(RF)功率供应单元。RF功率被提供为脉冲，该脉冲在脉冲的脉冲导通间隔期间具有谷形部分。谷形部分由谷角度和谷宽度限定。通过控制谷角度和谷宽度，等离子体可以控制基板的蚀刻。

技术研发人员：孙敏圭;成德镛;沈承辅;郑载园;韩丙勋
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2017.12.28
技术公布日：2018.07.06